本发明可包含：可调制照射源，其经配置以照射安置于样本载台上的样本的表面；检测器，其经配置以检测从所述样本的表面发出的照射；照射光学器件，其经配置以将来自所述可调制照射源的照射引导到所述样本的所述表面；收集光学器件，其经配置以将来自所述样...

本发明针对于设计及使用具有正交底层虚拟填充的叠盖目标。根据各种实施例，叠盖目标可包含形成至少一个叠盖目标结构的一个或一个以上经分段叠盖图案元素。所述叠盖目标可进一步包含形成至少一个虚拟填充目标结构的一个或一个以上非作用图案元素。所述一个...

本发明揭示一种可以低温操作的锁模激光器系统，其可包含退火频率转换晶体及用以在所述低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况的外壳。在一个实施例中，所述晶体可具有增加的长度。第一光束塑形光学器件可经配置以将来自光源的光束聚焦到位于所述晶体中或...

本发明涉及用于检验发光半导体装置的方法和设备。所述半导体装置用光源照射，其中所述发光半导体的至少一区域用一个波段的光照射。所述波段的光λA+λB可在待检验的所述发光半导体中产生电子-空穴对。通过物镜检测所述发光半导体发射的光λC的至少一...

本发明揭示一种利用净化气体净化晶片的表面的一部分的局部净化工具。所述净化工具包含：净化室，其经配置以将净化气体封围于所述净化室的腔内；所述净化室的表面的可透气部分，所述可透气部分经配置以使净化气体从所述室的所述腔扩散到晶片的表面的一部分...

本发明涉及一种用于带电粒子聚焦的永久磁性透镜阵列，其包含第一软磁性材料薄片，其中所述第一软磁性材料薄片包含布置成阵列图案的多个通气管锥体突出部，其中每一通气管锥体轴向对称且包含从所述第一软磁性材料薄片的第一表面通到软磁性材料的第二表面的...

一种背景减少系统可包含但不限于：带电粒子源，其经配置以产生带电粒子束；百叶窗结构，其包含一个或一个以上孔口，所述一个或一个以上孔口经配置以根据带电粒子的入射角而选择性地透射所述带电粒子；及带电粒子检测器，其经配置以接收由所述百叶窗结构选...

本发明揭示一种经配置以检查晶片的系统。

所揭示的一个实施例涉及一种设备，其包含电磁体，所述电磁体经布置以在区中提供大规模磁场。所述设备进一步包含使用穿过磁性材料的孔阵列在所述区中形成的多个电子束柱的阵列。另一实施例涉及一种产生电子束阵列的方法。使用至少两个磁极在区中产生大规模...

本发明涉及一种用于测量光学辐射的特性的传感器设备，所述传感器设备具有衬底及位于所述衬底内在一个或一个以上空间上分离的位置处的低轮廓光谱选择性检测系统。所述光谱选择性检测系统包含以光学方式耦合到对应光学检测器阵列的大体层状波长选择器阵列。...

一种用于在衬底上进行多波长、多方位、多入射角读取的光谱仪器，所述仪器具有：宽带光源，其用于产生照射光束；物镜，其用于同时以多个方位角及多个入射角将所述照射引导到所述衬底上，借此产生反射光束；孔口板，其具有形成于其中的照射孔口及多个收集孔...

一种热屏蔽模块包括由高热材料制成的顶部部分及底部部分。所述顶部部分与所述底部部分彼此附接且形成具有开口的壳体，所述开口经定大小以接纳电子组件封装，其中组件与所述顶部部分及所述底部部分之间无介入隔热材料。一个或一个以上支腿安装到所述顶部部...

本发明可包含：从跨越一批晶片中的一晶片的一个或一个以上场分布的多个度量衡目标获取多个重叠度量衡测量信号；使用多个重叠算法确定所述多个重叠度量衡测量信号中的每一者的多个重叠估计；产生多个重叠估计分布；及利用所述所产生的多个重叠估计分布产生...

本发明提供用于使用重复结构的基于设计的检验的系统及方法。

一种晶片检查系统包含激光器液滴等离子体LDP光源，所述激光器液滴等离子体光源以充分的辐射率产生光以使得能够以低至40纳米的波长进行明亮场检查。由所述LDP源产生的光被引导到所述晶片，且来自被照射的晶片的光被具有全反射元件的高NA物镜收集...