科磊股份有限公司专利技术

科磊股份有限公司共有1155项专利

  • 本发明提供用于确定所关注图案POI的特性的方法及系统。一个系统经配置以获取检验系统在POI实例处产生的输出而不检测所述POI实例处的缺陷。接着使用所述输出以产生所述POI实例的选择。接着所述系统针对所述经选择的POI实例从输出获取子系统...
  • 本发明揭示一种缺陷检测方法,其包含获取参考图像;选择所述参考图像的目标区域;基于匹配度量识别对应于所述目标区域的所述参考图像的一或多个比较区域;获取测试图像;使用所述参考图像的所述目标区域及所述参考图像的所述一或多个比较区域遮蔽所述测试...
  • 本发明揭示用于在设计文件中存储动态层内容的系统及方法。接收具有对应于多个过程层的设计数据的设计文件。还接收几何运算公式。处理器产生具有动态层内容的多边形,所述多边形是通过对所述多个过程层中的两者或多于两者应用所述几何运算公式而形成。存储...
  • 本发明涉及具有涂覆于圆柱形对称元件(例如,滚筒)的外表面上的靶材料(例如氙)的激光产生的等离子体光源。实施例包含可经优化以减少对所述滚筒的照射损坏的预脉冲布置及可用来减少对所述滚筒的照射损坏的脉冲修整单元。另外,揭示实施例,其中圆柱形对...
  • 本发明提供用于从设计信息产生模拟图像的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件,所述一或多个组件包含生成模型。所述生成模型包含两个或两个以上编码器层,其经配置以确定用于样本的设计信息的特征。所述...
  • 本发明揭示用于提供特征分类以用于光刻掩模的检验的方法及设备。用于制作掩模的设计数据库包含各自由一组顶点定义的多边形。将彼此邻接的所述多边形中的任一者分组在一起。将任何经分组多边形合拢以便消除每一组经分组多边形的内部边缘以获得与此组经分组...
  • 本发明针对于具有涂覆于圆筒的外表面上的例如氙等目标材料的激光产生的等离子体光源。实施例包含用于使所述圆筒旋转的轴承系统,所述轴承系统具有用于减少污染物材料及/或轴承气体到LPP室中的泄漏的结构。揭示用于涂覆及补充所述圆筒上的目标材料的注...
  • 本发明提供用于检测样本上的缺陷的方法及系统。一种系统包含产生模型。所述产生模型包含经配置以将输入特征映射集的像素块映射到标签中的非线性网络。所述标签指示所述块的一或多个缺陷相关特性。所述系统将单一测试图像输入到所述产生模型中,所述产生模...
  • 本发明提供一种用于选择将利用计量工具而测量的信号的系统、方法及计算机程序产品,所述计量工具优化所述测量的精度。技术包含模拟用于测量计量目标的一或多个参数的信号集合的步骤。产生对应于所述信号集合的正规化雅可比矩阵,基于所述正规化雅可比矩阵...
  • 本文中描述了用于以长波长红外光对光学元件执行非接触式温度测量的方法及系统。所述受测量光学元件对长波长红外光展现出低发射率,且通常对长波长红外光具有高反射性或高度透射性。在一个方面中,在长波长IR波长下具有高发射率、低反射率及低透射率的材...
  • 使用激光脉冲倍增器的半导体检验及计量系统
    本申请涉及使用激光脉冲倍增器的半导体检验及计量系统。本发明揭示一种脉冲倍增器,其包含分束器及一或多个镜。所述分束器接收一系列输入激光脉冲且将每一脉冲的能量的部分引导到环形腔中。在围绕所述环形腔循环之后,所述脉冲能量的部分通过所述分束器离...
  • 包含具有硼层的硅衬底的光阴极
    本揭露涉及包含具有硼层的硅衬底的光阴极。在具有相对所照射(顶部)表面和输出(底部)表面的单晶硅衬底上形成光阴极。为防止所述硅氧化,使用使氧化和缺陷降到最低的方法将薄(例如,1nm到5nm)硼层直接安置于所述输出表面上,并且然后在所述硼层...
  • 用于半导体晶片检验的成像性能优化方法
    本发明揭示检验系统及用于调整/优化所述检验系统的成像性能的方法。检验系统可包含:光学组件,其经配置以将检验光传送到受验体;及检测器,其经配置以至少部分基于传送到所述受验体的所述检验光而获得所述受验体的图像。所述检验系统还可包含与所述光学...
  • 在激光维持等离子体光源中用于无电极等离子体点燃的系统及方法
    一种在激光维持等离子体LSP宽带源的等离子体灯中用于点燃并维持等离子体的照明源包含经配置以在容纳于所述等离子体灯内的气体内点燃所述等离子体的一或多个点燃激光器。所述照明源还包含经配置以维持所述等离子体的一或多个维持激光器。所述照明源包含...
  • 使用位故障和虚拟检查产生一种晶片检查过程
    本公开涉及使用位故障和虚拟检查产生一种晶片检查过程。本发明提供用于产生晶片检查过程的方法和系统。一种方法包含:在晶片的扫描期间存储检查系统的检测器的输出,无论所述输出是否对应于在所述晶片上检测到的缺陷;且将所述晶片上的对应于通过测试所述...
  • 用于使用灵活取样的过程控制的方法及系统
    产生灵活的稀疏度量取样图包含:从度量工具接收来自一或多个晶片的度量信号全集;基于所述度量信号全集来确定一组晶片性质,且计算与所述组晶片性质相关联的晶片性质度量;基于所述度量信号全集来计算一或多个独立特性度量;以及基于所述组晶片性质、所述...
  • 使用多射束工具的反向散射电子(BSE)成像
    本发明揭示多射束扫描电子显微镜检验系统。多射束扫描电子显微镜检验系统可包含电子源及小射束控制机构。所述小射束控制机构可经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束且在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者。所述多射束扫描电子显...
  • 光谱光束轮廓叠对度量
    一种光谱光束轮廓度量系统同时在大波长范围及大入射角AOI范围内检测测量信号。在一个方面中,将多波长照明光束重新整形成窄线形光束,所述窄线形光束被投射到叠对度量目标上,使得所述线形光束的方向与所述叠对度量目标的光栅结构的延展方向对准。所收...
  • 多束扫描电子显微镜系统中噪声减少的方法及系统
    本发明揭示一种扫描电子显微镜系统。所述系统包含多束扫描电子显微镜SEM子系统。所述SEM子系统包含:多束电子束源,其经配置以产生多个电子束;样本载台,其经配置以固定样本;电子光学组合件;及检测器组合件,其经配置以检测从所述样本的表面发出...
  • 多射束暗场成像
    本发明揭示具有暗场成像能力的多射束扫描电子显微镜SEM检验系统。SEM检验系统可包含电子源及至少一个光学装置。所述至少一个光学装置可经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个初级子射束且朝向目标递送所述多个初级子射束。设备还可包含检测...