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一种掩模图形修正方法，包括将期望得到的曝光图形定义为初始掩模图形M（）,定义标准单元图形的标准单元图形T（），将所述初始掩模图形转换为以所述标准单元图形表达的掩模图形信息,其中为二维坐标系中的坐标；标定所述标准单元图形通过光学成像系统的成像...
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