显影喷涂设备及喷涂方法技术

本发明专利技术提供一种显影喷涂设备及喷涂方法，所述显影喷涂设备包括：至少一个第一喷头，用于沿第一方向朝所述基板喷涂显影液；至少一个第二喷头，用于沿第二方向朝所述基板喷涂显影液，其中所述第一方向与所述第二方向不同。通过沿不同方向朝基板喷涂显影液，相对于现有技术显影液相对基板静止，本发明专利技术所述显影喷涂设备使得显影液在基板上具有不同流动方向，从而达到基板不同区域的显影液浓度均一的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示面板制造领域，尤其设计ー种。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示器的制备エ艺中，通常采用半曝光的方式对光刻胶进行曝光，然后经过显影和刻蚀，最終在防静电区和像素区形成TFT (薄膜场效应晶体管)的源扱、漏极和沟道。在整个Panel(面板)的布局中，像素区的走线较为稀疏，而扇出区(Fanout区)和Pad区的走线很稠密,显影时扇出区(Fanout区)和数据端子区(Pad区)要显影掉的光刻胶比像素区要少的多。如图1所示，在喷涂显影液时，显影液是垂直喷下，在玻璃基板前进过程中，显影液相对玻璃基板基本是静止的，所以就导致扇出区(Fanout区)和数据端子区(Pad区)附近的显影液浓度较像素区要高ー些，这些区域附近的防静电区TFT和像素TFT上方涂布的光刻胶容易被过显影，导致沟道中光刻胶厚度偏薄或者断开，刻蚀后导致TFT的开关特性丧失。同时，位于Fanout区和Pad区的信号线的线宽均一性也会受显影浓度的影响而与像素区有差异。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供ー种，使基板不同区域的显影液浓度趋向均一。本专利技术一方面提供ー种显影喷涂设备，用于为基板喷涂显影液，包括至本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影喷涂设备，用于为基板喷涂显影液，其特征在于，包括：至少一个第一喷头，用于沿第一方向朝所述基板喷涂显影液；至少一个第二喷头，用于沿第二方向朝所述基板喷涂显影液，其中所述第一方向与所述第二方向不同。

【技术特征摘要】
1.一种显影喷涂设备，用于为基板喷涂显影液，其特征在于，包括 至少一个第一喷头，用于沿第一方向朝所述基板喷涂显影液； 至少一个第二喷头，用于沿第二方向朝所述基板喷涂显影液，其中所述第一方向与所述第二方向不同。2.如权利要求1所述的显影喷涂设备，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角小于90度。3.如权利要求1或2所述的显影喷涂设备，其特征在于，所述基板相对于所述第一喷头和所述第二喷头朝第三方向移动，所述第一方向相对于所述第三方向垂直，所述第二喷头沿所述第三方向设置于所述第一喷头的一侧。4.如权利要求3所述的显影喷涂设备，其特征在于，所述第一方向垂直于所述基板，所述第三方向平行于所述基板。5.如权利要求1所述的显影喷涂设备，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵海廷，孙亮，张治超，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：