本文所述的实现提供一种腔室盖组件。在一个实施例中，腔室盖组件包含嵌入在形成处理腔室的边界的介电主体中的加热器，其中所述加热器具有被独立地控制的一个或更多个加热区。

本文描述了用于向反应腔室供应蒸发反应物的设备的实施方案。在一些实施方式中，用于在基板上沉积多种材料的喷淋头组件包括多个气体输送部，每个气体输送部具有入口、界定气室的楔形体以及设置在气体输送部底表面上的多个开口，其中每个气室彼此流体地隔离。

用于移除氮化物的示例性方法可包括使含氟前驱物流动到半导体处理腔室的远程等离子体区域中。方法可进一步包括在远程等离子体区域内形成等离子体以产生含氟前驱物的等离子体流出物以及使等离子体流出物流动到容纳基板的半导体处理器腔室的处理区域中。基板...

本公开的实施例总体上涉及用于图案化应用的高透明、高密度的碳膜的沉积。在一个实施例中，提供一种在基板上形成碳膜的方法。所述方法包括：使含碳氢化合物的气体混合物流入工艺腔室中，所述工艺腔室具有定位在静电吸盘上的基板，其中将基板保持在约‑10...

本公开内容的实施方式一般涉及可扩展的基板检查系统。所述检查系统包括适于检查、检测或者测量基板的一种或多种特征(包括厚度、电阻率、锯痕、几何形状、污点、碎片、微裂纹以及晶体片段)的多个计量单元。检查系统可用于在处理基板之前辨识基板上的缺陷...

描述了包括多个站开口的多站处理腔室盖。站分离净化通道围绕站开口。多个成角度的净化通道将站开口与相邻的站开口分离。盖支撑梁可以补偿腔室盖主体的挠曲。以补偿腔室盖主体的挠曲。以补偿腔室盖主体的挠曲。

本文中讨论了用于工艺腔室的系统和方法，所述系统和方法降低了由于松动的积垢而导致的基板缺陷的严重性和发生。气体分配组件设置在工艺腔室中，并包括面板和第二构件，面板具有穿过面板形成的多个孔。面板耦接至第二构件，第二构件被配置成耦接至面板以减...

本文提供了使用整形脉冲偏压产生任意形状的离子能量分布函数的系统和方法。在一实施例中，一种方法包括以下步骤：向工艺腔室的电极施加正跳变电压以中和晶片表面；向电极施加负跳变电压以设定晶片电压；和调制晶片电压的幅度以产生预定数量的脉冲以确定离...

本文描述的实施例涉及用于晶片清洁工艺的旋转接头。旋转接头包括工艺介质和支撑介质，工艺介质与支撑介质在喷嘴与旋转元件之间的间隙中相互作用。通过调节支撑介质的压力，在间隙内创建非接触式密封。非接触式密封防止或控制在旋转接头内的工艺介质的泄漏...

本文描述的实施方式涉及氧清洁腔室和原子氧清洁基板的方法。氧清洁腔室和原子氧清洁基板的方法提供原位产生原子氧以氧化基板表面上的材料。原子氧清洁腔室包括腔室主体、腔室盖、由腔室主体和腔室盖界定的处理容积、包括一个或多个UV辐射源的UV辐射产...

提供一种用于将化学前驱物直接液体注射(DLI)到处理腔室中的方法和设备。DLI系统包括液体前驱物源汽化系统，所述系统稳定并且有效地使液体汽化。在一个实施方式中，DLI系统是闭环集成系统，所述闭环集成系统将注射阀(IV)连同液体流量计(L...

描述了一种预处理用于测量沉积速率的振荡晶体(110)的方法。该方法包括对振荡晶体的测量表面(115)进行极化。具体来说，该方法包括用含氧等离子体预处理振荡晶体的测量表面，其中预处理在10℃≤T≤80℃的温度下进行1min≤t≤5min的...

一种用以沉积材料的沉积设备(100)包括处理腔室(110)，处理腔室具有凸缘(120)。沉积设备(100)包括阴极驱动单元(130)。阴极驱动单元(130)耦接于凸缘(120)。阴极驱动单元(130)包括支撑构件(150)。阴极驱动单元...

描述切割半导体晶片的方法，各晶片具有多个集成电路。在实例中，切割具有多个集成电路的半导体晶片的方法包含于半导体晶片上方形成掩模，所述掩模包括覆盖并保护集成电路的层。以激光刻划工艺图案化掩模，以提供具有间隙的经图案化的掩模，从而暴露介于集...

描述了一种用于制造压印光刻的印模的方法。所述方法包括用层系统(13)涂布母板(10)，所述层系统(13)包括第一层(30)和第二层(21)，所述第二层(21)位于所述第一层(30)的顶上，所述母板(10)提供压印结构(31)的模板。所述...

本发明的实施方式提供了一种用于使用RF偏压脉冲以及远程等离子体源沉积来沉积介电材料的设备和方法，以用于制造半导体装置，特别是用于在半导体应用中填充具有高深宽比的开口。在一个实施方式中，一种沉积介电材料的方法包括：将气体混合物提供到处理腔...

提供了具有输送通道的气体分配装置，该输送通道具有入口端、出口端、及沿着长度隔开的多个孔。该输送通道被分隔物分成多个分区。该多个分区中的每一者均具有入口及出口。多个分区中的每一者均具有入口及出口。多个分区中的每一者均具有入口及出口。

提供了隔板、诸如电池和电容器的包括前述隔板的高性能电化学装置及用于制造所述隔板的系统和方法。在至少一个方面中，提供了一种隔板。所述隔板包括聚合物基板，所述聚合物基板能够传导离子，具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。所述隔板进一步...

提供了制造在抛光工艺中使用的抛光制品的方法及配方。在一个实现方式中，提供一种UV可固化树脂前驱物组合物。UV可固化树脂前驱物包含前驱物配方。前驱物配方包含第一树脂前驱物成分，该第一树脂前驱物成分包含半结晶辐射可固化寡聚材料，其中半结晶辐...

本公开内容文描述的实施方式涉及一种软件应用平台，该软件应用平台增强基板上的图像图案分辨率。该应用平台方法包括：运行算法以提供用于在目标上形成图案的不同目标多边形。确定可由DMD形成的最小特征尺寸。针对小于最小特征尺寸的每个目标多边形，确...