一种基于多组独立驱动解耦控制的六自由度磁浮微动台制造技术

基于多组独立驱动解耦控制的六自由度磁浮微动台属于半导体制造装备；该装置包括微动台底座、载物台以及在二者之间呈等边三角形布置的三组相同结构的独立驱动装置；每组独立驱动均可以产生水平和垂向驱动力且具有永磁体磁浮重力补偿功能；在微动台底座和载物台中心位置处对应固装平面光栅读数头和平面光栅尺，在微动台底座边缘处布置三个或多个电容传感器，实现六自由度的解耦测量；该装置具有结构紧凑，易于加工装配、发热量小，水平驱动力大的优点，适用于光刻机工件台水平高速高加速运动的工作需求和严苛的恒温环境需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体制造装备
，主要涉及一种基于多组独立驱动解耦控制的六自由度磁浮微动台。
技术介绍
光刻机是极大规模集成电路制造中关键的超精密装备，同时也是摩尔定律能够得到持续验证的保证。光刻机的分辨率和套刻精度决定了集成电路芯片的最小线宽，而对最小线宽的不断追求使更高密度的集成电路得以实现。另外，为降低集成电路芯片的生产成本，光刻机的产率也是光刻技术追求的目标。光刻机工件台技术作为光刻机的三大核心技术之一，在很大程度上决定了光刻机的分辨率、套刻精度和产率。双工件台技术是目前提高光刻机生产效率的主流技术手段，相对于单纯提高工件 台的速度和加速度而言，技术难度更低，效果更好。目前的代表产品为荷兰ASML公司基于TwinScan技术即双工件台技术的光刻机。光刻机中工件台主要分为掩模台和硅片台，掩模台承载光刻掩模板而硅片台则承载硅片运动，为解决硅片和掩模板在高速高加速运动条件下大行程和高精度之间的矛盾，有人提出了宏微结合的驱动技术。即掩模台和硅片台均采用宏动装置承载微动台的复合运动控制模式，利用宏动装置实现微动台的大行程而微动台六自由度超精密控制对其进行补偿，最终实现硅片和掩模板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于多组独立驱动解耦控制的六自由度磁浮微动台，其特征在于所述微动台包括微动台底座(1)和载物台(2)，在微动台底座(1)和载物台(2)之间呈等边三角形配置安装第一独立驱动(3A)、第二独立驱动(3B)和第三独立驱动(3C)；在微动台底座(1)中心位置处、位于第一、二、三独立驱动(3A、3B、3C)内侧部位固装平面光栅读数头(5)，且在载物台(2)中心位置对应布置平面光栅尺(6)，在微动台底座(1)边缘处布置三个以上电容位移传感器(4)；所述的第一独立驱动(3A)包括第一独立驱动动子磁钢(3A?1)、第一独立驱动定子磁钢I(3A?2)、第一独立驱动定子磁钢II(3A?3)、第一独立驱动定子线...

【技术特征摘要】
1.一种基于多组独立驱动解耦控制的六自由度磁浮微动台，其特征在于所述微动台包括微动台底座(I)和载物台(2)，在微动台底座(I)和载物台(2)之间呈等边三角形配置安装第一独立驱动(3A)、第二独立驱动(3B)和第三独立驱动(3C);在微动台底座(I)中心位置处、位于第一、二、三独立驱动(3A、3B、3C)内侧部位固装平面光栅读数头(5)，且在载物台(2)中心位置对应布置平面光栅尺￠)，在微动台底座(I)边缘处布置三个以上电容位移传感器(4);所述的第一独立驱动(3A)包括第一独立驱动动子磁钢(3A-1)、第一独立驱动定子磁钢I (3A-2)、第一独立驱动定子磁钢II (3A-3)、第一独立驱动定子线圈I (3A-4)和第一独立驱动定子线圈II (3A-5)，其中第一独立驱动动子磁钢(3A-1)固装在...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭久彬，杨远源，王雷，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：