【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种校正布局图形的方法，其特征在于，包括：提供包括多个第一孔图形的第一布局图形；在所述第一孔图形中形成辅助图形，获得第二布局图形，所述辅助图形的尺寸小于光刻过程中的曝光分辨率；对所述第二布局图形进行光学邻近校正，获得第一修正图形，所述第一修正图形包括第一孔修正图形和辅助修正图形；模拟所述第一修正图形获得实际图形，所述实际图形与所述第一布局图形之间的边缘位置误差在预定范围之内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张婉娟，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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