版图数据的处理方法技术

技术编号:9170230 阅读:136 留言:0更新日期:2013-09-19 18:33
本发明专利技术提供了一种版图数据的处理方法。产生包括正方形图形的初始版图数据;对初始版图数据进行OPC修正;对经过OPC修正的版图数据进行掩模板最小规则检查,以查找出违反掩模板最小规则的正方形图形;对经过OPC修正的版图数据进行修改,使得违反掩模板最小规则的正方形图形中的至少一部分正方形图形旋转特定角度,以形成旋转后正方形图形,其中正方形图形的旋转以正方形图形的中心作为旋转中心。本发明专利技术利用版图数据处理解决了图形违反掩模板最小规则的技术问题,在不增加成本或者降低OPC修正准确度的情况下,能够增加掩模板上OPC修正后的孔间距尺寸,使原来违反掩模板最小制造精度的版图变为符合。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种版图数据的处理方法,其特征在于包括:第一步骤:产生包括正方形图形的初始版图数据;第二步骤:对初始版图数据进行OPC修正;第三步骤:对经过OPC修正的版图数据进行掩模板最小规则检查,以查找出违反掩模板最小规则的正方形图形;第四步骤:对经过OPC修正的版图数据进行修改,使得违反掩模板最小规则的正方形图形中的至少一部分正方形图形旋转特定角度,以形成旋转后正方形图形,其中正方形图形的旋转以正方形图形的中心作为旋转中心。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张辰明张旭升魏芳
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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