掩模版的清洗方法及装置制造方法及图纸

技术编号:10371815 阅读:163 留言:0更新日期:2014-08-28 13:59
本发明专利技术提供一种掩模版的清洗方法及装置,所述方法包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。本发明专利技术提供的一种掩模版的清洗方法及装置,大大缩短了掩模版的清洗周期,提高了清洗产能,并降低了材料残留的几率。

【技术实现步骤摘要】
掩模版的清洗方法及装置
本专利技术涉及有机电致发光显示器件制作领域,尤其涉及一种掩模版的清洗方法和>J-U ρ?α装直。
技术介绍
平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(LiquidCrystal Display,IXD)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Display, OLED)。有机电致发光器件由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。从使用的有机电致发光材料的分子量来看,有机电致发光器件分为小分子有机电致发光器件(OLED)和高分子电致发光器件(PLED),由于分子量的不同,有机电致发光器件的制程也有很大的区别,OLED主要通过热蒸镀方式制备,PLED通过旋涂或者喷墨打印方式制备。OLED通常包括:基板、置于基板上的ITO透明阳极、置于ITO透明阳极上的空穴注入层(HIL)、置于空穴注入层上的空穴传输层(HTL)、置于空穴传输层上的发光层(EML)、置于发光层上的电子传输层(ETL)、置于电子传输层上的电子注入层(EIL)以及置于电子注入层上的阴极。为了提高效率,发光层通常采用主/客体掺杂系统。目前OLED制作的主要方式是加热蒸发镀膜,掩模版一般都是选用金属制作的掩模版,经过一段时间的蒸镀之后需要对金属掩模版进行清洗,以保证掩模版不会因材料附着而发生精度变化,传统的掩模版清洗采用湿式药液浸泡清洗,存在清洗时间长,药液纯度要求闻,有材料残留的等缺点。图1为现有的掩模版的清洗装置的结构示意图,包括药液湿式清洗槽500、药液湿式洗涤槽600及干燥槽700。200为待清洗的OLED金属掩模版。该方法首先将待清洗的OLED金属掩模版200置于装有药液的药液湿式清洗槽500中对OLED金属掩模版表面的有机材料进行清洗,然后将清洗后的OLED金属掩模版置于装有洗涤剂的药液湿式洗涤槽600中,对前一道工序中带出的药液进行漂洗,最后把漂洗后的OLED金属掩模版置于干燥槽700中进行干燥处理。该方法具有清洗时间长,药液纯度要求高,有材料残留等缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种掩模版的清洗方法,克服了传统药液浸泡清洗时间长、效率低的问题,大大缩短了清洗周期,提高了清洗产能,并降低材料残留的几率。本专利技术的另一目的在于提供一种掩模版的清洗装置,结构简单,操作方便,功能实用,有效提高了掩模版的清洗效率。为实现上述目的,本专利技术供一种掩模版的清洗方法,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。所述掩模版用于OLED的蒸镀制程。所述步骤2与步骤3在一微波干式清洗槽里进行,所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的药液喷淋头,通过微波发生装置对掩模版进行微波加热,通过药液喷淋头对掩模版喷淋药液。在所述步骤2与3中,所述待清洗掩模版倾斜放置于微波干式清洗槽内,所述有机材料膜层朝上,且所述药液喷淋头为低速药液喷淋头。所述步骤4在一药液湿式清洗槽中进行清洗,所述药液湿式清洗槽装有药液,所述掩模版浸没于药液中。所述步骤5在一药液湿式洗涤槽中进行漂洗,所述药液湿式洗涤槽装有洗涤液,所述掩模版浸没于洗漆液中。[0021 ] 所述步骤6在所述微波干式清洗槽里进行。本专利技术还提供一种掩模版的清洗装置,包括一微波干式清洗槽、一药液湿式清洗槽及一药液湿式洗涤槽,所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的低速药液喷淋头。所述微波干式清洗槽、药液湿式清洗槽及药液湿式洗涤槽依次相邻放置。所述药液湿式清洗槽中装有药液,所述药液湿式洗涤槽中装有洗涤液,所述掩模版由金属制成,用于OLED的蒸镀制程。本专利技术的有益效果:本专利技术提供的一种掩模版的清洗方法及装置,通过引入微波干式清洗方法和装置,对进入药液湿式清洗槽之前的掩模版做前期的微波处理,使进入药液湿式清洗槽之前掩模版上附着的有机材料大大减少,从而提高掩模版的清洗效果及清洗效率,大大缩短了清洗周期,提高了清洗产能,并有利于整体提升OLED显示器的产能。为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
,请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本专利技术加以限制。【附图说明】下面结合附图,通过对本专利技术的【具体实施方式】详细描述,将使本专利技术的技术方案及其它有益效果显而易见。附图中,图1为现有掩模版的清洗装置的结构示意图;图2为本专利技术掩模版的清洗装置的结构示意图;图3为本专利技术掩模版的清洗方法的流程图;图4为本专利技术掩模版的清洗方法步骤2的操作示意图;图5为所述步骤2中掩模版经微波处理前后的变化示意图;图6为本专利技术掩模版的清洗方法步骤3的操作示意图;图7为本专利技术掩模版的清洗方法步骤4的操作示意图;图8为本专利技术掩模版的清洗方法步骤5的操作示意图;图9为本专利技术掩模版的清洗方法步骤6的操作示意图。【具体实施方式】为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果,以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图2-9,本专利技术提供一种掩模版的清洗装置10,用于清洗一待清洗的掩模版20,包括一微波干式清洗槽40、一药液湿式清洗槽50及一药液湿式洗涤槽60,所述微波干式清洗槽40包括槽体41、设于槽体底部的微波发生装置45、及设于槽体顶部的低速药液嗔淋头43。所述微波干式清洗槽40、药液湿式清洗槽50及药液湿式洗涤槽60依次相邻放置。所述低速药液喷淋头43工作时对掩模版20喷淋药液432。所述药液湿式清洗槽50中装有药液432,所述药液湿式洗涤槽60中装有洗涤液62,所述掩模版20由金属制成,用于OLED的蒸镀制程。本专利技术还提供一种掩模版的清洗方法,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗的掩模版20,该掩模版20由金属制成,其上附有有机材料膜层21。所述掩模版20用于OLED的蒸镀制程。步骤2、对该待清洗的掩模版20进行微波加热,使附着在掩模版20的有机材料膜层21破碎。如图4所示,所述步骤2在微波干式清洗槽40里进行,所述微波干式清洗槽40包括槽体41、设于槽体底部的微波发生装置45、及设于槽体顶部的药液喷淋头43,通过微波发生装置45对掩模版20进行微波加热,所述待清洗掩模版20倾斜放置于微波干式清洗槽40内,所述有机材料膜层21朝上。如图5所示,掩模版20上的有机材料膜层21经过微波的极化偏转摩擦,由内及外发生破裂,变成小块碎片。步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版20喷淋药液432,将破碎的有机材料膜层21冲洗脱离掩模版20。如图6所示,所述步骤3在微波干式清洗槽40里进行,所述待清洗掩模版20倾斜放置于微波干式清洗槽40内,所本文档来自技高网
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掩模版的清洗方法及装置

【技术保护点】
一种掩模版的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。

【技术特征摘要】
1.一种掩模版的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤: 步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层; 步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎; 步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版; 步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗; 步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液; 步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。2.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法,其特征在于,所述掩模版用于OLED的蒸镀制程。3.如权利要求1所述的掩模版的清洗方法,其特征在于,所述步骤2与步骤3在一微波干式清洗槽里进行,所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的药液喷淋头,通过微波发生装置对掩模版进行微波加热,通过药液喷淋头对掩模版喷淋药液。4.如权利要求3所述的掩模版的清洗方法,其特征在于,在所述步骤2与3中,所述待清洗掩模版倾斜放置于微波干式清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员:匡友元
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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