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科磊股份有限公司专利技术
科磊股份有限公司共有1155项专利
用于扫描传感器的省电计时制造技术
一种时间延迟与积分电荷耦合装置包含像素阵列及时钟产生器。所述像素阵列沿扫描方向及垂直于所述扫描方向的线方向分布,其中所述阵列的所述像素中的至少一些像素包含沿所述扫描方向对准的三个或多于三个栅极。所述时钟产生器提供计时信号以沿着所述扫描方...
用于散焦检测的方法技术
可对两个或多于两个色彩数据进行组合以形成新数据源来增强对散焦信号的敏感性。可对新形成的数据源执行散焦检测。在设置步骤中,可使用训练晶片来选择最佳色彩组合及获得散焦检测阈值。这可包含:应用区段掩模;计算区段的均值强度;确定使散焦敏感性最优...
用于图像融合的以卷积神经网络为基础的模式选择及缺陷分类制造技术
本发明揭示用于使用热扫描及卷积神经网络CNN对缺陷分类的系统及方法。由处理器识别主要扫描模式且执行晶片的热扫描。选择所关注缺陷及扰乱点数据且使用一或多种次要扫描模式抓取那些区域的图像。收集图像集且将其划分成子集。使用所述图像子集训练CN...
用于半导体晶片检验的缺陷标记制造技术
本文中描述用于准确地定位先前由检验系统检测到的掩埋缺陷的方法及系统。在晶片的表面上由检验系统检测到的掩埋缺陷附近做出物理标记。另外,所述检验系统在至少两个维度上准确地测量所述所检测缺陷与所述物理标记之间的距离。将所述晶片、对所述标记的标...
用电子束柱阵列测量叠对及边缘放置误差制造技术
本文中呈现用电子束柱阵列来对多个裸片执行测量的方法及系统。沿与安置于晶片上的裸片行平行的方向扫描所述晶片。所述电子束测量柱沿柱对准方向在空间上分隔开。沿相对于所述柱对准方向以倾斜角定向的方向扫描所述晶片,使得在同一晶片通过期间每一电子束...
在多列扫描电子显微镜系统中用于校正阵列散光的设备及方法技术方案
本发明揭示一种多电子束扫描电子显微镜SEM系统。所述系统包含经配置以产生源电子束的电子束源。所述系统包含经配置以从所述源电子束产生泛射电子束的一组电子光学元件。所述系统包含多电子束透镜阵列,其具有:多个电子光学路径,其经配置以将所述泛射...
色度共焦计量的速度增强制造技术
用于高度测量的系统和方法,例如用于凸块、支柱或薄膜厚度的那些测量,可使用色度共焦技术。系统可包含发射白光的白光源,以及改变来自所述白光源的所述白光的每一波长的焦距的透镜。所述白光的所述波长中的每一者聚焦于距所述透镜不同的距离处。传感器主...
用于测量高纵横比结构的红外光谱反射计制造技术
在本文中呈现用于在红外波长下执行半导体结构的光谱反射测量的方法及系统。在一些实施例中,采用横跨从750纳米到2,600纳米或更大的范围的测量波长。在一个方面中,在倾斜角下执行反射测量以降低背侧反射对测量结果的影响。在另一方面中,由包含具...
用于优化以成像为基础的覆盖度量的聚焦的系统及方法技术方案
本发明揭示用于凭借具有光学相干断层摄影术OCT聚焦系统的干涉仪装置通过分别引导经重叠测量波前及参考波前朝向聚焦传感器及朝向成像传感器进行聚焦且测量的方法及系统;其中引导所述经重叠波前的预定义聚焦照明光谱朝向所述聚焦传感器,且其中引导所述...
光学近场度量制造技术
本发明提供利用光学微腔探针以依遵循高体积度量要求的方式通过所述光学微腔探针之间的近场相互作用来映射晶片表面构形的系统及方法。所述光学微腔探针通过参考辐射与微腔及晶片特征中的辐射的近场相互作用之间的干扰信号的移位来检测晶片上的特征,例如装...
监测光掩模缺陷率的改变制造技术
本发明揭示检验在规格内的光罩以便产生指示每一异常光罩特征的位置和尺寸值的基线事件。于在光刻中使用所述光罩后,检验所述光罩以便产生指示每一异常光罩特征的位置和尺寸值的当前事件。产生候选缺陷和其图像的检验报告,使得这些候选缺陷包含所述当前事...
用于测量半导体参数的设备、技术和目标设计制造技术
本揭露涉及用于测量半导体参数的设备、技术和目标设计。在一个实施例中,揭示了用于确定目标的参数的设备及方法。提供了一种具有成像结构及散射测量结构的目标。利用计量工具的成像通道获得所述成像结构的图像。还利用所述计量工具的散射测量通道从所述散...
用于高速成像传感器数据传送的设备制造技术
本发明揭示一种包含至少一个衬底的成像传感器组合件,所述至少一个衬底包含多个衬底信号线。所述成像传感器组合件也包含安置于所述至少一个衬底上的至少一个成像传感器封装,所述至少一个成像传感器封装包含安置于至少一个成像传感器封装衬底上的至少一个...
具有集成净化气体预热器的用于光学组件的炉箱外壳制造技术
一种炉箱外壳中的筒体包含预热特征,其在净化气体进入围绕炉箱单元中的例如非线性光学晶体的光学组件的空间之前用于所述进入净化气体。可在所述进入净化气体沿围绕筒体的气体路径行进时预热所述气体。所述筒体可包含加热器。所述炉箱外壳可具有两个窗,所...
具有各向异性介电常数的半导体结构的基于模型的光学测量制造技术
本文中呈现用于采用包括所测量结构的一或多个材料的光学色散性质的各向异性特性化来执行小尺寸半导体结构的基于光学模型的测量的方法及系统。这减小几何参数当中的相关性,且导致多个所测量材料当中的经改进测量灵敏度、经改进测量精度及经提高测量对比度...
用于在制造工艺中控制衬底上图案的定位的方法及计算机程序产品技术
在一种用于在制造工艺中控制衬底上图案的定位的方法中,使用配准工具对通过所述制造工艺的先前工艺步骤形成于所述衬底上的至少一个层中的至少一个图案进行至少一个配准测量。从所述配准测量确定所述至少一个图案在坐标系统中的位置。将所述至少一个图案的...
用于原位工艺监测和控制的光谱反射测量法制造技术
在本文中展现用于对安置在晶片上的半导体结构执行原位选择性光谱反射测量法SSR测量的方法和系统。空间地成像从晶片表面反射的照明光。收集且光谱分析来自图像的经选择区的信号,而舍弃所述图像的其它部分。在一些实施例中,SSR包含安置于光学路径中...
补偿机械测试系统技术方案
本发明涉及一种机械测试系统,其具有框架及用于固持样品的载物台。臂用于使工具压抵所述样品的表面。主要致动器连接到所述框架且施加主要力且相对于所述样品驱动所述工具,借此导致所述框架挠曲。位移传感器测量包括两个分量的位移值,第一分量包含在施加...
具有大颗粒监测和激光功率控制的表面缺陷检验制造技术
本文中呈现用于在遍及大颗粒扫描时减小照明强度的方法及系统。表面检验系统使用分开前导测量点确定主测量点的检验路径中的大颗粒的存在。所述检验系统在所述大颗粒在所述主测量点内时减小入射照明功率。通过共同成像收集物镜使所述主测量点及所述前导测量...
工具状况监测及匹配制造技术
本发明揭示用于通过整合实时数据收集、事件优先化及透过图像分析自动确定匹配状态进行工具状况监测及匹配的系统及方法。可实时接收来自半导体生产工具的数据。可确定参数数据及缺陷属性数据的控制限度影响CLI且可优先化因果关系因素。图像分析技术可比...
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