本发明是关于非线性光学晶体的钝化。本发明的一实施例包括暴露室，其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体，所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体；钝化气体源，其流体连接到所述暴露室，所述钝化气体源经配...

本发明是关于非线性光学晶体的钝化。本发明的一实施例包括暴露室，其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体，所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体；钝化气体源，其流体连接到所述暴露室，所述钝化气体源经配...

本文中呈现用于执行对聚焦误差具有经减小灵敏度的宽带光谱度量的方法及系统。通过将测量光点成像到检测器上以使得晶片表面上的与入射平面对准的方向定向成垂直于检测器表面上的波长色散方向来实现对聚焦位置误差的灵敏度的显著减小。聚焦误差灵敏度的此种...

一种用于半导体装置制作工具的缓冲系统包含：一或多个可伸缩架子；一或多个滑动组合件，其可定位于所述半导体装置制作工具的一或多个装载端口上方；及一或多个举升组合件。所述一或多个可伸缩架子经配置以支撑可密封容器。所述一或多个滑动组合件经配置以...

本发明提供：一种翻转设备；一种用于处理物品的系统，所述系统包括所述翻转设备；及一种用于处理物品的方法。物品由第一翻转臂拾取。所述第一翻转臂从拾取位置旋转到传递位置，在所述传递位置处所述物品传递到第二翻转臂，所述第二翻转臂处于接收位置中。...

本发明呈现用于以经减少的计算工作量及存储器要求来求解复杂装置结构的测量模型的方法及系统。基于经截断空间谐波级数的电磁模拟算法的计算效率针对周期性目标得以改进，所述周期性目标展现一基本空间周期及一或多个逼近周期，所述一或多个逼近周期是所述...

本发明揭示用于检测半导体样本中的缺陷的方法及设备。使用检验工具以在多个聚焦设置下从所述样本的多个xy位置中的每一者收集强度数据集合。依据聚焦设置针对所述xy位置的经收集强度数据集合中的每一者提取具有多个系数的多项式方程式。用于所述多个x...

本发明可具体实施于一种用于监视并控制例如集成电路制作过程等制造过程中的反馈控制的系统及方法中。过程控制参数可包含通过在硅晶片上操作的光刻扫描仪或步进器所施加的平移、旋转、放大、剂量及焦距。使用覆盖误差来计算所述反馈控制过程中使用的测得参...

本发明涉及用于高速图像获取的基于中介层的成像传感器及检验系统。更具体的，本发明包含：中介层，其安置于衬底的表面上；光感测阵列传感器，其安置于中介层上，光感测阵列传感器经背部薄化且经配置用于背部照明，光感测阵列传感器包含像素列；一个或多个...

本发明提供方法，所述方法通过以下操作估计计量目标的质量：计算从关于所述目标的周期性结构的周期性对经测量的核心应用傅里叶滤波器导出的其ROI核心的噪声度量；及使用所述计算得到的噪声度量指示所述目标质量。可关于所述周期性结构的垂直片段的周期...

本发明提供用于基于结构性信息来检测样本上的缺陷的系统及方法。一种系统包含一或多个计算机子系统，所述子系统经配置用于基于样本上的阵列区中的结构的特性来将由所述阵列区中的检验子系统的检测器产生的输出分离成所述输出的至少第一片段与第二片段，使...

本发明涉及一种晶片扫描系统，其包含用来减小有效光点大小的成像收集光学器件。较小光点大小使由表面散射的光子的数目与所述光点的面积成比例地减小。空气散射也减少。TDI用来基于在晶片的线运动的方向上积分的多个图像信号产生晶片图像。照明系统用光...

本申请涉及用于基于库的临界尺寸CD计量的精确和快速的神经网络训练。描述了用于基于库的临界尺寸(CD)计量的精确神经网络训练的方法。还描述了用于基于库的临界尺寸(CD)计量的快速神经网络训练的方法。

本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检...

本发明提供用于检测样品上的缺陷的方法和系统。一种系统包含经配置以存储由检验系统产生的样品的物理版本的图像的存储媒体。使用对所述样品执行的制造工艺的一或多个参数的不同值在所述样品上形成至少两个裸片。所述系统还包含若干计算机子系统，其经配置...

本发明提供一种光电倍增管PMT的具有反射光电阴极阵列的内部部分及一种用于制造所述内部部分的方法。所述PMT的所述内部部分包括所述反射光电阴极阵列及对应于所述反射光电阴极阵列的至少一个二次发射极结构。每一反射光电阴极接收光且从所述光产生光...

对样本的增强型缺陷检测包含针对第一光学模式从样本的两个或多于两个位置获取来自所述样本的两个或多于两个检验图像。所述缺陷检测还基于针对所述第一光学模式来自所述两个或多于两个位置的所述两个或多于两个检验图像而针对选定缺陷类型产生经聚合缺陷分...

本发明提供一种用于组合来自多个计量工具的原始数据的系统、方法及计算机程序产品。获得关于培训组件的至少一个参数的参考值。利用第一计量工具及不同的第二计量工具收集关于所述培训组件的所述至少一个参数的信号。此外，将所述信号的至少一部分变换为一...

本发明提供一种检验系统，其可包含反射计，所述反射计具有：光源，其用于投射光；及分光器，其用于接收由所述光源投射的所述光、变换所述光的至少一个方面，且一旦经变换即投射所述光。所述反射计进一步具有离轴的未遮蔽物镜，由所述分光器变换的所述光行...

本发明涉及晶片检查。本发明揭示一种经配置以检查晶片的系统，该系统包括照明子系统，其经配置以使由所述照明子系统将多个脉冲光束中的第一者引导到晶片上的区域在时间上早于将所述多个脉冲光束中的第二者引导到所述区域；扫描子系统，其经配置以使所述多...