本发明提供计量方法及系统，其中在所述计量系统的光学系统的收集路径的场平面处将经检测图像分裂成至少两个光瞳平面图像。例如棱镜的光学元件可用于分裂所述场平面图像，且可通过空间分裂所述场平面及/或所述照明源及/或通过使用两个极化类型来同时测量...

本发明涉及一种度量系统，其包含：照明源，其用于产生照明光束；多通道光谱滤波器；聚焦元件，其用于将照明从单个光学柱引导到样本；及至少一个检测器，其用于捕获从所述样本收集的照明。所述多通道光谱滤波器包含具有两个或两个以上通道光束路径的两个或...

本揭露涉及用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统及方法。样本的缺陷检测及光致发光测量将斜照明波长光束引导到样本的一部分上；将用于引起样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光的法线照明波长光束引导到样本的一部分上；收集来自样本的缺陷散射...

本发明揭示一种用于形成激光维持等离子体的系统，其包含：气体围阻元件；照明源，其经配置以产生泵激照明；及集光器元件，其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元...

本发明揭示用于从晶片的缺陷扫描去除干扰数据的系统及方法。处理器接收具有一或多个z层的对应于晶片的设计文件。所述处理器接收所述晶片的临界区域且指示子系统捕获所述晶片的对应图像。接收缺陷位置且对准所述设计文件与所述缺陷位置。使用潜在缺陷位置...

本发明揭示一种设备，其包含：仪器化衬底设备；衬底组合件，其包含机械地耦合的底部衬底及顶部衬底；电子组合件；嵌套包壳组合件，其包含外包壳及内包壳，其中所述外包壳围封所述内包壳且所述内包壳围封所述电子组合件。绝缘介质位于所述内包壳与所述外包...

本发明涉及一种发射器，其含有金属硼化物材料，所述发射器具有拥有1μm或更小的半径的至少部分圆形尖端。可施加电场到所述发射器，且从所述发射器产生电子束。为形成所述发射器，从单晶棒移除材料以形成含有金属硼化物材料的发射器，其具有拥有1μm或...

本发明提供用于训练神经网络的方法及系统。一个系统包含由一或多个计算机子系统实行的一或多个组件。所述一或多个组件包含：神经网络，其经配置用于确定输入到所述神经网络的样品的训练集中的输入图像的经反转特征；前向物理模型，其经配置用于从所述经反...

本发明揭示使用设计分析来确定计量目标的电相关放置的方法及系统。所述方法可包含：基于集成电路的设计识别所述集成电路的至少一个关键设计元件；确定所述集成电路的设计是否允许将计量目标插入在所述至少一个关键设计元件的邻近；及当所述集成电路的设计...

本发明涉及一种光刻系统，其包括：照明源，其包含沿着第一方向分离且围绕光学轴对称分布的两个照明极点；图案掩模，其从所述照明源接收照明；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上。所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及装置图案...

本发明提供一种用于自动产生晶片图像到设计的坐标映射的系统、方法及计算机程序产品。在使用中，晶片的设计由计算机处理器接收。另外，由所述计算机处理器接收由所述设计制造的晶片的图像。此外，由所述计算机处理器自动产生所述设计与所述图像之间的坐标...

本发明揭示用于测量硅穿孔TSV结构的特性的方法及设备。使用束轮廓反射率BPR工具来移动到具有TSV结构的第一xy位置。然后使用所述BPR工具来通过将z位置调整到用于在所述第一xy位置处获得测量值的第一最优z位置而在所述第一xy位置处获得...

本文提出用于通过毛细管冷凝法过程来执行经填充有填充材料的几何结构的孔隙度的光学测量的方法及系统。当使用包含经控制量的汽化填充材料的净化气体的流动来处理被测量结构时，执行测量。所述填充材料的一部分冷凝且填充结构特征中的开口(例如平面膜的孔...

本发明揭示一种系统，其经配置以对晶片的前表面、与所述前表面相对的后表面及/或所述前表面与所述后表面之间的边缘执行计量。此可提供对所述晶片的所述后表面的全晶片计量及/或薄膜的计量。在实例中，可使用从晶片的后表面出射的亮场光的灰阶图像与参考...

本发明揭示通过比较测试图像及参考图像与呈现设计图像来执行缺陷检测，所述呈现设计图像可从设计文件产生。这可发生的原因是：归因于噪声，测试图像与另一参考图像的比较是非结论性的。所述两个与所述呈现设计图像的比较的结果可指示缺陷是否存在于所述测...

本发明提供一种永久磁铁粒子束设备及并入可调性非磁性部分的方法。所述永久磁铁粒子束设备包含发射带电荷粒子束的粒子束发射器，且包含形成用于控制所述带电荷粒子束的聚集的磁场的一组永久磁铁。所述永久磁铁粒子束设备进一步包含非磁性电导体组件，所述...

一种双列并行图像CCD传感器利用双列并行读出电路，所述双列并行读出电路包含两对交叉连接的转移门以在高速度下以低噪声将像素数据(电荷)从一对邻近像素列交替地转移到共享输出电路。沿着所述两个邻近像素列以线时钟速率转移的电荷通过所述转移门交替...

本发明提供一种在目标组件与参考组件之间具有一致调制的所制造装置。所述所制造装置包含具有第一调制的目标组件。所述所制造装置进一步包含所述目标组件的至少两个参考组件，其包含第一参考组件及第二参考组件，其中所述第一参考组件及所述第二参考组件各...

本文提出用于执行通过毛细管冷凝过程而填充的几何结构的光学测量的方法及系统。当使用包含经控制量的填充材料的净化气体的流动来处理所述被测量结构时，执行测量。所述填充材料的部分冷凝到所述被测量结构上，且填充所述结构特征中的开口、结构特征之间的...

本发明涉及一种系统，其包含：光束操纵组合件，其经配置以调整入射光束以形成校正光束；光束监测组合件，其经配置以产生用于所述校正光束的监测数据，所述监测数据包含所述校正光束的一或多个偏移参数；及控制器，其经配置以：存储所述校正光束的一或多个...