快速定位单个通孔位置的方法技术

本发明专利技术涉及微电子光学临近修正领域，具体涉及一种快速定位单个通孔位置的方法，具体包括以下步骤：首选采用网格法滤除部分不符合规定的通孔，然后移动网格再次将不符合条件的通孔进行进一步滤除，然后放大剩余的通孔，并进行进一步判断，得到符合规定的单个通孔，最后将单个通孔做光学临近修正处理，放大单个通孔的关键尺寸，避免在金属光刻工艺中造成瞎窗现象的产生。采用本发明专利技术提供的技术方案大大缩短了传统技术中检测单个通孔所耗费的时间，极大提高了生产效率，进而降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种快速定位单个通孔位置的方法，应用于金属通孔的光刻工艺流程中，其特征在于，所述方法包括：?提供一具有多个通孔图案的版图；?采用网格法滤除部分不符合要求的通孔图案；?将剩余的通孔图案进行放大，以筛选出单个通孔；?对所述单个通孔进行光学临近修正处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：夏国帅，何大权，魏芳，张旭升，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：