掩模版清洗水供给系统技术方案

一种掩模版清洗水供给系统，包括用以提供清洗用去离子水的一水箱；通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗；串设在该水箱与该供水阀之间的供水管路上的一增压泵；用以探测该增压泵的输出端水压的一水压传感器；以及与该水压传感器和增压泵均相连的一控制器，该控制器能够根据该水压传感器提供的信号对该增压泵的工作状态进行控制以调节该增压泵的输出端水压。能够很好地保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及掩模版的制造工艺，尤其涉及到掩模版的清洗用设备。
技术介绍
掩膜板是一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的玻璃载板。在掩膜板的制造过程中，通常是用DI水(De1nized Water，去离子水)进行清洗。DI水是利用RO反渗透+混床原理除去水中的各种离子、导电介质、不离解气体、胶体以及各种杂质的超纯水。现有的清洗用设备通常包括用以提供清洗DI水的一水箱、通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀、若干水泵以及用以控制这些水泵工作的一变频器，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗。现有的这种供给系统是依靠操作员通过手工实时调节水阀来控制DI水量的大小，难以保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提出一种掩模版清洗水供给系统，能够很好地保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种掩模版清洗水供给系统，其包括用以提供清洗用去离子水的一水箱和通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗；该供给系统还包括:串设在该水箱与该供水阀之间的供水管路上的一增压泵、用以探测该增压泵的输出端水压的一水压传感器以及与该水压传感器和增压泵均相连的一控制器，该控制器能够根据该水压传感器提供的信号对该增压泵的工作状态进行控制以调节该增压泵的输出端水压。在一些实施例中，该增压泵具有变频电机。在一些实施例中，该控制器为变频器。在一些实施例中，该供给系统还包括一水压表，用以监测并显示该供水管路上的水压。在一些实施例中，该供给系统还包括至少一水泵以及用以控制该至少一水泵工作的一控制单元。在一些实施例中，该控制单元包括一变频器，所述的控制器是指该变频器。本技术的有益效果在于，通过采用水压传感器来实时测量水压，并将该压力探测信号输送给变频器，该变频器能够实时地调节增压泵的输出压力，以使清洗用水的水压实时地满足设定要求，能够很好地保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。【附图说明】下面将结合附图及实施例对本技术作进一步说明，附图中:图1为本技术掩模版清洗水供给系统的原理框图示意。图2为本技术的供给系统中有关设备的电气连接图。图3为本技术的供给系统中有关设备的电气控制图。【具体实施方式】现结合附图，对本技术的较佳实施例作详细说明。参见图1至图3，图1为本技术掩模版清洗水供给系统的原理框图示意。图2为本技术的供给系统中有关设备的电气连接图。图3为本技术的供给系统中有关设备的电气控制图。本技术提供一种掩模版清洗水供给系统，其包括:用以提供清洗用去离子水的一水箱I ;通过一供水管路3与该水箱I连通的一供水阀2，该供水阀2的出水能够用于掩模版的清洗；串设在该水箱I与该供水阀2之间的供水管路3上的的一增压泵61、用以探测该增压泵61的输出端水压的一水压传感器62以及与该水压传感器51和增压泵62均相连的一控制器63，该控制器63能够根据该水压传感器62提供的信号对该增压泵61的工作状态进行控制以调节该增压泵61的输出端水压。在本实施例中，该增压泵61具有变频电机。该控制器63为变频器。该供给系统还包括一水压表(图未示出)，用以监测并显示该供水管路3上的水压。结合参见图2，该供给系统包括多个水泵以及用以控制这些水泵工作的一控制单元。在本实施例中，这些水泵大致包括原水泵、一级高压泵、二级高压泵、供水泵以及清洗泵。该供给系统还包括用于进行水处理的一 EDI电源。本技术增添的与该增压泵61相关的设备61a，与这些水泵并列设置。相应地，结合参见图3，本技术除了与原有设备运行相关的控制机构之外，增添了与该增压泵61运行相关的控制机构63a。在本实施例中，该控制单元包括一变频器，前述的控制器63是指该变频器。在其他实施例中，前述的控制器63也可以采用独立于该变频器的微处理器电路来实现。可以理解的是，上述的增压泵61、水压传感器62以及控制器63共同构成了一水压自动调节装置6，该水压自动调节装置6的运行原理大致包括:当供水阀2打开时，水压传感器62实时感应到供水管路3的压力变化，通过变频器63控制增压泵61来调整水压。而在增设该水压自动调节装置6之前，当供水阀2打开时，出水管路(相当于供水管路3的位于增压泵61上游的部分)和回水管路(相当于供水管路3的位于增压泵61下游的部分)的压力同时释放，水压瞬间增大，回水管路压力释放完后，水压又恢复正常。本技术的有益效果在于，通过采用水压传感器62来实时测量水压，并将该压力探测信号输送给变频器62，该变频器62能够实时地调节增压泵63的输出压力，以使清洗用水的水压实时地满足设定要求，能够很好地保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。应当理解的是，以上实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制，对本领域技术人员来说，可以对上述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部技术特征进行等同替换；而这些修改和替换，都应属于本技术所附权利要求的保护范围。【主权项】1.一种掩模版清洗水供给系统，其包括用以提供清洗用去离子水的一水箱和通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗；其特征在于，该供给系统还包括:串设在该水箱与该供水阀之间的供水管路上的一增压泵、用以探测该增压泵的输出端水压的一水压传感器以及与该水压传感器和增压泵均相连的一控制器，该控制器能够根据该水压传感器提供的信号对该增压泵的工作状态进行控制以调节该增压泵的输出端水压。2.根据权利要求1所述的掩模版清洗水供给系统，其特征在于:该增压泵具有变频电机。3.根据权利要求1所述的掩模版清洗水供给系统，其特征在于:该控制器为变频器。4.根据权利要求1所述的掩模版清洗水供给系统，其特征在于:该供给系统还包括一水压表，用以监测并显示该供水管路上的水压。5.根据权利要求1至4任一项所述的掩模版清洗水供给系统，其特征在于:该供给系统还包括至少一水泵以及用以控制该至少一水泵工作的一控制单元。6.根据权利要求5所述的掩模版清洗水供给系统，其特征在于:该控制单元包括一变频器，所述的控制器是指该变频器。【专利摘要】一种掩模版清洗水供给系统，包括用以提供清洗用去离子水的一水箱；通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗；串设在该水箱与该供水阀之间的供水管路上的一增压泵；用以探测该增压泵的输出端水压的一水压传感器；以及与该水压传感器和增压泵均相连的一控制器，该控制器能够根据该水压传感器提供的信号对该增压泵的工作状态进行控制以调节该增压泵的输出端水压。能够很好地保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。【IPC分类】E03B7-07, B08B13-00, E03B11-02【公开号】CN204523724【申请号】CN201520156443【专利技术人】王健 【申请人】深圳市龙图光电有限公司【公开日】2015年8月5日【申请日】2015年3月18日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模版清洗水供给系统，其包括用以提供清洗用去离子水的一水箱和通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗；其特征在于，该供给系统还包括：串设在该水箱与该供水阀之间的供水管路上的一增压泵、用以探测该增压泵的输出端水压的一水压传感器以及与该水压传感器和增压泵均相连的一控制器，该控制器能够根据该水压传感器提供的信号对该增压泵的工作状态进行控制以调节该增压泵的输出端水压。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王健，
申请(专利权)人：深圳市龙图光电有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44