本发明涉及一种方法，其包含：接收晶片的三个或三个以上裸片的一或多个图像；确定从所述三个或三个以上裸片中的每一者上的相同位置获取的一组像素强度值的中值强度值；通过比较所述组像素强度值的所述中值强度值与每一像素强度值而确定所述组像素强度值的...

本发明揭示用于检验半导体样本的方法及设备。此系统包括用于产生且引导入射光束朝向晶片的表面上的缺陷的照明光学器件子系统。所述照明光学器件子系统包含：光源，其用于产生所述入射光束；及一或多个偏光组件，其用于调整入射光束的电场分量的比率及/或...

一种多通道光倍增管PMT检测器组合件包含光阴极。所述检测器组合件包含第一倍增极通道，所述第一倍增极通道包含第一组倍增极路径。所述第一组倍增极路径包含多个倍增极级，所述多个倍增极级经配置以接收光电子的第一部分且将第一经放大光电子电流导引到...

本发明揭示一种扫描电子显微镜系统。所述系统包含样本台，所述样本台经配置以固定具有安置在绝缘衬底上的导电结构的样本。所述系统包含电子光学柱，所述电子光学柱包含：电子源，其经配置以生成初级电子束；及一组电子光学元件，其经配置以将所述初级电子...

本发明提供用于从输入图像产生经模拟图像的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统及由所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含神经网络，其包含经配置以用于确定样本的图像的特征的两个或两个以上编码器层。所述神经网...

本发明提供一种用于使用局部自适应阈值识别制造组件缺陷的系统、方法及计算机程序产品。在使用时，针对制造装置的目标及参考组件接收图像。另外，从所述目标及参考组件图像产生差异图像，且从所述差异图像识别所述目标组件的缺陷候选。此外，针对所述差异...

本发明提供计量目标及目标设计方法，其中通过以辅助元件替换来自具有间距p的周期性图案的元件来定义目标元件以形成将所述间距p维持为单个间距的复合周期性结构，所述辅助元件与所述经替换元件具有至少一个几何差异。在与高级多重图案化技术的兼容性界限...

本文中描述用于减小有限源大小对于用于透射小角X射线散射术T‑SAXS测量的照明束斑大小的影响的方法和系统。具有细长轮廓的光束整形狭缝位于极为接近处于测量下的标本处且不会干扰全范围的光束入射角上方的晶片级组件。在一个实施例中，四个独立致动...

可使用金属膜的薄片电阻、电阻率及电阻率温度系数来确定金属膜厚度。可减少或消除由电阻率导致的膜厚度测量中的变动。探头可用于金属膜的一些测量。所述探头可包含在薄片电阻测量期间使用的温度传感器。例如使用卡盘或所述探头加热所述卡盘上的晶片来进行...

本文提出用于通过气体吸附过程来执行由吸附物填充的几何结构的光学测量的方法及系统。当使用包含经控制量的填充材料的净化气体的流动来处理被测量计量目标时，执行测量。所述填充材料的一部分吸附到被测量结构上，且填充结构特征中的开口、结构特征之间的...

本发明揭示成像物镜及配备有此类成像物镜的检查系统。所述成像物镜可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生受衍射限制的中间图像。所述成像物镜还可包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球...

一种用于基于电设计性质而自动地分类一或多个缺陷的方法包含接收样品的所选区域的一或多个图像；接收与所述样品的所述所选区域相关联的一或多组设计数据；通过比较所述样品的所述所选区域的所述一或多个图像与所述一或多组设计数据而定位所述样品的所述所...

本文中呈现用于在多重图案化半导体制作过程中基于对试样的测量及来自用于制作所述试样的一或多个先前过程步骤的过程信息而测量过程诱发的误差的方法及系统。在已执行若干个过程步骤之后，采用计量工具。所述计量工具基于经测量信号及过程信息而测量晶片上...

一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器...

本发明提供一种用于检测多重图案化制造装置中与重叠相关的缺陷的设计感知系统、方法及计算机程序产品。在使用期间，由计算机系统接收多重图案化制造装置的设计。接着，所述计算机系统自动从所述设计确定所述设计的易于引起重叠误差的一或多个区域。此外，...

本发明提供用于提供叠加校正的方法及系统。一种方法可包含：选择经配置以对晶片执行叠加建模的叠加模型；从所述叠加模型获得第一组经建模结果，所述第一组经建模结果指示适用于所述叠加模型的多个项系数的调整；计算指示所述多个项系数的有效性的有效性矩...

本发明提供一种用于校正从目标裸片及参考裸片的比较所产生的差异图像的系统、方法及计算机程序产品。在使用中，执行目标裸片图像的裸片内检验以针对每一关注图案产生第一代表性图像。执行参考裸片图像的裸片内检验以针对所述关注图案中的每一者产生第二代...

本发明涉及多点扫描收集光学器件。本发明揭示用于检验或测量样品的设备及方法。一种系统包括照明通道，所述照明通道用于产生多个入射光束且使所述多个入射光束偏转以形成多个光点，所述多个光点跨越由所述样品的多个扫描部分组成的经分段线进行扫描。所述...

本发明揭示一种基于正规化信号及反射总强度来确定例如晶片上的层的厚度、表面粗糙度、材料浓度，及/或临界尺寸等值的系统。光源将光束引导于所述晶片的表面处。传感器接收经反射光束且提供至少一对偏振通道。通过控制器接收来自所述偏振通道的所述信号，...

本发明提供一种高亮度激光维持宽带光源，其包含气体围阻结构及经配置以产生包含至少接近所述气体围阻结构中所含有的中性气体的弱吸收线的波长的照明的泵光束的泵激光器。所述宽带光源包含经配置以将所述泵光束聚焦到定位在所述气体围阻结构的中心中或定位...