【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光学临近效应修正方法，包括步骤：提供原始设计图形数据；将所述原始设计图形数据分为第一类尺寸图形和第二类尺寸图形，所述第一类尺寸图形的尺寸大于所述第二类尺寸图形的尺寸；使用第一方法对所述第一类尺寸图形进行OPC建模处理，得到第一类尺寸图形OPC模型；使用第二方法对所述第二类尺寸图形进行OPC建模处理，得到第二类尺寸图形OPC模型；将所述第一类尺寸图形OPC模型和第二类尺寸图形OPC模型进行整合，得到混合仿真OPC模型。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈翰，魏芳，张旭升，储志浩，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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