溅射靶及溅射靶的处理方法技术

技术编号:7129904 阅读:189 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种可通过简单处理分离成分金属的溅射靶以及该溅射靶的处理方法。根据本发明专利技术的溅射靶的处理方法是通过对连接由作为非氢脆性材料的第1材料组成的第1靶部(3)与由作为氢脆性材料的第2材料组成的第2靶部(4)的溅射靶(1)进行氢脆化处理,从而从溅射靶(1)中分离第2靶部(4),并回收第2材料和回收第1材料。利用第1材料和第2材料的氢脆性差异,分离、回收第1材料和第2材料。第1材料和第2材料能够得到有效回收。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及构成材料容易回收的。
技术介绍
作为成膜方法的一种的溅射法是使具有高能量的粒子碰撞由金属等组成的溅射靶(以下,称为靶)的表面(被溅射面),并使从靶放出的原子堆积在基体材料上的成膜方法。在溅射中,为了在基体材料的表面均勻成膜,需要使用具有一定的被溅射面积的靶。 已使用过的供溅射的靶可以作为金属材料再利用。尤其是近年来,随着平板显示器(Flat Panel Display, FPD)等基体材料(成膜对象)的大面积化、成膜材料的高价化等,已使用过的靶材的再利用的重要性也随之增加。一般在溅射法中,根据上述原理,基体材料的组分与靶的组分有关。因此,在形成合金膜时,使用由合金组成的靶。然而,对于合金组成的靶,存在由于难以分离构成合金的金属(成分金属),因此由于用作合金组分而受到限制,与单一金属组成的靶相比,其再利用价值明显降低的问题。一方面,在形成合金膜时,即使通过对连接由各成分金属分别组成的多个靶片的靶进行溅射,也可以在基体材料上形成合金膜。例如,专利文献1公开了一种通过固相扩散连接靶材来形成靶的方法。在该方法中,可以使用热等静压机等对由相同种类或不同种类的材料组成的靶材进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射靶的处理方法,其特征在于:通过对连接由作为非氢脆性材料的第1材料组成的第1靶部与由作为氢脆性材料的第2材料组成的第2靶部的溅射靶进行氢脆化处理,从而从该溅射靶中分离该第2靶部;回收该第2材料;回收该第1材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:大场彰
申请(专利权)人:株式会社爱发科
类型:发明
国别省市:JP

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