【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻机硅片台双台交换系统,该系统应用于半导体光刻机中,属于半导体制造设备
技术介绍
在光刻机磁浮硅片台双台交换系统中,由于两个硅片台没有推杆或是其它限位,完全依靠传感器的位置测量来控制硅片台在平衡块上的位置和姿态;此外,由于硅片台结构精密,所以,若在交换时或者控制系统失灵时,两个硅片台发生碰撞,损失将无法估量,因此,硅片台的防撞结构非常重要。另外,在两个硅片台发生碰撞时,除了会损坏零部件之外,还有可能发生反弹,如果发生这种情况时,测量系统将无法正常工作,必须重新寻向和归零,严重影响生产效率,因此,防撞系统需要安装有稳定的缓冲结构,可使发生碰撞的硅片台可以迅速停止运动。现有技术的防撞结构采用在双侧加装悬臂杆,在悬臂杆上加装位置传感器,如果两个硅片台距离过近,传感器发生报警,可以快速反应使运动的硅片台迅速停止,但如果控制系统失控,则会先撞坏悬臂杆,再撞到硅片台,无法实现双重保护。在结构设计上,如果在硅片台外围加装防撞杆、距离传感器和缓冲器等,就会使硅片台的尺寸变得很大,并且增加了大量的零部件和传感器,对于集成度要求极高的设备来说,结构变更 ...
【技术保护点】
一种具有防撞功能的硅片台,该硅片台含有硅片台台体(1)和线缆台(2),所述的线缆台安装在硅片台的一个侧面,其特征在于:所述硅片台还含有三个气囊(3)、四个阻尼缓冲元件(4)和气源(6),所述的三个气囊串联布置,并分别通过气囊支架(5)固定在硅片台的另外三个侧面上;相邻两个气囊之间通过一个阻尼缓冲元件(4)和气体管路相连通,所述的气体管路与气源(6)相连通,气体管路固定在线缆台上。
【技术特征摘要】
1.一种具有防撞功能的硅片台,该硅片台含有硅片台台体(I)和线缆台(2),所述的线缆台安装在硅片台的一个侧面,其特征在于所述硅片台还含有三个气囊(3)、四个阻尼缓冲元件(4)和气源(6),所述的三个气囊串联布置,并分别通过气囊支架(5)固定在硅片台的另外三个侧面上;相邻两个气囊之间通过一...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱煜,张鸣,刘召,杨开明,徐登峰,田丽,张利,秦慧超,王平安,尹文生,胡金春,穆海华,
申请(专利权)人:清华大学,
类型:发明
国别省市:
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