【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及工程曝光设备
,特别是涉及ー种曝光机。
技术介绍
随着有机膜在光刻エ艺中的广泛应用,曝光需要的时间越来越长并且曝光效果也有待提高,因此曝光成为整个光刻エ艺的瓶颈,严重影响了工程效率。现有的工程曝光机都是采用水平曝光方式,如图1所示,被曝光物03水平放置在载物台04上,光02从光源装置01中射出,从上向下对物体曝光。这种曝光机的载物台为实体结构,载物台与被曝光物的整个表面接触,这种曝光机的弊端为,如图2所示,当光线02通过被曝光物03后,仍有少量的光05被载物台04反射到被曝光物03上,因此在被曝光物03上形成载物台斑点。载物台斑点,是ー种很严重的斑点,使得产品显示效果出现异常。另外,由于被曝光物是直接接触载物台,容易产生很多不良,被曝光物上除载物台斑点外,还容易有颗粒附着,并且被曝光物与载物台接触摩擦还容易产生静电等。
技术实现思路
本专利技术提供了一种曝光机,以避免在被曝光物上形成载物台斑点,提高曝光质量。本专利技术的曝光机,包括载物框,所述载物框的边框内侧设置有固定被曝光物的固定件;光源装置,位于所述载物框所在平面的ー侧,且出光方向垂直于所述 ...
【技术保护点】
一种曝光机,其特征在于,包括:载物框,所述载物框的边框内侧设置有固定被曝光物的固定件;光源装置,位于所述载物框所在平面的一侧,且出光方向垂直于所述载物框所在平面。
【技术特征摘要】
1.一种曝光机,其特征在于,包括 载物框,所述载物框的边框内侧设置有固定被曝光物的固定件; 光源装置,位于所述载物框所在平面的一侧,且出光方向垂直于所述载物框所在平面。2.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述载物框为吸光材料的载物框。3.如权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述吸光材料的载物框具体为铝合金载物框或银纳米材料载物框。4.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述固定件为卡夹或真空吸盘。5.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,还包括 水平设置的托台,所述载物框竖直设置于所述托台上。6.如权利要求5所述的曝光机,其特征在于,所述托台上...
【专利技术属性】
技术研发人员:陆忠,李炳天,黄丽娟,靳福江,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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