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本发明提供了一种版图数据的处理方法。产生包括正方形图形的初始版图数据；对初始版图数据进行OPC修正；对经过OPC修正的版图数据进行掩模板最小规则检查，以查找出违反掩模板最小规则的正方形图形；对经过OPC修正的版图数据进行修改，使得违反掩模板...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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