一个实施例涉及一种用于高分辨率电子束成像的设备。所述设备包含经配置以限制入射电子束中的电子的能量扩散的能量过滤器。所述能量过滤器可使用消像散维恩(Wien)过滤器及过滤器孔口而形成。另一实施例涉及一种形成用于高分辨率电子束设备的入射电子...

本发明涉及一种包含专用材料搬运模块的设备，所述专用材料搬运模块具有界定选自制作设施中的多个工具的第一工具与第二工具之间的输送路线的专用自动化材料搬运系统AMHS。所述专用AMHS经配置以独立于制作设施AMHS而在所述第一工具与所述第二工...

本发明针对给用于处理来自检查系统的测试和参考图像的检查算法和差分过滤器提供视觉反馈。用户接口可经配置以显示信息和接受用户命令。通信地耦合到所述用户接口的计算系统可经配置以接收由所述检查系统收集的至少一组测试和参考图像。所述计算系统可经进...

本发明揭示用于促进使用光学检验工具检验样本的方法及设备。使用光学检验工具从EUV光罩获得指定跨越所述EUV光罩的强度变化的光学图像或信号，且将此强度变化转换为移除了杂散光校正CD变化的CD变化，以便产生不具有所述杂散光校正CD变化的临界...

一个实施例涉及一种在目标微观金属特征中检测埋藏缺陷的方法。成像设备经配置以用着陆能量撞击带电粒子使得所述带电粒子平均到达所述目标微观金属特征内的一深度。此外，所述成像设备经配置以滤出二次电子且检测背向散射电子。接着，操作所述成像设备以收...

在检验期间使用光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于从光罩的每一局部区域的多个子区域反射的光的多个反射强度值的平均值。还在所述检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于透射通过所述光罩的每一局部区域的所述子区域的...

本发明揭示一种用于半导体装置的自动化检验的检验配方产生的方法、计算机系统及设备。为产生所述检验配方，使用参考数据集。借助初始配方对所述参考数据集(参考晶片图)的裸片的图像执行自动检验。将来自所述自动检验的所检测检验结果分类，且将所述经分...

本发明揭示用于检验光学光刻光罩的方法及设备。从光罩检验系统接收缺陷数据流，其中所述缺陷数据识别针对所述光罩的多个不同部分所检测的多个缺陷。在检视所述缺陷数据以确定所述光罩是否通过检验之前且在继续接收所述缺陷数据流时，将所述缺陷中的一些缺...

本发明揭示一种用于基于点图像的细线检测的检测方法。所述方法包含用于从掩模的经透射光学图像及经反射光学图像产生带限点图像的步骤。校准所述点图像以最小化来自所述点图像的多个光学像差。将所述点图像还原回到掩模图像以允许以下各项中的至少一者：所...

本发明涉及一种可变压力探针装置，所述可变压力探针装置包含：壳体，其带有具有第一纵向轴的通道；探头，其至少部分地安置于所述通道中且包含经配置以测量导电层的性质的多个探针；及流体压力系统，其经配置以将经加压流体供应到所述通道以控制所述探头在...

本发明揭示用于检验光学光刻光罩的方法及设备。界定光罩的多个片块区。在于任何光学光刻过程中使用光罩之前，在第一检验期间使用光学光罩检验工具来针对多组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的多个子区测量的光的多个参考强度值...

一种执行晶片级经封装高亮度磷光体转换发光二极管pc-HBLED的热测试的方法包含使用激光器选择性地加热磷光体层的部分以在所述磷光体层中提供预定温度梯度。所述选择性加热可直接加热基于硅酮的磷光体层中的硅酮，或直接加热基于Lumiramic...

一种用于高速图像处理的模块包含用于产生表示图像的多个模拟输出的图像传感器和用于同时处理所述多个模拟输出的多个高密度数字化器HDD。每一HDD为经配置以并行处理所述模拟输出的预定集合的集成电路。所述HDD的每一通道可包含用于调节表示一个传...

本发明揭示具有改善稳定性的椭圆偏光仪系统及椭圆偏光仪数据收集方法。根据本发明，利用多个预定、离散分析器角度来收集用于单一测量的椭圆偏光仪数据，且基于在这些预定、离散分析器角度处收集到的所述椭圆偏光仪数据执行数据回归。针对单一测量利用多个...

本发明揭示一种方法实施例，其包含提供光罩设计数据，所述光罩设计数据规定形成于使用所述光罩的晶片上的多个可印刷特征及不形成于使用此光罩的所述晶片上的多个不可印刷特征，其中所述光罩设计数据可用于制作所述光罩。从所述光罩设计数据产生减小的设计...

本发明提供用于产生晶片检查过程的方法和系统。一种方法包含：在晶片的扫描期间存储检查系统的检测器的输出，无论所述输出是否对应于在所述晶片上检测到的缺陷；且将所述晶片上的对应于通过测试所述晶片所检测到的位故障的物理位置分离为所述物理位置的未...

本发明呈现用于基于光谱响应数据确定沉积于衬底之上的高k电介质膜的带结构特性的方法及系统。利用高吞吐量分光计在制造过程中早期快速测量半导体晶片。基于光谱数据确定光学色散度量。基于光学色散度量值确定带结构特性，例如带隙、带边缘及缺陷。在一些...

本发明呈现用于校正目标检验系统的系统参数值的方法及系统。以频谱误差为基础的校正SEBC通过最小化不同检验系统之间对于一给定样本或一组样本的频谱误差的差来增加检验系统之间的一致性。所述系统参数值经确定使得与所述目标检验系统的样本测量相关联...

本发明包含：中介层，其安置于衬底的表面上；光感测阵列传感器，其安置于所述中介层上，所述光感测阵列传感器经背部薄化且经配置用于背部照明，所述光感测阵列传感器包含像素列；一个或一个以上放大电路元件，其经配置以放大所述光感测阵列传感器的输出，...

本发明包括暴露室，其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体，所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体；钝化气体源，其流体连接到所述暴露室，所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分；及...