角度分解散射仪和检验方法技术

本发明专利技术公开了一种角度分解散射仪和一种检验方法，其中在角度分解散射仪中，设置孔板，所述孔板包括至少一个遮挡部分，所述遮挡部分延伸入光瞳平面的像中。根据在所述遮挡部分的像的最内点和光瞳的像的名义中心之间的径向距离确定目标图案的离焦量的值。通过在多个不同离焦位置上采用参考板捕捉多个用于进行归一化的像并从目标图案的测量光谱中减去合适的用于进行归一化值，而对离焦误差进行补偿。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种可用于例如在通过光刻技术的器件制造中的检验方法，并涉及一种采用光刻技术制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印(imprinting)到所述衬底上，将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。为了监测光刻工艺，需要测量被图案化的衬底的参数，例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检验方法，所述检验方法用于确定与通过用于在衬底上制造器件层的光刻工艺而被印刷在衬底上的目标图案的参数相关的值，所述方法包括：采用包括高数值孔径的物镜的光学系统，所述物镜具有物平面和光瞳平面以将第一辐射束引导到参考部件上，以收集由所述参考部件反射或散射的辐射，并将第二辐射束进行投影，从而在像平面中形成物镜的光瞳平面的像；沿着大致垂直于所述物平面的方向相对地移动参考部件和光学系统，以便将所述参考部件定位在与物平面具有不同距离的多个位置上；当参考部件位于所述多个位置中的每一个上时，捕捉所述参考部件的散射仪光谱；将所述参考部件的散射仪光谱存储为多个用于归一化的光谱；采用光学系统将第一辐射束引导到目...

【技术特征摘要】
2007.04.17 US 11/785,4261.一种检验方法，所述检验方法用于确定与通过用于在衬底上制造器件层的光刻工艺而被印刷在衬底上的目标图案的参数相关的值，所述方法包括 采用包括高数值孔径的物镜的光学系统，所述物镜具有物平面和光瞳平面以将第一辐射束引导到参考部件上，以收集由所述参考部件反射或散射的辐射，并将第二辐射束进行投影，从而在像平面中形成物镜的光瞳平面的像； 沿着大致垂直于所述物平面的方向相对地移动参考部件和光学系统，以便将所述参考部件定位在与物平面具有不同距离的多个位置上； 当参考部件位于所述多个位置中的每一个上时，捕捉所述参考部件的散射仪光谱； 将所述参考部件的散射仪光谱存储为多个用于归一化的光谱； 采用光学系统将第一辐射束引导到目标图案上，以收集由所述目标图案反射或散射的辐射，并将第二辐射束进行投影，从而在像平面中形成物镜的光瞳平面的像； 捕捉所述目标图案的散射仪光谱； 确定目标图案和物平面之间的距离； 基于所确定的在所述目标图案和物平面之间的距离获得用于进行归一化的光谱； 采用所获得的用于进行归一化的光谱对所述目标图案的光谱进行归一化，以获得归一化光谱；以及 根据所述归一化光谱确定与所述参数相关的值。2.根据权利要求1所述的方法，其中获得用于进行归一化...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃瑞·杰弗里·登勃夫，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：