一种掩模图形修正方法技术

一种掩模图形修正方法，包括将期望得到的曝光图形定义为初始掩模图形M（）,定义标准单元图形的标准单元图形T（），将所述初始掩模图形转换为以所述标准单元图形表达的掩模图形信息,其中为二维坐标系中的坐标；标定所述标准单元图形通过光学成像系统的成像效果，建立光强映射表；根据所述掩模图形信息和所述光强映射表，计算获得成像方光强考察点的实际光强；根据所述实际光强与所述期望得到的曝光图形的期望光强的差值，计算获得掩模图形修正量，用于修正初始掩模图形。本发明专利技术在保证运算精度的同时，大幅提高运算速度。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种掩模图形修正方法，其特征在于，包括以下步骤：将期望得到的曝光图形定义为初始掩模图形M（）,定义标准单元图形T（????????????????????????????????????????????????），将所述初始掩模图形转换为以所述标准单元图形表达的掩模图形信息,其中为二维坐标系中的坐标；标定所述标准单元图形通过光学成像系统的成像效果，建立光强映射表；根据所述掩模图形信息和所述光强映射表，计算获得成像方光强考察点的实际光强；根据所述实际光强与所述期望得到的曝光图形的期望光强的差值，计算获得掩模图形修正量，用于修正初始掩模图形。939648dest_path_image001.jpg...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨志勇，白昂力，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：