晶片缺陷检查及审查系统技术方案

本发明专利技术揭示成像物镜及配备有此类成像物镜的检查系统。所述成像物镜可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生受衍射限制的中间图像。所述成像物镜还可包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】晶片缺陷检查及审查系统相关申请的交叉参考本申请根据35U.S.C.§119(e)规定要求2016年2月3日申请的第62/290,586号美国临时申请的权利。所述第62/290,586号美国临时申请的全文以引用的方式并入本文中。本申请涉及2016年2月26日申请的共同待审的第15/055,292号美国专利申请。所述第15/055,292号美国美国专利申请的全文以引用的方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及检查的领域，且特定来说涉及半导体装置的检查。
技术介绍
薄抛光板(例如硅晶片及类似物)是现代技术非常重要的一部分。例如，晶片可指用于制造集成电路及其它装置的半导体材料的薄片。薄抛光板的其它实例可包含磁盘衬底、块规及类似物。尽管此处所描述的技术主要指晶片，但应了解，本技术还适用于其它类型的抛光板。术语晶片及术语薄抛光板在本专利技术中可互换使用。晶片经受缺陷检查。预期用于执行此类检查的工具是高效且有效的。然而，应注意，大规模电路集成及尺寸缩减的最近发展已向这种期望提出挑战。即，随着缺陷变得越来越小，既有检查工具在检测缺陷时变得不那么高效及有效。就此来说，需要没有前述缺点的改进检查系统。专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成像物镜，其包括：前物镜，其经配置以产生中间图像；及中继器，其经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像，所述中继器包括三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.03 US 62/290,586;2016.09.28 US 15/279,0531.一种成像物镜，其包括：前物镜，其经配置以产生中间图像；及中继器，其经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像，所述中继器包括三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。2.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述中间图像受衍射限制。3.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述中继器是三镜中继器。4.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述三个球面镜均是基本上不遮光的反射镜。5.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述三个球面镜具有不同曲率。6.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述三个球面镜是至少可轴向或垂直移动，同时仍维持所述中间图像到所述固定图像平面的所述投影。7.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述前物镜经进一步配置以放大所述中间图像，以减小所述前物镜与所述中继器之间的界面处的所述中间图像的数值孔径。8.根据权利要求1所述的成像物镜，其中在所述界面处的所述中间图像的所述数值孔径是0.2或更小。9.根据权利要求1所述的成像物镜，其中由所述前物镜产生的所述中间图像是远心的。10.根据权利要求1所述的成像物镜，其中所述前物镜包括：透镜，其具有充当反射表面的平面侧；凹凸透镜；凹面镜；及一系列折射熔融硅石及氟化钙透镜。11.根据权利要求1所述的成像物镜，其进一步包括：至少一个额外中继器，其经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像，所述至少一个额外中继器包括三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的第二投影传递到所述固定图像平面，其中所述至少一个额外中继器具有与所述第一个提到的中继器的变焦范围不同的变焦范围。12.一种检查系统，其包括：检测器，其经定位在所述检查系统内的固定位置处；前物镜，其经配置以产...

【专利技术属性】
技术研发人员：张时雨，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US