非线性光学晶体的钝化制造技术

本发明专利技术是关于非线性光学晶体的钝化。本发明专利技术的一实施例包括暴露室，其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体，所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体；钝化气体源，其流体连接到所述暴露室，所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分；及衬底，其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内，所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度，所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。

Passivation of nonlinear optical crystals

The present invention relates to passivation of nonlinear optical crystals. An embodiment of the present invention includes exposure chamber configured to contain a passivation gas selected hydrogen concentration, the exposure chamber further by at least one NLO crystal the passivation gas configuration to include for exposure to the chamber; the passivation gas source, the fluid connected to the exposure chamber the inner part, the passivation gas source configured to passivation gas is supplied into the exposure chamber; and a substrate configured to be holding the NLO crystal in the chamber, the substrate is further configured to make the NLO crystal temperature is maintained at or close to the selected temperature, the selected the temperature is lower than the melting temperature of the NLO crystal.

【技术实现步骤摘要】
非线性光学晶体的钝化本申请是申请日为2012年10月05日、申请号为“201280059827.9”、专利技术名称为“非线性光学晶体的钝化”的专利技术专利申请的分案申请。相关申请案交叉参考本申请案涉及且主张来自下列申请案(“相关申请案”)的最早可用有效申请日期的权益(例如，主张除临时专利申请案以外的最早可用优先权日期或依据35USC§119(e)主张临时专利申请案、相关申请案的任何或全部父代申请案、祖父代申请案、曾祖父代申请案等的权益)。相关申请案：出于USPTO法外要求的目的，本申请案构成2011年10月7日提出申请的专利技术人为庄泳和(Yung-HoChuang)及弗拉基米尔·杜宾斯基(VladimirDribinski)、标题为“通过氢钝化实现的NLO晶体性质(NLOCRYSTALPROPERTIESBYHYDROGENPASSIVATION)”、申请号为61/544,425的美国临时专利申请案的正式(非临时)专利申请案。
本专利技术涉及非线性光学材料领域，且特定来说，涉及一种用于钝化非线性光学晶体以处置晶体缺陷的系统及方法。
技术介绍
许多现代激光系统需要非线性光学(NLO)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光系统，其包含：非线性光学(NLO)晶体，所述NLO晶体在选定的温度范围内退火，所述NLO晶体经氢、氘、含氢化合物或含氘化合物中的至少一者钝化至选定的钝化水平；至少一个光源，其经配置以产生选定波长的光，所述光源进一步经配置以将光传输穿过所述NLO晶体；及晶体外壳单元，其经配置以装纳所述NLO晶体。

【技术特征摘要】
2011.10.07 US 61/544,425;2012.06.05 US 13/488,6351.一种激光系统，其包含：非线性光学(NLO)晶体，所述NLO晶体在选定的温度范围内退火，所述NLO晶体经氢、氘、含氢化合物或含氘化合物中的至少一者钝化至选定的钝化水平；至少一个光源，其经配置以产生选定波长的光，所述光源进一步经配置以将光传输穿过所述NLO晶体；及晶体外壳单元，其经配置以装纳所述NLO晶体。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个光源以第一波长发出光。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述NLO以第二波长发出光，其中所述第二波长大约是所述第一波长的一半。4.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个光源包含：至少一个激光，其具有至少一个二极管泵激固态(DPSS)源。5.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个光源包含：至少一个激光，其具有至少一个光纤IR源。6.根据权利要求1所述的系统，其中悬键或断键中的至少一者在所述NLO晶体中经钝化气体修复。7.根据权利要求1所述的系统，其中所述钝化气体包含：氢、氘和惰性气体的混合物。8.根据权利要求1所述的系统，其中所述钝化气体包含：至少一种与氢、氘、含氢化合物或含氘化合物中的至少一者混合的惰性气体。9.根据权利要求1所述的系统，其中所述NLO晶体在室温至所述NLO晶体的熔点之间的温度退火。10.根据权利要求9所述的系统，其中所述NLO晶体在300℃至350℃之间的温度退火。11.根据权利要求1所述的系统，其中所述NLO晶体包含：β-硼酸钡(BBO)、三硼酸锂(LBO)、四硼酸锂(LTB)、硼酸铯锂(CLBO)、或硼酸铯(CBO)中的至少一者。12.根据权利要求1所述的系统，其进一步包含：一组光束成形光学器件。13.根据权利要求12所述的系统，其中所述一组光束成形光学器件经配置以将所述至少一个光源的输出聚焦至所述NLO晶体内。14.根据权利要求13所述的系统，其中所述一组光束成形光学器件经配置以将所述至少一个光源的所述输出聚焦至所述NLO晶体内的椭圆横截面高斯光束腰。15.根据权利要求12所述的系统，其中所述一组光束成形光学器件包含：一或多个变形光学器件。16.一种用于钝化非线性光学(NLO)晶体的晶体缺陷的方法，其包含以下步骤：提供非线性光学(NLO)晶体；将所述NLO晶体的温度保持在选定的温度范围内，...

【专利技术属性】
技术研发人员：勇霍·庄，弗拉基米尔·德里宾斯基，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US