本发明揭示一种扫描式电子显微系统。所述系统包含多波束扫描式电子显微SEM子系统。所述SEM子系统包含：多波束电子源，其经配置以形成多个电子束；样品载物台，其经配置以固定样品；电子光学组合件，其将所述电子束引导到所述样品的部分上；及检测器...

本发明提供计量测量方法及工具，其由固定的照明源照明固定的衍射目标；测量由零阶衍射信号及一阶衍射信号的总和组成的信号；维持所述衍射目标及所述照明源固定的同时，针对所述零与所述第一衍射信号之间的多个关系重复所述测量；及从所述测量总和导出所述...

本发明实施例涉及一种宽带及宽视角补偿器。本发明提出可旋转补偿器，其经配置而以跨越孔径的高度推迟均匀性透射包含紫外线的在宽广波长范围内的非准直光。在一个实施例中，可旋转补偿器包含光学接触的四个个别板的堆叠。在所述堆叠中间的两个薄板由双折射...

本发明揭示一种光刻掩模。所述光刻掩模包含至少一个不对称经分段图案元素。特定不对称经分段图案元素包含至少两个分段，其中连续分段之间的分离距离比用于在样本上产生所述特定不对称经分段图案元素的图像的一组投射光学器件的分辨率小，使得所述特定不对...

一种用于控制蚀刻工艺的系统包含蚀刻工具、计量工具及控制器。所述蚀刻工具可经由一组控制参数控制且可执行含有所述组控制参数的多个蚀刻配方。所述控制器可引导所述蚀刻工具对多个计量目标执行多个蚀刻配方；引导所述计量工具产生指示关于所述多个计量目...

利用成像系统检验光罩，以获得在所述光罩上的结构的经测量图像，且所述结构具有未知临界尺寸CD。使用模型、使用描述用于在所述光罩上形成所述结构的图案的设计数据库来产生经计算图像。所述模型基于以下项产生所述经计算图像：所述结构的光罩材料的光学...

本发明提供用于确定将对样本执行的过程的参数的方法及系统。一种系统包含经配置用于确定在样本上检测到的缺陷的区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于将所述缺陷的所述区域与所述样本的设计的信息相互关联且基于所述相互关联的结果确...

本发明提供焦点计量方法和模块，其使用基于空中图像的变换以共享自多个目标导出的测量信息和/或设计针对指定兼容目标的额外目标，此实现依据改变的生产条件简单调整焦点目标。方法包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中；进行目标的焦点测量...

本文提出用于将存在于半导体晶片的所测量图像中的信息与所述所测量图像内的特定结构的额外测量进行组合的方法及系统。在一个方面中，基于所测量图像及每一图像内的特定结构的对应参考测量来训练以图像为基础的信号响应计量SRM模型。接着，使用所述经训...

本发明揭示了一种用于识别例如SEM非视觉缺陷SNV等的非视觉缺陷的技术，所述技术包含：产生晶片的层的图像；使用分类器来评估所述图像的至少一个属性；及识别所述晶片的所述层上的所述非视觉缺陷。控制器可经配置以使用所述分类器来识别所述非视觉缺...

本发明实施例涉及使用193nm激光器的固态激光器及检验系统。本发明揭示改进的激光器系统及相关联技术，其由接近1064nm的基谐波真空波长产生大约193.368nm的紫外线UV波长。优选实施例分离出至少一级的输入波长的未消耗部分且重新定向...

本发明实施例涉及使用193nm激光器的固态激光器及检验系统。本发明揭示改进的激光器系统及相关联技术，其由接近1064nm的基谐波真空波长产生大约193.368nm的紫外线UV波长。优选实施例分离出至少一级的输入波长的未消耗部分且重新定向...

本发明揭示用于检测半导体样本上的缺陷的装置及方法。系统包含：照明模块，其用于将非零阶高斯照明光束引导朝向样本上的多个位置；及收集模块，其用于检测响应于所述非零阶高斯照明光束而从所述样本散射的光，且针对所述样本上的每一位置产生多个输出图像...

本发明揭示用于鉴定光刻光罩合格性的方法及设备。使用光罩检验工具在不同成像配置处从校准光罩的图案区域中的每一者获取图像。基于从所述校准光罩的每一图案区域获取的图像恢复所述校准光罩的图案区域中的每一者的光罩近场。基于所述光罩近场使用所述校准...

本发明揭示一种光刻系统，其包含照明源及一组投影光学器件。所述照明源将照明光束从离轴照明极点引导到图案掩模。所述图案掩模包含一组图案元件，所述组图案元件产生包含来自所述照明极点的照明的一组衍射光束。由所述组投影光学器件接收的所述组衍射光束...

本发明涉及一种检验系统及方法，其中在由图像传感器捕获的模拟图像数据值(电荷)被传输作为图像传感器的输出感测节点(浮动扩散区)上的输出信号之前或之时，分选(组合)模拟图像数据值(电荷)，且其中ADC经控制以在输出感测节点的每一复位之间循序...

本发明涉及缺陷分类，其包含：获取样本的一或多个图像；接收基于一或多个训练缺陷的一或多个属性对所述一或多个训练缺陷的手动分类；基于所述经接收的手动分类和所述一或多个训练缺陷的所述属性产生整体学习分类器；基于经接收的分类纯度要求产生所述一或...

一种系统包含非线性晶体，所述非线性晶体经定位使得激光光束的焦点在所述非线性晶体外部处于垂直于所述激光光束的光束传播方向的至少一个平面中。所述非线性晶体安置于晶体座组合件中。可将激光光束引导于所述非线性晶体处以进行波长转换。所述系统可用作...

本发明提供用于确定在多重图案化步骤工艺中印刷于晶片上的设计的不同图案化特征之间的叠加误差的方法及系统。对于多重图案化步骤设计，使用第一图案化步骤的所述设计作为参考且使剩余图案化步骤中的每一者的设计合成偏移，直到所述合成偏移的设计基于全局...

本发明揭示一种用于至少对半导体装置的侧表面进行检验的设备、方法及计算机程序产品。提供框架构造，所述框架构造保持界定成像光束路径的相机。所述半导体装置经插入到镜块中。所述镜块具有第一镜、第二镜、第三镜及第四镜，其中所述镜经布置使得其以矩形...