The present invention relates to passivation of nonlinear optical crystals. An embodiment of the present invention includes exposure chamber configured to contain a passivation gas selected hydrogen concentration, the exposure chamber further by at least one NLO crystal the passivation gas configuration to include for exposure to the chamber; the passivation gas source, the fluid connected to the exposure chamber the inner part, the passivation gas source configured to passivation gas is supplied into the exposure chamber; and a substrate configured to be holding the NLO crystal in the chamber, the substrate is further configured to make the NLO crystal temperature is maintained at or close to the selected temperature, the selected the temperature is lower than the melting temperature of the NLO crystal.
【技术实现步骤摘要】
非线性光学晶体的钝化本申请是申请日为2012年10月05日、申请号为“201280059827.9”、专利技术名称为“非线性光学晶体的钝化”的专利技术专利申请的分案申请。相关申请案交叉参考本申请案涉及且主张来自下列申请案(“相关申请案”)的最早可用有效申请日期的权益(例如,主张除临时专利申请案以外的最早可用优先权日期或依据35USC§119(e)主张临时专利申请案、相关申请案的任何或全部父代申请案、祖父代申请案、曾祖父代申请案等的权益)。相关申请案:出于USPTO法外要求的目的,本申请案构成2011年10月7日提出申请的专利技术人为庄泳和(Yung-HoChuang)及弗拉基米尔·杜宾斯基(VladimirDribinski)、标题为“通过氢钝化实现的NLO晶体性质(NLOCRYSTALPROPERTIESBYHYDROGENPASSIVATION)”、申请号为61/544,425的美国临时专利申请案的正式(非临时)专利申请案。
本专利技术涉及非线性光学材料领域,且特定来说,涉及一种用于钝化非线性光学晶体以处置晶体缺陷的系统及方法。
技术介绍
许多现代激光系统需要 ...
【技术保护点】
一种用于光学检验一或多个样本的系统,其包含:样本载台;激光系统,其经配置以用于照射安置于所述样本载台上的一或多个样本的表面的一部分,所述激光系统包含:至少一个经钝化且经退火的NLO晶体,所述NLO晶体经充分退火以建立低于选定水平的水含量,所述NLO晶体进一步经充分钝化以建立选定钝化水平;至少一个光源,其经配置以产生选定波长的光,所述光源进一步经配置以将光传输穿过所述NLO晶体;及晶体外壳单元,其经配置以装纳所述NLO晶体;检测器,其经配置以接收从所述样本的所述表面反射的照射的至少一部分;及计算系统,其通信耦合到所述检测器,所述计算系统经配置以获取关于由所述检测器接收的照射的 ...
【技术特征摘要】
2011.10.07 US 61/544,425;2012.06.05 US 13/488,6351.一种用于光学检验一或多个样本的系统,其包含:样本载台;激光系统,其经配置以用于照射安置于所述样本载台上的一或多个样本的表面的一部分,所述激光系统包含:至少一个经钝化且经退火的NLO晶体,所述NLO晶体经充分退火以建立低于选定水平的水含量,所述NLO晶体进一步经充分钝化以建立选定钝化水平;至少一个光源,其经配置以产生选定波长的光,所述光源进一步经配置以将光传输穿过所述NLO晶体;及晶体外壳单元,其经配置以装纳所述NLO晶体;检测器,其经配置以接收从所述样本的所述表面反射的照射的至少一部分;及计算系统,其通信耦合到所述检测器,所述计算系统经配置以获取关于由所述检测器接收的照射的至少一部分的信息,所述计算系统进一步经配置以利用关于由所述检测器接收的照射的至少一部分的信息来确定所述样本的至少一个缺陷的存在或不存在。2.根据权利要求1所述的系统,其中所述激光系统的所述NLO晶体展现所述NLO晶体在IR、可见光及/或UV光谱中的一...
【专利技术属性】
技术研发人员:勇霍·庄,弗拉基米尔·德里宾斯基,
申请(专利权)人:科磊股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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