用于外延反应器的石英圆顶的净化的视口制造技术

本文描述的实施方式大致上关于原位计量系统，该原位计量系统能够持续提供到达设置于处理腔室内的基板的不中断的光学途径。在一个实施方式中，提供一种用于基板处理腔室的计量系统。该计量系统包括：传感器观察管件，耦接至基板处理腔室的石英圆顶；凸缘，从该传感器观察管件的外表面径向延伸；以及视口窗，设置在该凸缘上，该视口窗具有针对光学传感器选择的多个光谱范围，该光学传感器设置在该视口窗上或邻近该视口窗。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于外延反应器的石英圆顶的净化的视口
本文揭示的实施方式大致上关于半导体制造设备的领域，并且更特定而言，关于用于热处理腔室的原位计量系统。
技术介绍
半导体处理设备用于薄膜及涂层的沉积、图案化和处理中。常规的基板处理腔室提供基座或一些等同的方式支撑基板以供处理。高温工艺经常使用石英圆顶(dome)和外部灯，以将基板的温度快速升高至处理温度。确定温度/发射率的传统方法涉及高温计透过顶部石英圆顶瞄准基板。已观察到，由于来自处理腔室内的工艺的大量寄生沉积，顶部石英圆顶可能变得浑浊，这可能引发高温计部分地或甚至完全地失去光学途径(access)。结果，使得测量打折。因此，在本技术中需要提供一种设备，该设备能够针对原位计量系统持续地提供清晰的光学途径。
技术实现思路
本文描述的实施方式大致上关于原位计量系统，该原位计量系统能够持续提供到达设置于处理腔室内的基板的不中断的光学途径。在一个实施方式中，提供一种用于基板处理腔室的计量系统。该计量系统包括：传感器观察管件(sensorviewpipe)，耦接至基板处理腔室的石英圆顶；凸本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种计量系统，包括：/n传感器观察管件，耦接至基板处理腔室的石英圆顶；/n凸缘，从所述传感器观察管件的外表面径向延伸；以及/n视口窗，设置在所述凸缘上，所述视口窗具有针对光学传感器选择的多个光谱范围，所述光学传感器设置在所述视口窗上或邻近所述视口窗。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181001 US 62/739,6151.一种计量系统，包括：
传感器观察管件，耦接至基板处理腔室的石英圆顶；
凸缘，从所述传感器观察管件的外表面径向延伸；以及
视口窗，设置在所述凸缘上，所述视口窗具有针对光学传感器选择的多个光谱范围，所述光学传感器设置在所述视口窗上或邻近所述视口窗。


2.如权利要求1所述的计量系统，其中所述传感器观察管件具有第一端，所述第一端耦接至穿过所述石英圆顶形成的开口。


3.如权利要求1所述的计量系统，其中所述凸缘与所述视口窗通过夹具固定，且所述夹具包括两个半圆环，所述半圆环能够铰接在一起。


4.如权利要求1所述的计量系统，其中所述凸缘的纵轴相对于所述传感器观察管件的纵轴呈约91度至约100度的角度。


5.如权利要求1所述的计量系统，其中所述传感器观察管件具有第一内径与第二内径，所述第二内径大于所述第一内径，且所述第二内径设置成比所述第一内径远离所述凸缘。


6.一种设备，包括：
石英腔室，在所述石英腔室中界定处理空间；
基板支撑件，设置在所述处理空间内；以及
传感器观察管件，在所述石英腔室和光学传感器之间延伸。


7.如权利要求6所述的设备，其中所述石英腔室具有一或多个开口。


8.如权利要求7所述的设备，其中所述传感器观察管件的第一端耦接至所述开口，且所述传感器观察管件的第二端耦接至凸缘。


9.如权利要求8所述的设备，其中所述凸缘具有顶表面，所述顶表面相对于所述基板支撑件的上表面以一角度定位。


10.如权利要求8所述的设备，进一步包括：
视口窗，设置在所述凸缘上，所述视口窗具有针对所述光学传感器选择的多个光谱范围，所述光学传感器设置在所述视口窗上或邻近所述视口窗。


11.如权利要求6所述的设备，进一步包括：
净化气体管，耦接至所述传感器观察管件，...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡积玓，布莱恩·H·伯罗斯，贾纳尔丹·德夫拉詹，舒伯特·S·诸，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US