掩模版的制作方法及曲面液晶面板的制作方法技术

本发明专利技术公开一种掩模版的制作方法，包括：对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；弯曲所述液晶盒至预定形状；点亮所述液晶盒；在所述制备表面上量测漏光区域的尺寸；以及依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版。本发明专利技术还公开一种曲面液晶面板的制备方法。通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能够用于形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵。

Method for manufacturing mask and method for manufacturing curved surface liquid crystal panel

The invention discloses a manufacturing method, mask: the box array substrate and a color film substrate to form a liquid crystal box, the liquid crystal box includes a surface preparation form a black matrix, one side of the surface preparation in the array substrate from the color film substrate side or the color film the substrate from the array substrate; bending the liquid crystal box to a predetermined shape; the liquid crystal light box; in the preparation of surface measuring light leakage region size; and according to the leaky region size corresponding to the formation of mask. The invention also discloses a method for preparing a curved surface liquid crystal panel. The mask formed by the method of making the mask can be used to form a black matrix of a high-quality surface liquid crystal panel.

【技术实现步骤摘要】
掩模版的制作方法及曲面液晶面板的制作方法
本专利技术涉及液晶显示面板
，尤其涉及一种掩模版的制作方法以及一种曲面液晶面板的制作方法。
技术介绍
大尺寸、轻薄、高分辨率和高品质画面是目前显示器的发展趋势。普通的大尺寸VA(VerticalAlignment，垂直配向)液晶显示器具有窄视角、色偏、失真的技术的局限性，为了突破目前的技术弊端，曲面液晶显示器应运而生。曲面液晶显示器以他的更宽广的可视角度、减少近距离观看的失真度、产品的差异化等优点逐渐受到青睐。曲面液晶面板是曲面液晶显示器的核心组成部分。现有的曲面液晶面板的制程过程为：先完成制作平面状态的液晶面板，再将此平面状态的液晶面板弯曲，形成曲面液晶面板。现有的曲面液晶面板处于平面状态时，其阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate)上的数据线与彩膜基板(ColorFilterSubstrate)上的黑色矩阵对应。但当对该液晶面板进行弯曲，使其处于曲面状态时，由于曲面液晶面板具有一定的弧度，弯曲后的彩膜基板与阵列基板之间会产生相对滑动，使得黑色矩阵与数据线不再对应，而是相对于曲面液晶面板的径向产生了错位，从而导致出现漏光、串扰等缺陷，造成曲面液晶面板的显示图像失真，光学品味下降。如何形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵是为业界难题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种掩模版的制作方法，通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能够用于形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵。此外，还提供一种曲面液晶面板的制备方法。为了实现上述目的，本专利技术实施方式采用如下技术方案：一方面，提供一种掩模版的制作方法，包括：对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；弯曲所述液晶盒至预定形状；点亮所述液晶盒；在所述制备表面上量测漏光区域的尺寸；以及依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版。其中，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：提供衬底；依据所述漏光区域的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述漏光区域，以形成所述掩模版。其中，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：获取同一批次的多个所述液晶盒的所述漏光区域的尺寸；计算多个所述漏光区域的尺寸的平均值，以获得待形成黑色矩阵的尺寸；提供衬底；以及依据所述待形成黑色矩阵的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述待形成黑色矩阵，以形成所述掩模版。其中，所述漏光区域的尺寸包括所述漏光区域中心点与所述制备表面中心点之间的距离和所述漏光区域的轮廓尺寸。其中，所述漏光区域的轮廓尺寸包括所述漏光区域的每个轮廓边的长度和/或所述漏光区域的每个轮廓端点与所述制备表面中心点之间的距离。其中，所述预定形状为具有预定曲率半径的弧形。另一方面，还提供一种曲面液晶面板的制作方法，包括：对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；通过掩模版在所述制备表面形成黑色矩阵，所述掩模版由权利要求1～6任一项所述的掩模版的制作方法制作而成。其中，还包括：在所述液晶盒的另一侧形成第一偏光片，在所述黑色矩阵的远离所述液晶盒的一侧形成第二偏光片，以形成待弯曲液晶面板；弯曲所述待弯曲液晶面板，以形成曲面液晶面板。其中，所述“通过掩模版在所述制备表面形成黑色矩阵”包括：在所述制备表面上形成黑色矩阵涂层；通过纳米压印技术将所述掩模版的所述凹槽的图形转印至所述黑色矩阵涂层上，以形成所述黑色矩阵。其中，所述纳米压印技术为热压印技术或激光纳米压印技术。。相较于现有技术，本专利技术具有以下有益效果：由于所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，也即所述液晶盒不包括黑色矩阵，所述液晶盒被弯曲成对应于所述曲面液晶面板形状的预定形状，因此弯曲后的所述液晶盒被点亮后的所述漏光区域即为所述曲面液晶面板的待形成黑色矩阵所需要布置的区域。由于所述掩模版对应于所述漏光区域的尺寸，因此通过所述掩模版所形成的黑色矩阵被应用于曲面液晶面板时，能够防止所述曲面液晶面板出现漏光、串扰等缺陷，避免所述曲面液晶面板出现显示图像失真，所述曲面液晶面板的光学品味高。故而，通过所述掩模版的制作方法所形成的掩模版能够用于形成高质量的曲面液晶面板的黑色矩阵。由于通过所述掩模版的制作方法所制作而成的掩模版能够有效遮挡所述曲面液晶面板的漏光区域，防止所述曲面液晶面板出现漏光、串扰等缺陷，避免所述曲面液晶面板出现显示图像失真，因此本实施例所述曲面液晶面板的制作方法所形成的所述液晶显示面板良率高。所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧，所述黑色矩阵形成在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧时，所述黑色矩阵既可改善色偏，同时还可作为所述阵列基板的薄膜晶体管的遮光层，用于降低光生载流子引起的漏电流偏大问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S10所对应的结构示意图。图2是本专利技术实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S20所对应的结构示意图。图3是本专利技术实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S30所对应的结构示意图。图4是本专利技术实施例提供的一种曲面液晶面板的制作方法中步骤S40所对应的结构示意图。图5是本专利技术实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S01所对应的结构示意图。图6是本专利技术实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S02所对应的结构示意图。图7是本专利技术实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S03所对应的结构示意图。图8是本专利技术实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S04所对应的结构示意图。图9是本专利技术实施例提供的一种掩模版的制作方法中步骤S05所对应的结构示意图。图10是本专利技术实施例提供的一种曲面液晶面板的彩膜基板的结构示意图。图11是本专利技术实施例提供的一种曲面液晶面板的阵列基板的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。此外，以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本专利技术，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置在…本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模版的制作方法，其特征在于，包括：对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；弯曲所述液晶盒至预定形状；点亮所述液晶盒；在所述制备表面上量测漏光区域的尺寸；以及依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版。

【技术特征摘要】
1.一种掩模版的制作方法，其特征在于，包括：对盒阵列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩阵的制备表面，所述制备表面位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧或所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧；弯曲所述液晶盒至预定形状；点亮所述液晶盒；在所述制备表面上量测漏光区域的尺寸；以及依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版。2.如权利要求1所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：提供衬底；依据所述漏光区域的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述漏光区域，以形成所述掩模版。3.如权利要求1所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述“依据所述漏光区域的尺寸形成对应的掩模版”包括：获取同一批次的多个所述液晶盒的所述漏光区域的尺寸；计算多个所述漏光区域的尺寸的平均值，以获得待形成黑色矩阵的尺寸；提供衬底；以及依据所述待形成黑色矩阵的尺寸在所述衬底上形成图案化的凹槽，所述凹槽的图形对应于所述待形成黑色矩阵，以形成所述掩模版。4.如权利要求1～3任一项所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述漏光区域的尺寸包括所述漏光区域中心点与所述制备表面中心点之间的距离和所述漏光区域的轮廓尺寸。5.如权利要求4任一项所述的掩模版的制作方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：林碧芬，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44