确定样品上所关注图案的一或多个特性制造技术

本发明专利技术提供用于确定所关注图案POI的特性的方法及系统。一个系统经配置以获取检验系统在POI实例处产生的输出而不检测所述POI实例处的缺陷。接着使用所述输出以产生所述POI实例的选择。接着所述系统针对所述经选择的POI实例从输出获取子系统获取输出。所述系统还使用从所述输出获取子系统获取的所述输出确定所述POI的特性。

Determine one or more characteristics of the pattern of concern on the sample.

The invention provides a method and a system for determining the characteristics of the pattern POI concerned. A system is configured to obtain output from the inspection system at the POI instance without detecting defects in the POI instance. The output is then used to generate the selection of the POI instance. The system then obtains output from the output acquisition subsystem for the selected POI instance. The system also uses the output obtained from the output acquisition subsystem to determine the characteristics of the POI.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】确定样品上所关注图案的一或多个特性
本专利技术大体上涉及用于确定样品上所关注图案的一或多个特性的方法及系统。
技术介绍
以下描述及实例不因其包含于此段落中而被承认是现有技术。在半导体制造工艺期间的各个步骤使用检验过程以检测晶片上的缺陷以促进制造工艺中的更高良率及因此更高利润。检验始终是制造半导体装置的重要部分。然而，随着半导体装置的尺寸减小，检验对于可接受半导体装置的成功制造变得更为重要，这是因为较小缺陷可导致装置故障。缺陷复检通常涉及重新检测由检验过程检测为缺陷的缺陷且使用高倍放大光学系统或扫描电子显微镜(SEM)以较高分辨率产生关于缺陷的额外信息。因此，在其中已由检验检测到缺陷的晶片上的离散位置处执行缺陷复检。由缺陷复检产生的针对缺陷的较高分辨率数据更适合于确定缺陷的属性，例如轮廓、粗糙度、更精确大小信息等。在半导体制造工艺期间的各个步骤还使用计量过程以监测且控制过程。计量过程与检验过程不同之处在于：不同于其中在晶片上检测缺陷的检验过程，计量过程用于测量使用当前使用的检验工具无法确定的晶片的一或多个特性。举例来说，计量过程用于测量晶片的一或多个特性(例如在工艺期间形成于晶片上的特征的尺寸(例如，线宽、厚度等))使得可从一或多个特性确定工艺的性能。另外，如果晶片的一或多个特性不可接受(例如，在特性的经预先确定范围之外)，那么可使用晶片的一或多个特性的测量以更改工艺的一或多个参数使得由工艺制造的额外晶片具有可接受特性。计量过程与缺陷复检过程不同之处还在于：不同于其中在缺陷复检中重访由检验检测的缺陷的缺陷复检过程，可在未检测缺陷的位置处执行计量过程。换句话来说，不同于缺陷复检，在晶片上执行计量过程的位置可独立于在晶片上执行的检验过程的结果。特定来说，可独立于检验结果选择执行计量过程的位置。另外，由于可独立于检验结果选择晶片上执行计量的位置，所以不同于其中无法确定晶片上希望执行缺陷复检的位置直到产生且可用晶片的检验结果的缺陷复检，可在晶片上已执行检验过程之前确定执行计量过程的位置。虽然事实是计量通常独立于检验且主要由对于测量多边形的形态关键或友好的位点驱动且缺陷复检通常依赖于检验且由已检测缺陷的位点驱动，但并非始终如此。举例来说，在检验驱动的计量的情况中，可使用检验结果以引导选择反常于全部可用测量位点的位点。在另一实例中，还可通过使用通过采用模拟或设计驱动位点而选择的位点且接着使用缺陷复检工具仅收集那些指定位点的图像而在无检验的情况下执行复检。在2010年5月4日颁予帕克(Park)等人的第7,711,514号美国专利及在2013年10月15日颁予张(Chang)等人的第8,559,001号美国专利中说明此类方法及系统的实例，所述两个专利以宛如全文陈述引用的方式并入本文中。一般来说，使用如上文描述的检验工具执行缺陷检测且接着在位置的固定样本上执行额外测量(例如使用SEM执行的临界尺寸(CD)测量)。然而，用于产生用于缺陷复检或计量的样本的当前使用的方法及系统存在若干缺点。举例来说，归因于CDSEM的基本上低区域及图案覆盖及使用阈值化技术的检验工具的不足灵敏度，实际上可能无法观察影响产品电路图案的良率相关属性的变化源。因此，开发用于确定样品上所关注图案的一或多个特性而无上文描述的一或多个缺点的系统及方法将是有利的。
技术实现思路
各个实施例的以下描述绝不应理解为限制所附权利要求书的标的物。一个实施例涉及一种经配置以确定样品上所关注图案(POI)的一或多个特性的系统。所述系统包含输出获取子系统，所述输出获取子系统包含至少一能源及检测器。所述输出获取子系统经配置以将由所述能源产生的能量引导到样品而所述检测器检测来自所述样品的能量且响应于所述检测到的能量产生输出。所述系统还包含计算机子系统，所述计算机子系统包含经配置以执行来自存储器媒体的指令的一或多个处理器。所述计算机子系统经配置用于获取由检验系统针对所述样品上的POI的至少大多数实例产生且存储于计算机可读存储媒体中的所述检验系统的输出。所述检验系统以低于所述输出获取子系统的分辨率的分辨率获取所述输出。与所述输出的特性无关，所述检验系统存储在所述至少大多数实例处获取的所述输出。所述计算机子系统还经配置用于选择由所述输出获取子系统产生所述输出的所述至少大多数实例中的一或多者。所述选择是基于所述检验系统的所述输出的所述特性执行。另外，所述计算机子系统经配置用于获取由所述输出获取子系统针对所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者产生的所述输出。在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处获取所述输出的所述输出获取子系统的所述分辨率高于所述检验系统的所述分辨率。所述系统进一步经配置用于基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出确定所述POI的一或多个特性。可如本文中描述那样进一步配置所述系统。另一实施例涉及一种用于确定样品上POI的一或多个特性的计算机实施方法。所述方法包含获取由检验系统针对样品上的POI的至少大多数实例产生且存储于计算机可读存储媒体中的所述检验系统的输出。所述检验系统以低于输出获取子系统的分辨率的分辨率获取所述输出。与所述输出的特性无关，所述检验系统存储在所述至少大多数实例处获取的所述输出。所述输出获取子系统包含至少一能源及检测器。所述输出获取子系统经配置以将由所述能源产生的能量引导到所述样品而所述检测器检测来自所述样品的能量且响应于所述检测到的能量产生输出。所述方法还包含选择由所述输出获取子系统产生所述输出的所述至少大多数实例中的一或多者。基于所述检验系统的所述输出的所述特性执行所述选择。另外，所述方法包含获取由所述输出获取子系统针对所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者产生的所述输出。所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处获取所述输出的所述分辨率高于所述检验系统的所述分辨率。另外，所述方法包含基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出确定所述POI的一或多个特性。由耦合到所述输出获取子系统的计算机子系统执行获取所述检验系统的所述输出、选择所述至少大多数实例中的所述一或多者、获取由所述输出获取子系统产生的所述输出及确定所述一或多个特性。所述计算机子系统包含经配置以执行来自存储器媒体的指令的一或多个处理器。可如本文中进一步描述那样进一步执行上文描述的方法的每一步骤。另外，上文描述的方法的实施例可包含本文中描述的任何其它方法的任何其它步骤。此外，上文描述的方法可由本文中描述的所述系统的任何者执行。另一实施例涉及一种存储程序指令的非暂时性计算机可读媒体，所述程序指令可在计算机系统上执行以执行用于确定样品上POI的一或多个特性的计算机实施方法。所述计算机实施方法包含上文描述的方法的步骤。可如本文中描述那样进一步配置所述计算机可读媒体。可如本文中进一步描述那样执行所述计算机实施方法的步骤。另外，可针对其执行所述程序指令的计算机实施方法可包含本文中描述的任何其它方法的任何其它步骤。附图说明在受益于优选实施例的以下详细描述的情况下且在参考附图之后，所属领域的技术人员将了解本专利技术的另外优点，其中：图1及1a是说明经配置以确定样品上所关注图案(POI)的一或本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种经配置以确定样品上所关注图案的一或多个特性的系统，其包括：输出获取子系统，其包括至少一能源及一检测器，其中所述输出获取子系统经配置以将由所述能源产生的能量引导到样品而所述检测器检测来自所述样品的能量且响应于所述检测到的能量产生输出；及计算机子系统，其包括经配置以执行来自存储器媒体的指令的一或多个处理器，其中所述计算机子系统经配置用于：获取由检验系统针对所述样品上的所关注图案的至少大多数实例产生且存储于计算机可读存储媒体中的所述检验系统的输出，其中所述检验系统以低于所述输出获取子系统的分辨率的分辨率获取所述输出，且其中与所述输出的特性无关，所述检验系统存储在所述至少大多数实例处获取的所述输出；选择由所述输出获取子系统产生所述输出的所述至少大多数实例中的一或多者，其中所述选择是基于所述检验系统的所述输出的所述特性而执行；获取由所述输出获取子系统针对所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者产生的所述输出，其中在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处获取所述输出的所述输出获取子系统的所述分辨率高于所述检验系统的所述分辨率；及基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出确定所述所关注图案的一或多个特性。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.24 US 62/209,231;2016.08.22 US 15/243,8091.一种经配置以确定样品上所关注图案的一或多个特性的系统，其包括：输出获取子系统，其包括至少一能源及一检测器，其中所述输出获取子系统经配置以将由所述能源产生的能量引导到样品而所述检测器检测来自所述样品的能量且响应于所述检测到的能量产生输出；及计算机子系统，其包括经配置以执行来自存储器媒体的指令的一或多个处理器，其中所述计算机子系统经配置用于：获取由检验系统针对所述样品上的所关注图案的至少大多数实例产生且存储于计算机可读存储媒体中的所述检验系统的输出，其中所述检验系统以低于所述输出获取子系统的分辨率的分辨率获取所述输出，且其中与所述输出的特性无关，所述检验系统存储在所述至少大多数实例处获取的所述输出；选择由所述输出获取子系统产生所述输出的所述至少大多数实例中的一或多者，其中所述选择是基于所述检验系统的所述输出的所述特性而执行；获取由所述输出获取子系统针对所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者产生的所述输出，其中在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处获取所述输出的所述输出获取子系统的所述分辨率高于所述检验系统的所述分辨率；及基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出确定所述所关注图案的一或多个特性。2.根据权利要求1所述的系统，其中在由所述检验系统产生的任何输出中不可检测基于所述输出获取子系统的所述输出确定的所述所关注图案的所述一或多个特性。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验系统识别所述样品上的所述所关注图案的所述至少大多数所述实例的位置而不检测所述样品上的缺陷，且其中未基于在所述所关注图案的所述实例处检测的缺陷执行选择所述至少大多数实例中的所述一或多者。4.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品上的所述所关注图案的所述实例由所述检验系统以子像素准确度定位。5.根据权利要求1所述的系统，其中针对所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者的所述输出由所述输出获取子系统通过以子像素准确度定位所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者而产生。6.根据权利要求1所述的系统，其中所述确定所述一或多个特性基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出结合针对所述所关注图案的所述实例中的至少一者产生的所述检验系统的所述输出而执行。7.根据权利要求1所述的系统，其中所述确定所述一或多个特性包括基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出结合针对所述所关注图案的所述实例中的至少一者产生的所述检验系统的所述输出的第一部分而确定所述所关注图案的所述一或多个特性的一或多个初始值；及基于所述一或多个初始值，选择存储于所述计算机可读存储媒体中针对所述所关注图案的所述实例中的至少一者产生的所述检验系统的所述输出的第二部分；及基于所述输出获取子系统在所述至少大多数实例中的所述所选择的一或多者处的所述输出结合针对所述所关注图案的所述实例的所述至少一者产生的所述检验系统的所述输出的所述第二部分而确定所述所关注图案的所述一或多个特性。8.根据权利要求1所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于确定所述所关注图案的所述一或多个特性的变化且基于所述变化确定所述变化的源。9.根据权利要求1所述的系统，其中所述所关注图案的所述经确定一或多个特性仅对应于所述所关注图案中的图案化偏差。10.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验系统的所述输出的所述特性包括由所述检验系统针对所述所关注图案的所述至少大多数所述实例产生的原始图像数据的特性。11.根据权利要求1所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于确定所述检验系统的所述输出的所述特性的一或多者与所述所关注图案的所述一或多个特性之间的一或多个关系且基于所述一或多个关系确定用于所述选择的一或多个参数。12.根据权利要求11所述的系统，其中使用机器学习执行确定所述一或多个关系。13.根据权利要求11所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于通过识别所述至少大多数实例的第一部分而对用于确定所述一或多个关系的所述所关注图案的所述至少大多数实例的所述检验系统的所述输出执行数据缩减，其中所述第一部分包含少于全部所述至少大多数所述实例，且其中仅基于由所述检验系统针对所述至少大多数实例的所述第一部分产生的所述输出的所述一或多个特性而执行确定所述一或多个关系。14.根据权利要求11所述的系统，其中所述计算机子系统进一步经配置用于通过识别光学相关的针对所述至少大多数实例的所述检验系统的所述输出的第一部分而对用于确定所述一或多个关系的针对所述所关注图案的所述至少大多数所述实例的所述检验系统的所述输出执行数据缩减且消除非光学相关的针对所述至少大多数实例的所述检验系统的所述输出的第二部分，且其中所...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·莱内克，A·帕克，B·达菲，A·库尔卡尼，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US