非接触式测量p‑n结的一或多个电响应特性包含：用第一强度的光照明所述p‑n结的表面，所述第一强度的光具有足以建立所述p‑n结的结光电压JPV的稳态条件的调制或脉冲式特性；测量来自所述照明区域内的所述p‑n结的第一JPV；用额外强度的光照...

本发明提供用于相对于所存储高分辨率裸片图像确定检验数据的位置的方法及系统。一种方法包含：使由检验系统针对晶片上的对准位点获取的数据与关于预定对准位点的数据对准。所述预定对准位点在所述晶片的所存储高分辨率裸片图像的裸片图像空间中具有预定位...

一种非接触晶片夹持设备包含晶片卡盘和耦合到所述晶片卡盘的一部分的夹具组合件。所述晶片卡盘包含加压气体元件，其经配置以跨所述晶片卡盘的表面产生加压气体区域，所述加压气体区域适合于将所述晶片提升到所述晶片卡盘的所述表面上方。所述晶片卡盘进一...

本发明提供用于产生缺陷样本用于电子束重检的各种实施例。一种方法包含逐缺陷地组合通过在其上检测到缺陷的晶片的光学检验确定的缺陷中的一或多个第一属性与通过所述晶片的光学重检确定的所述缺陷中的一或多个第二属性，借此产生所述缺陷的组合属性。所述...

本发明提供从目标衍射信号减少或去除边缘衍射的散射测量计量系统、目标及方法。可将场光阑及/或目标的边界设计成相对于测量方向倾斜，从而致使边缘衍射斜向地传播且因此减少或去除其对所述所测量目标衍射信号的影响。

本发明描述用于光学计量的高度相关参数的相关性的动态移除。方法的实施例包含：确定结构的模型，所述模型包含参数集合；执行所述结构的光学计量测量，包含收集硬件元件上的光谱数据；在所述结构的所述测量期间，动态地移除所述参数集合中的两个或两个以上...

本发明提供用于确定晶片上的固定位置的晶片检验坐标的方法及系统。一种系统包含经配置以将光引导到晶片的边缘上的光点的照明子系统。所述光点延伸超出所述晶片的所述边缘。所述系统还包含载台，所述载台使所述晶片旋转由此使所述光点扫描遍及所述晶片的所...

一个实施例涉及一种双维恩过滤器单色器。第一维恩过滤器使电子束聚焦于第一平面中，同时使所述电子束在第二平面中平行。狭缝开口允许所述电子束的具有在能量范围内的能量的电子通过，同时阻挡所述电子束的具有在所述能量范围之外的能量的电子。第二维恩过...

本发明呈现用于仅基于所测量训练数据而创建测量模型的方法及系统。然后，使用所述经训练测量模型来直接根据所测量散射术数据计算重叠值。所述测量模型直接接收散射术信号作为输入并提供重叠值作为输出。在一些实施例中，根据设计规则结构的测量来确定重叠...

本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。实施例包含产生及/或使用包含光罩图案的成对的预定分段及对应近场数据的数据结构。可基于光罩的由光罩检验系统的检测器产生的实际图像通过回归来确定所述预定分段的所述近场数据。接着，检验光罩可包含：将...

在一个实施例中，揭示了用于确定目标的参数的设备及方法。提供了一种具有成像结构及散射测量结构的目标。利用计量工具的成像通道获得所述成像结构的图像。还利用所述计量工具的散射测量通道从所述散射测量结构获得散射测量信号。基于所述图像及所述散射测...

本发明提供用于监测晶片检验配方随时间的稳定性的系统及方法。一种方法包含收集随时间的检验结果。所述检验结果是在不同时间点在晶片上执行所述晶片检验配方时由至少一个晶片检验工具所产生。所述方法还包含通过将在不同时间产生的所述检验结果彼此比较而...

利用多个照明区域进行的检验包含：产生沿着初级照明方向引导的初级照明光束；沿着第一照明方向传输所述初级照明光束的一部分；利用一或多个角度选择元件使所述初级照明光束的一部分沿着不同于所述第一照明方向的第二照明方向偏转；将所述初级照明光束的所...

本发明揭示一种重复率(脉冲)倍增器，其包含一或多个射束分裂器及棱镜，从而形成具有延迟每一脉冲的能量的部分的不同光学路径长度的一或多个环形腔。一系列输入激光脉冲在所述环形腔中循环且每一脉冲的所述能量的部分在横穿较短腔路径之后离开系统，而所...

本发明是关于用于高亮度发光二极管的高吞吐量热测试方法及系统。根据本发明一实施例的方法包含使用激光器选择性地加热磷光体层的部分以在该磷光体层中提供预定温度梯度。该选择性加热可直接加热基于硅酮的磷光体层中的硅酮，或直接加热基于Lumiram...

本发明提供用于在晶片检验期间确定定位于收集孔隙中的光学元件的配置的方法及系统。一种系统包含检测器，所述检测器经配置以在光学元件具有不同配置时，检测通过包含一组收集孔隙的所述光学元件的来自晶片的光，借此产生针对所述不同配置的不同图像。所述...

本发明提供用于提取晶片的线上过程控制的全面设计导引的方法及系统。一种方法包含：自动识别待形成于晶片上的装置的设计中的潜在边限性。所述方法还包含：自动产生所述潜在边限性的信息。所述自动产生的信息用于设置对所述晶片的过程控制。

本发明提供有关具有在第一方向上以第一间距重复的元件的周期性结构的目标设计及方法。所述元件沿垂直于所述第一方向的第二方向以第二间距为周期，且在所述第二方向上的特征为具有所述第二间距的交替的对焦点敏感及对焦点不敏感的图案。在所产生目标中，所...

本发明揭示一种用于自动拾取高度调整的拾放装置、方法及计算机程序产品。第一气动系统具有第一可控阀及第二可控阀。所述第二可控阀通过其输入端口连接到真空源。所述第一可控阀的输出端口及所述第二可控阀的输出端口连接到与所述拾放装置的至少一个真空喷...

本发明提供一种线扫描晶片检验系统，其包含用于移除旁瓣并增强所述扫描方向上的分辨率的共聚焦狭缝孔径滤波器。与所述狭缝孔径滤波器相关联的位置检测器监测并校正相对于所述狭缝孔径的照明线图像位置以将图像位置变化保持于容许极限内。每一检测器测量线...