辐射装置、用于在基板上沉积材料的沉积设备和用于在基板上沉积材料的方法制造方法及图纸

提供一种辐射装置(200)，包括中空主体和布置在所述中空主体(250)内的冷却装置(246)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射装置、用于在基板上沉积材料的沉积设备和用于在基板上沉积材料的方法
本专利技术的实施方式涉及薄膜处理设备，特别是涉及沉积系统，并且更特别是涉及卷对卷(roll-to-roll,R2R)沉积系统。本专利技术的实施方式特别是涉及用于在基板上沉积材料的辐射装置、设备和方法。背景在包装工业、半导体工业和其他工业中，对于柔性基板(例如是塑料膜或箔)的处理有很高需求。处理可包括利用材料(例如是金属(特别是铝)、半导体和介电材料)对柔性基板进行涂布，和针对相应的应用而在基板上进行的其他加工。执行此任务的系统通常包括处理滚筒，例如是圆柱形辊，所述处理滚筒耦接至用于输送基板的处理系统，并且在所述处理滚筒上处理所述基板的至少一部分。卷对卷涂布系统可因此提供高生产量系统。通常，可以利用蒸发工艺(例如是热蒸发工艺)来沉积金属薄层，这些金属薄层可以被金属化至柔性基板上。然而，卷对卷沉积系统在显示工业和光生伏打(PV)工业中的需求也急剧增长。举例来说，触摸面板元件、柔性显示器和柔性PV模块造成对在卷对卷涂布机中沉积合适层的需求增加。然而，这样本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.辐射装置(200)，包括：/n中空主体(250)；和/n布置在所述中空主体内的冷却装置(246)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.辐射装置(200)，包括：
中空主体(250)；和
布置在所述中空主体内的冷却装置(246)。


2.如权利要求1所述的辐射装置(200)，其中所述中空主体在长度方向中延伸。


3.如权利要求1或2所述的辐射装置(200)，其中所述冷却装置(246)包括一个或多个通道，所述一个或多个通道用于引导冷却流体通过所述一个或多个通道。


4.如权利要求3所述的辐射装置(200)，其中所述冷却流体是液体，所述液体特别地包括乙二醇，更特别地包括水与乙二醇的混合物。


5.如权利要求3或4中任一项所述的辐射装置(200)，其中所述冷却流体包括温度，所述温度在-30℃至0℃的范围内，特别是在-25℃至-5℃的范围内，更特别是在-20至-10℃的范围内。


6.如前述权利要求中任一项所述的辐射装置(200)，其中所述辐射装置是微波天线。


7.如前述权利要求中任一项所述的辐射装置(200)，进一步包括：
外管(255)，所述外管(255)围绕所述中空主体(250)，其中所述外管特别地是石英管；
内部空间(252)，在所述中空主体与所述外管(255)之间限定所述内部空间(252)；和
入口开口和出口开口，所述入口开口经配置以用于允许气体进入所述内部空间，所述出口开口经配置以用于允许所述气体从所述内部空间(252)离开。


8.一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(100)，包括：
真空腔室(102)；
用于输送所述基板的输送装置(140)；
一个或多个沉积单元(110)；和<...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔斯·曼纽尔·迭格斯坎波，法比奥·贝亚雷斯，斯特芬·布朗格，尼尔·莫里森，托比亚斯·斯托利，霍斯特·阿尔特，格哈德·施泰尼格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US