本文所公开的是一种用于自动替换坩锅的蒸发源及一种具有所述蒸发源的蒸发沉积系统，其中所述蒸发源是用于在真空腔室中将蒸气沉积材料供应于基板的蒸发源，包括：分配管，被配置为通过喷嘴喷出蒸气沉积材料；蒸发坩锅，被配置为连接于分配管且容置沉积材料...

构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据...

此处提供用于处理基板的方法及装置。在一些实施方式中，用于控制处理腔室中气体流动的遮板包含：封闭壁体，该封闭壁体具有上端及下端，该封闭壁体在该下端处界定该遮板的第一开口且在该上端处界定该遮板的第二开口，其中该第二开口从该第一开口偏移；及顶...

本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板...

本案描述存储器元件及形成存储器元件的方法。存储器元件包括具有至少一个膜堆叠的基板。膜堆叠包括在基板上的多晶硅层；在多晶硅层上的位线金属层；在位线金属层上的覆盖层；及在覆盖层上的硬遮罩。一些实施例的存储器元件包括在多晶硅层上的可选阻障金属...

兹描述通过将基板表面暴露于卤化物前驱物和铝反应物来沉积金属碳化物膜的方法。卤化物前驱物包含通式(I)MX

公开了一种操作多小束带电粒子装置的方法。在所述方法中，平移附接到台的靶，并且重复选择小束、初始化小束和使靶曝光的每个步骤。选择小束的步骤包括使可重新配置的多个所选择的小束通过消隐电路。初始化小束的步骤包括使所选择的小束中的每一个指向在初...

在本发明的实施方式中公开了一种基板处理装置，在所述基板处理装置中用于对准基板和掩模的对准组件的一个表面与真空腔室的本体一体地形成。因此，提供了一种对准组件，所述对准组件包括与用于形成真空腔室的外表面的本体一体地形成的板，与传统组件相比，...

示例性的支撑组件可包括限定基板支撑表面的顶部圆盘，其中顶部圆盘还由高度来表征。组件可包括杆，所述杆在顶部圆盘的与基板支撑表面相对的第二表面上与顶部圆盘耦接。组件可包括RF电极，所述RF电极嵌入在顶部圆盘内靠近基板支撑表面的位置。组件可包...

本文描述的实施例涉及制造具有最小化的面内失真(IPD)和平板印刷覆盖误差的氧化物/氮化物(ON)层堆叠。形成层堆叠ON层的方法包括使第一含硅气体、含氧气体和第一稀释气体流动。对称地施加RF功率以形成SiO2的第一材料层。使第二含硅气体、...

描述了用于在真空腔室中的基板上沉积材料的材料沉积设备。所述材料沉积设备包括：掩模台，所述掩模台被配置为支撑具有掩模框架和掩模的掩模组件；基板传输轨道，所述基板传输轨道的至少一部分提供于真空腔室中，所述基板传输轨道被配置为支撑基板载体；保...

一种化学机械抛光系统包括：压板，用以支撑抛光垫；承载头，用以保持基板并且使基板的下表面与抛光垫接触；和原位摩擦监测系统，包括摩擦传感器。摩擦传感器包括：垫部分，所述垫部分具有基板接触部分，基板接触部分具有与基板的下表面接触的上表面；和一...

一种与处理工具集成的反射仪或椭偏仪，包括：源模块，所述源模块经配置以产生输入束；和第一镜，所述第一镜布置为接收输入束。第一镜经配置以使输入束准直和将输入束导向孔板。孔板具有至少两个孔。至少两个孔中的一个布置为从输入束的一部分限定测量束，...

一种极紫外线掩模及制造该极紫外线掩模的方法，包括：提供玻璃陶瓷块体；从该玻璃陶瓷块体形成玻璃陶瓷基板；及沉积平坦层于该玻璃陶瓷基板上。

电镀密封件检查系统可包括一模块，经构造以支撑用于检查的一密封件。此模块可包括一组支撑件，经定位以接触密封件的一内边。此模块可经构造以绕着一中心轴旋转密封件。此系统也可包括位于此模块上的一检测器。检测器可经定位以扫描密封件的一外表面。

本公开内容的实施方式关于用于制造在存储器装置中使用的结构的方法。更具体地，本公开内容的实施方式关于用于在存储器装置中制造MTJ结构的方法。在一个实施方式中，方法包括以下步骤：形成MTJ结构；在MTJ结构的顶部和侧部上沉积封装层；在封装层...

沉积膜的方法包括在基板表面的特征中以自下而上方式沉积含铝间隙填充膜。基板可连续暴露于含铝前驱物、反应物、氟化剂和蚀刻剂任意次数，以促进特征中膜的自下而上生长。

描述了半导体处理系统，所述半导体处理系统可以包括具有基板支撑表面的基板支撑组件。示例性的基板支撑组件可包括限定基板支撑表面的陶瓷加热器。组件可包括接地板，陶瓷加热器安置在接地板上。组件可包括与接地板耦接的杆。组件可包括电极，电极嵌入在陶...

一种用于在真空腔室中非接触地保持及移动载体的磁悬浮系统，包括底座，界定传送轨道；载体，沿着传送轨道在底座的上方是可移动的；以及至少一个磁性轴承，用于在底座及载体之间产生磁悬浮力。所述至少一个磁性轴承包括布置于底座的第一磁体单元及布置于载...

描述了提供一种用于排队式基板处理系统的掩模处理模块、一种用于基板的排队式处理的真空处理系统、及一种用于掩模传送的方法。此掩模处理模块包括真空旋转腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之间的此排队式基板处理系统内；旋转机构，位于此真空旋转...