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一种校正布局图形的方法,包括:提供包括多个第一孔图形的第一布局图形;在所述第一孔图形中形成辅助图形,获得第二布局图形,所述辅助图形的尺寸小于光刻过程中的曝光分辨率;对所述第二布局图形进行光学邻近校正,获得第一修正图形,所述第一修正图形包括第...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种校正布局图形的方法,包括:提供包括多个第一孔图形的第一布局图形;在所述第一孔图形中形成辅助图形,获得第二布局图形,所述辅助图形的尺寸小于光刻过程中的曝光分辨率;对所述第二布局图形进行光学邻近校正,获得第一修正图形,所述第一修正图形包括第...