本发明提供计量叠加目标以及监测工艺缺点的方法。目标包括周期性结构，所述周期性结构中的至少一者包括沿着所述周期性结构的对应分段方向的重复不对称元件。举例来说，可以不同方式将所述元件的不对称性设计为沿着垂直于所述元件的所述分段方向的方向重复...

本公开涉及一种检测及校正疑难的先进过程控制参数的方法及系统。本发明可具体实施于一种用于监视并控制例如集成电路制作过程等制造过程中的反馈控制的系统及方法中。过程控制参数可包含通过在硅晶片上操作的光刻扫描仪或步进器所施加的平移、旋转、放大、...

本文中呈现用于在紫外线波长、可见波长及红外线波长下执行对半导体结构的同时光谱测量的方法及系统。在另一方面中，通过将检测器表面上的波长色散方向定向成垂直于到所述检测器表面上的入射平面的投影而减小波长误差。在另一方面中，通过包含具有不同敏感...

本发明提供用于为样品产生模拟输出的方法及系统。一种方法包含使用一或多个计算机系统获取针对样品的信息。所述信息包含所述样品的实际光学图像、所述样品的实际电子束图像及针对所述样品的设计数据中的至少一者。所述方法还包含将针对所述样品的所述信息...

可基于背景码来确定经检测缺陷的关键性。可针对其每一者可为裸片的部分的区来产生所述背景码。可使用噪声电平来将背景码分组。可使用所述背景码对存在于裸片上的一系列设计背景进行自动分类而无需特定先验信息。

本发明提供用于检测样品的图像的异常的方法及系统。一种系统包含经配置以获取由成像子系统产生的样品的图像的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置以确定所述获取图像的一或多个特性。另外，所述计算机子系统经配置以在无需将缺陷检测算法应用...

本发明针对于一种装置，所述装置具有：喷嘴，其用于施配液体目标材料；一或多个中间室，每一中间室经定位以接收目标材料且形成有出口孔隙以输出目标材料以供在激光生成等离子体LPP室中进行下游辐照。在一些所揭示实施例中，包含控制系统以用于控制装置...

本发明揭示一种电子束设备，其通过使热量均匀扩散于孔径光阑上来解决由高功率热量消散到孔径光阑上所导致的消隐问题。所述设备可包含孔径光阑及使电子束偏转到所述孔径光阑上的偏转器。电子束以围绕孔径的图案导引到所述孔径光阑处。所述图案可为圆形、正...

本发明提供一种检查系统，其包含照明子系统、收集子系统及控制器。所述照明子系统包含：照明源，其经配置以产生照明光束；及一组照明光学装置，其用来将所述照明光束引导到样品。所述收集子系统包含：一组收集光学装置，其用来收集从所述样品发射的照明；...

本发明提供用于检测晶片上的缺陷的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统，其经配置以基于用于印刷于所述晶片上的设计的信息而产生呈现图像。所述呈现图像是由光学检查子系统针对印刷于所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟。产生所述呈现图像包...

形状基元用于半导体晶片或其它工件的检验。所述形状基元能够界定设计的局部拓朴及几何性质。一或多个规则应用到所述形状基元。所述规则能够指示缺陷的存在或缺陷存在的可能性。规则执行引擎能够搜索由所述至少一个规则涵盖的所述形状基元的出现。

本发明提供混合检验器。一种系统包含计算机子系统，其经配置以接收针对样品产生的基于光学的输出及基于电子束的输出。所述计算机子系统包含一或多个虚拟系统，其经配置以使用针对所述样品产生的所述基于光学的输出及所述基于电子束的输出的至少一些执行一...

一种用于检验或复检样本的边缘部分的电子光学系统包含：电子束源，其经配置以产生一或多个电子束；样本载台，其经配置以固定所述样本；及电子光学柱，其包含经配置以将所述一或多个电子束的至少一部分引导到所述样本的边缘部分上的一组电子光学元件。所述...

本文描述用于使用透射小角度x光散射T‑SAXS技术特性化高高宽比垂直制造装置的尺寸及材料性质的方法及系统。示范性结构包含自旋转移力矩随机存取存储器STT‑RAM、垂直NAND存储器V‑NAND、动态随机存取存储器DRAM、三维快闪存储器...

本发明揭示适应性对准方法及系统。一种适应性对准系统可包含经配置以对准晶片的扫描器及与所述扫描器通信的分析器。所述分析器可经配置以：辨识至少一个界定分析区域；确定所述分析区域内是否存在任何扰动；及响应于确定至少一个扰动在所述分析区域内而调...

一种激光维持等离子体灯包含经配置以容置一定体积的气体的气体容置结构。所述气体容置结构经配置以从用于在所述体积的气体内产生等离子体的泵激光器接收泵照明。所述气体容置结构包含一或多个透射结构，所述一或多个透射结构对来自所述泵激光器的所述泵照...

通过直方图按比例调整来调整测试图像及参考图像的灰度级直方图。将来自所述直方图按比例调整的参数应用于所述测试图像及所述参考图像。在应用所述参数之后，比较所述参考图像与所述测试图像以例如通过从所述测试图像减去所述参考图像而产生差异图像。可降...

本发明提供计量学散射测量目标、光学系统及对应计量学工具及测量方法。目标及/或光学系统经设计以通过在对所述散射测量目标的照明后旋即建立零级衍射信号之间的180°相移而相对于来自所述散射测量目标的所述零级衍射信号增强第一级衍射信号。例如，所...

本发明揭示一种照明泵源。所述照明泵源包含一组电源，其经配置以产生一组激光束，其中所述组激光束的至少部分经配置以包含具有不同波长的照明。所述照明泵源还包含光纤。所述照明泵源还包含一或多个光学元件，所述一或多个光学元件经配置以使来自所述激光...

本发明提供用于使用自适应自动缺陷分类器来分类在样品上检测到的缺陷的方法及系统。一个方法包含基于从用户接收的用于第一批结果中的不同群组的缺陷的分类及包含在所述第一批结果中的全部所述缺陷的一组训练缺陷来产生缺陷分类器。所述第一批结果及额外批...