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本发明提供了一种可通过简单处理分离成分金属的溅射靶以及该溅射靶的处理方法。根据本发明的溅射靶的处理方法是通过对连接由作为非氢脆性材料的第１材料组成的第１靶部（３）与由作为氢脆性材料的第２材料组成的第２靶部（４）的溅射靶（１）进行氢脆化处理，...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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