【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种至少用于两种光刻机的曝光作业的通用掩模版，包括：多个第一掩模版对位标记，以及多个第二掩模版对位标记，?其中，所述第一掩模版用于第一种光刻机的曝光，所述第二掩模版用于第二种光刻机的曝光。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：宋矿宝，
申请(专利权)人：无锡华润华晶微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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