一种制备包含第一相和第二相的氧化物溅射靶的方法技术

本发明专利技术涉及一种制备氧化物溅射靶的方法。所述方法包括如下步骤：提供靶座；通过同时喷射至少一种氧化物和至少一种金属在所述靶座上施加可溅射材料的外层。所述可溅射材料的外层包含第一相和第二相。所述第一相包含至少第一金属和第二金属的氧化物；所述第二相包含处于其金属性相形式的金属。处于其金属性相形式的所述金属形成设置于所述第一相的氧化物之中或之间的不连续体积。所述外层包含０．１－２０ｗｔ％的处于其金属性相形式的金属。本发明专利技术还涉及氧化物溅射靶。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，其中第一相包 含第一金属和第二金属的氧化物，且第二相包含金属。本专利技术还涉及一种包含第一相和第二相的氧化物溅射靶，其中第一相包含第一金 属和第二金属的氧化物，且第二相包含金属。
技术介绍
在过去的几十年里，磁控溅射已经成为沉积薄涂层如金属涂层或陶瓷涂层的广为 人知的技术。溅射技术典型地用于施加于沉积光学涂层。透明导电氧化物如铟锡氧化物(ITO) 成为重要的一类光学涂层，这是由于它们结合了导电性和光学透明性。施加范围从平板显 示器、智能窗、触摸面板、电致发光灯到EMI屏蔽施加。ITO涂层可以通过反应溅射金属铟锡合金靶或者通过非反应溅射或伪(pseudo) 反应溅射由陶瓷氧化物靶获得。反应溅射金属铟锡合金靶的缺点在于，需要精确的反应气体控制系统以能够使所 需的化学计量均勻沉积于基底上方并且保证该方法在一段时间里是稳定的(滞后效应)。 US 2007/0141536公开了一种用于反应溅射方法的金属靶。通过在金属靶中加入一定量的 氧化物使滞后效应得到了限制。另一方面，用氧化物靶进行溅射具有的缺点是，在溅射靶表面的腐蚀部分形成球 结(nodule)。这些球结被认为是铟和/或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备氧化物溅射靶的方法，所述方法包括如下步骤：－提供靶座；－通过同时喷射至少一种氧化物和至少一种金属在所述靶座上施加可溅射材料的外层，所述的外层包含第一相和第二相，所述第一相包含至少第一金属和第二金属的氧化物，所述第二相包含处于其金属性相形式的金属，其中处于其金属性相形式的所述金属形成设置于所述第一相的所述氧化物之中或之间的不连续体积，所述外层包含０．１－２０ｗｔ％的处于其金属性相形式的金属。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP08159926.82008年7月8日1.一种制备氧化物溅射靶的方法，所述方法包括如下步骤-提供靶座；-通过同时喷射至少一种氧化物和至少一种金属在所述靶座上施加可溅射材料的外 层，所述的外层包含第一相和第二相，所述第一相包含至少第一金属和第二金属的氧化物， 所述第二相包含处于其金属性相形式的金属，其中处于其金属性相形式的所述金属形成设 置于所述第一相的所述氧化物之中或之间的不连续体积，所述外层包含0. l-20wt%的处于 其金属性相形式的金属。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述外层包含0.l-5wt%的处于其金属性相形式 的金属，所述外层的余量为氧化物。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第二相的所述金属由所述氧化物的所述 第一金属或所述氧化物的所述第二金属组成。4.根据上述任一权利要求所述的方法，其中所述氧化物的所述第一金属和/或所述氧 化物的所述第二金属选自元素周期表中的IIa族元素、元素周期表中的nb族元素、元素周 期表中的IIIa族元素、元素周期表中的IVa族元素、钛、铌、钽、钼和锑。5.根据上述任一权利要求所述的方法，其中所述氧化物的所述第一金属选自镁、钙、 钛、锌、镉、镓、铟和锡。6.根据上述任一权利要求所述的方法，其中所述氧化物的所述第二金属选自镁、钙、 钛、铌、钽、钼、锌、镉、硼、铝、镓、铟、锗、锡和锑。7.根据上述任一权利要求所述的方法，其中所述氧化物选自铟锡氧化物、铟锌氧化物、 镉锡氧化物、锌锡氧化物、锌铟氧化物、锌铝氧化物、镁铟氧化物和镓铟氧化物。8.根据上述任一权利要求所述的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·德尔吕，
申请(专利权)人：贝卡尔特先进涂层公司，
类型：发明
国别省市：BE