用于制造以相对于装置特征旋转的角度定向的计量标靶的系统及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光刻系统，其包括：照明源，其包含沿着第一方向分离且围绕光学轴对称分布的两个照明极点；图案掩模，其从所述照明源接收照明；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上。所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及装置图案掩模元素。所述装置图案掩模元素安装置分离距离沿着所述第一方向分布。所述计量标靶图案掩模包含一组计量标靶图案掩模元素，其具有对应于所述装置图案掩模元素的衍射图案的衍射图案。在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶沿着第二方向特性化且具有对应于在所述样本上产生的与所述装置图案掩模元素相关联的装置图案元素的印刷特性的印刷特性。

A system and method for manufacturing an angular orientation measuring target relative to the device characteristics

The present invention relates to a photolithographic system, which comprises: a lighting source comprising two illumination poles separated along the first direction and distributed symmetrically around the optical axis; a pattern mask which receives illumination from the illumination source; and a set of projection optical devices which generate images corresponding to the pattern mask onto a sample. The pattern mask comprises a metering target pattern mask and a device pattern mask element. The device pattern mask element installation separation distance is distributed in the first direction. The metering target pattern mask comprises a group of metering target pattern mask elements, which have a diffraction pattern corresponding to the diffraction pattern of the device pattern mask element. The metering target associated with the metering target pattern mask generated on the sample is characterized in a second direction and has printing characteristics corresponding to the printing characteristics of the device pattern element associated with the device pattern mask element generated on the sample.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造以相对于装置特征旋转的角度定向的计量标靶的系统及方法相关申请案的交叉参考本申请案根据35U.S.C.§119(e)规定主张2014年4月1日申请的以李敏俊(MyungjunLee)及马克D.斯密斯(MarkD.Smith)为专利技术者的标题为使用旋转照明照明的倾斜装置的对角亚分辨率辅助特征的覆盖计量目标设计(OVERLAYMETROLOGYTARGETDESIGNUSINGDIAGONALSUB-RESOLUTIONASSISTFEATURESFORTILTEDDEVICESILLUMINATEDBYROTATEDILLUMINATION)的序列号为61/973,266的美国临时申请案的优先权，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及计量，且更特定来说，涉及以相对于装置特征旋转的角度定向的计量标靶。
技术介绍
计量标靶通常经设计以提供可沿着两个正交测量方向测量的诊断信息。在此方面，计量工具可沿着两个正交测量方向测量计量标靶的一或多个计量度量(例如，重叠误差、临界尺寸、侧壁角度及类似物)作为在所有方向上特性化半导体层的印刷特性的基础。然而，情况可为半导本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻系统，其包括：照明源，其包含围绕所述光刻系统的光学轴对称分布的两个照明极点，其中所述两个照明极点沿着第一方向分离；图案掩模，其经定位以从所述照明源接收照明，其中所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及多个装置图案掩模元素，其中所述装置图案掩模元素的至少一部分按装置分离距离沿着所述第一方向分布，其中所述计量标靶图案掩模包含一组计量标靶图案掩模元素，其具有对应于所述多个装置图案掩模元素的衍射图案的衍射图案；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上，其中可沿着不同于所述第一方向的第二方向特性化在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶，其中所述计量标靶的一或多...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.29 US 62/342,986;2016.07.29 US 15/224,2901.一种光刻系统，其包括：照明源，其包含围绕所述光刻系统的光学轴对称分布的两个照明极点，其中所述两个照明极点沿着第一方向分离；图案掩模，其经定位以从所述照明源接收照明，其中所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及多个装置图案掩模元素，其中所述装置图案掩模元素的至少一部分按装置分离距离沿着所述第一方向分布，其中所述计量标靶图案掩模包含一组计量标靶图案掩模元素，其具有对应于所述多个装置图案掩模元素的衍射图案的衍射图案；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上，其中可沿着不同于所述第一方向的第二方向特性化在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶，其中所述计量标靶的一或多个印刷特性对应于在所述样本上产生的与所述装置图案掩模元素相关联的装置图案元素的一或多个印刷特性。2.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述一或多个印刷特性包括：所述样本上的相对位置、临界尺寸或侧壁角度中的至少一者。3.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述计量标靶图案掩模包含沿着所述第二方向分布的亚分辨率区域。4.根据权利要求3所述的光刻系统，其中所述亚分辨率区域包含小于所述组投影光学器件的光学分辨率的一或多个特征，使得所述样本上的所述计量标靶不包含与所述亚分辨率区域相关联的所述计量标靶图案掩模元素的部分。5.根据权利要求3所述的光刻系统，其中沿着所述第一方向测量的所述亚分辨率区域内的所述计量标靶图案掩模元素的部分的宽度小于所述组投影光学器件的光学分辨率，其中所述样本上的所述计量标靶不包含所述亚分辨率区域内的计量标靶图案掩模分段的部分。6.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述计量标靶图案掩模包含沿着所述第二方向分布的一或多个特征。7.根据权利要求6所述的光刻系统，其中所述计量标靶图案掩模元素的分段沿着所述第二方向分离达标靶分离距离。8.根据权利要求7所述的光刻系统，其中所述标靶分离距离小于所述计量标靶图案元素的所述分段沿着所述第二方向的长度。9.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述图案掩模是明场图案掩模或暗场图案掩模中的至少一者。10.一种光刻系统，其包括：照明源，其包含围绕所述光刻系统的光学轴对称分布的两个照明极点，其中所述两个照明极点沿着第一方向分离；图案掩模，其经定位以从所述照明源接收照明，其中所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及多个装置图案掩模元素，其中所述装置图案掩模元素的至少一部分按装置分离距离沿着所述第一方向分布，其中所述计量标靶图案掩模包含按所述装置分离距离沿着所述第一方向分布的一组计量标靶图案掩模元素；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上，其中可沿着不同于所述第一方向的第二方向特性化在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶。11.根据权利要求10所述的光刻系统，其中所述计量标靶图案掩模的衍射图案对应于按所述装置分离距离沿着所述第一方向分布的所述装置图案掩模元素的所述部分的衍射图案。12.根据权利要求10所述的光刻系统，其中所述计量标靶图案掩模包含沿着所述第二方向分布的亚分辨率区域。13.根据权利要求12所述的光刻系统，其中所述亚分辨率区域包含小于所述组投影光学器件的光学分辨率的一或多个特征，使得所述样本上的所述计量标靶不包含与所述亚分辨率区域相关联的所述计量标靶图案掩模元素的部分。14.根据权利要求12所述的光刻系统，其中沿着所述第一方向测量的所述亚分辨率区域内的所述计量标靶图案掩模元素的部分的宽度小于所述组投影光学器件的光学分辨率，其中所述样本上的所述计量标靶不...

【专利技术属性】
技术研发人员：李明俊，M·D·史密斯，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US