使用多射束工具的反向散射电子(BSE)成像制造技术

本发明专利技术揭示多射束扫描电子显微镜检验系统。多射束扫描电子显微镜检验系统可包含电子源及小射束控制机构。所述小射束控制机构可经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束且在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者。所述多射束扫描电子显微镜检验系统还可包含检测器，其经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像。

Backscatter electron (BSE) imaging using multiple beam tools

The invention discloses a multi beam scanning electron microscope inspection system. The multi beam scanning electron microscope inspection system can include an electronic source and a small beam control mechanism. The small beam control mechanism can be configured to produce a plurality of small beams by the electrons provided by the electronic source and one of the plurality of small beams is delivered toward the target at a certain time. The multi beam scanning electron microscope inspection system can also include a detector, which is configured to produce an image of the target at least partly based on the electrons that backscatter the target in reverse.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用多射束工具的反向散射电子(BSE)成像相关申请案的交叉参考本申请案根据35U.S.C.§119(e)主张2015年9月23日申请的第62/222,351号美国临时申请案的权益。所述第62/222,351号美国临时申请案的全文特此以引用的方式并入本文中。本申请案涉及同在申请中及共同待决的具有科磊(KLATencor)公司档案号码P4779且标题为“多射束暗场成像(Multi-BeamDarkFieldImaging)”并将道格拉斯·马沙娜特(DouglasMasnaghetti)等人列为专利技术者的美国专利申请案第(待被分配)，所述专利申请案的全文以引用的方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及检验系统领域，且尤其涉及电子射束检验系统。
技术介绍
薄抛光板(例如硅晶片及类似物)是现代技术的非常重要的部分。例如，晶片可指代集成电路及其它装置的制造中所使用的半导体材料的薄片。晶片经受缺陷检验，且扫描电子显微镜(SEM)检验被认为是晶片缺陷检验的最敏感的形式中的一者。扫描电子显微镜(SEM)是通过使用聚焦电子射束扫描目标(例如，晶片)来产生所述目标的图像的类型的电子显微镜。电子与目标中的原本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，其包括：电子源；小射束控制机构，其经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束，所述小射束控制机构进一步经配置以在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者；及检测器，其经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.23 US 62/222,351;2016.08.24 US 15/245,7651.一种设备，其包括：电子源；小射束控制机构，其经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束，所述小射束控制机构进一步经配置以在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者；及检测器，其经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述小射束控制机构包括可相对于多射束孔阵列移动的单孔板，其中利用所述单孔板与界定于所述多射束孔阵列上的孔阵列中的一者的对准来朝向所述目标递送所述多个小射束中的一者。3.根据权利要求1所述的设备，其中所述小射束控制机构包括消隐装置阵列，其经界定以对应于界定于多射束孔阵列上的孔阵列，其中利用所述消隐装置阵列的选择性接合及分离来朝向所述目标递送所述多个小射束中的一者。4.根据权利要求1所述的设备，其中所述小射束控制机构包括多射束孔阵列，其中消隐装置并入界定于所述多射束孔阵列上的每一孔内。5.根据权利要求1所述的设备，其中所述目标的所述图像包含所述目标的反向散射电子BSE图像。6.根据权利要求1所述的设备，其中所述检测器进一步经配置以：针对在两个或多于两个时刻朝向所述目标所递送的两个或多于两个小射束接收反向散射出所述目标的电子；且至少部分基于所接收的所述反向散射电子的总和而产生所述目标的所述图像。7.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：能量过滤器，其经配置以选择性地阻止所述检测器接收在所述多个小射束中的一者被递送到所述目标时所产生的次级电子。8.根据权利要求7所述的设备，其中所述能量过滤器经配置以阻止除最高能量反向散射电子之外的所有反向散射电子到达所述检测器。9.根据权利要求7所述的设备，其中所述能量过滤器包含能量过滤器阵列。10.根据权利要求7所述的设备，其中所述能量过滤器包含大面积全局能量过滤器。11.根据权利要求1所述的设备，其中所述检测器包含对应于所述多个小射束的检测器阵列。12.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：至少一个透镜，其定位于所述电子源与所述小射束控制机构之间，所述至少一个透镜经配置以使由所述电子源提供的所述电子聚焦到所述小射束控制机构上。13.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：至少一个偏转器或透镜，其经配置以将所述多个小射束中的一或多者会聚到所述目标上的单点。14.一种设备，其包括：电子源；小射束控制机构，其经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束，所述小射束控制机构进一步经配置以在某个时刻朝向目...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·麦科德，R·西蒙斯，D·马斯纳盖蒂，R·克尼彭迈耶，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US