本发明提供了用于识别关注图案POI的多个例项中的异常的方法和系统。一种系统包含一或多个计算机子系统，所述计算机子系统被配置用于获取由成像子系统在形成于样品上的裸片内的POI的多个例项处所产生的图像。所述多个例项包含定位在所述裸片内的非周...

本发明提供一种具有由辐射诱导的假计数缓解的检验系统，其包含：照明源，其经配置以照明样品；检测器组合件，其包括经配置以检测来自所述样品的照明的照明传感器及经配置以检测粒子辐射的一或多个辐射传感器；及控制电路，其通信地耦合到所述检测器。所述...

本发明揭示一种电压对比成像缺陷检测系统，其包含电压对比成像工具及耦合到所述电压对比成像工具的控制器。所述控制器经配置以：针对样本上的一或多个结构产生一或多个电压对比成像度量；基于所述一或多个电压对比成像度量而确定所述样本上的一或多个目标...

本发明呈现用于基于x射线衍射测量数据而执行装置结构的叠盖误差及边缘放置误差的方法及系统。基于在多个不同入射角及方位角下测量的每一x射线衍射级内的强度变化而估计计量目标的不同层之间的叠盖误差。所述对叠盖的估计涉及使共同级的强度调制参数化，...

本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候...

本发明涉及用于拾取工件的取放头及方法。更具体的，本发明揭示一种取放头，其用于从至少一个第一位置拾取多个工件并将所述多个工件放置于至少一个第二位置处。取放头展现多个吸嘴，其中每一吸嘴经配置以通过真空作用接合所述工件中的一者。至少一个吸嘴具...

一种具有运行时间对准的光点扫描成像系统包含：光束扫描装置，其经配置以使聚焦照明光束线性地扫描跨越样品；一或多个检测器，其经定位以从所述样品接收光；及控制器，其经通信地耦合到光束扫描设备、样品载台及所述一或多个检测器。所述控制器经配置以存...

本发明提供用于检测晶片上的缺陷的方法和系统。一种系统包含经配置以基于用于印刷在所述晶片上的设计的信息产生呈现图像的一或多个计算机子系统。所述呈现图像是由光学检验子系统针对印刷在所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟。所述计算机子系统也经配...

本发明揭示衬底的平面内变形的确定，其包含：测量所述衬底在未夹紧状态中的一或多个平面外变形；基于所述衬底在所述未夹紧状态中的所述所测量平面外变形确定在所述未夹紧状态中的所述衬底上的膜的有效膜应力；基于在所述未夹紧状态中的所述衬底上的所述膜...

本发明揭示一种计量性能分析系统，其包含：计量工具，其包含一或多个检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述一或多个检测器。所述控制器经配置以从所述计量工具接收与计量目标相关联的一或多个计量数据集，其中所述一或多个计量数据集包含一或多个测定...

本发明揭示一种用于固定晶片的设备，其包含具有表面的卡盘、在所述卡盘中延伸穿过所述卡盘的所述表面的多个通孔、固定真空波纹管及多个浮动空气轴承，其中所述固定真空波纹管及所述多个浮动空气轴承的相应浮动空气轴承各自个别地布置于所述多个通孔的单独...

高维变量选择单元从来自例如半导体检验工具或其它类型的半导体制造工具等半导体制造工具的传感器数据及参数工具测量值确定关键参数列表。举例来说，高维变量选择模型可为弹性网、前向逐阶段回归或最小角回归。所述关键参数列表可用于设计下一代半导体制造...

本文中提出用于建置并使用参数隔离模型以使与所关注参数相关联的测量信号信息和与偶发模型参数相关联的测量信号信息隔离的方法及系统。通过以下步骤训练所述参数隔离模型：将与度量目标的例子的第一集合相关联的测量信号映射到与所述度量目标的例子的第二...

本发明揭示一种具有改进的图像束稳定性的扫描电子显微镜系统。所述系统包含经配置以产生电子束的电子束源及将所述电子束的至少一部分引导到样本的部分上的一组电光元件。所述系统包含发射率分析器组合件。所述系统包含经配置以将由所述样本的表面发射的至...

本发明提供用于在半导体工艺中进行缺陷分类的系统及方法。所述系统包含：通信线路，其经配置以从所述半导体工艺接收晶片的缺陷图像；及深度架构神经网络，其与所述通信线路进行电子通信。所述神经网络具有第一卷积神经元层，所述第一卷积神经元层经配置以...

本发明提供一种用于对物体进行形状分类的方法。提供形状类别，所述形状类别相对于所述物体指定平面及所述平面中的点，且还针对每一此种点指定至少一个极限坐标，所述极限坐标在垂直于所述平面的方向上针对所述所考虑的物体的形状界定边界以便使所述物体被...

本发明提供用于使用自适应滋扰过滤器产生针对样本的检验结果的方法及系统。一种方法包含选择在样本的检验期间检测到的事件的部分，所述检测到的事件的部分具有用于所述事件的至少一个特征的值，所述值比所述事件的另一部分的至少一个特征的值更接近所述滋...

本发明揭示用于将从目标衬底反射的红外到真空紫外VUV光反射朝向传感器的方法及设备。所述系统包含：第一镜，其经布置以接收且反射从所述目标衬底反射的所述红外到VUV光；及第二镜，其经布置以接收且反射由所述第一镜反射的红外到VUV光。所述第一...

本发明提供用于使用缺陷特定的信息检测晶片上的缺陷的方法及系统。一种方法包含获取晶片上的目标的信息。所述目标包含形成在所述晶片上的关注图案及接近所述关注图案或在所述关注图案中发生的已知DOI。所述信息包含所述晶片上的所述目标的图像。所述方...

本发明揭示一种具有高质量、稳定输出光束及长寿命高转换效率的非线性晶体的激光器。具体的，本发明揭示一种可以低温操作的锁模激光器系统，其可包含退火频率转换晶体及用以在所述低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况的外壳。在一个实施例中，所述晶体...