【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光电镀膜材料，尤其涉及一种氧化铌溅射靶材的制备方法。
技术介绍
氧化铌溅射靶材是制备高折射率薄膜的溅射材料，应用在液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、触摸屏(TouchPanel)、光学镜片等方面。通常的制备方法是将五氧化二铌原料，填装到成型模具中压实，放置于高温烧结炉中烧结，烧结温度1100-1500°C，由于烧结温度较低，无法致原料失氧，所制备出的靶材不具导电性，无法起辉放电溅射。为了让靶材具备一定的导电性，一般是在五氧化二铌原料中参入1-5%的金属铌粉，以增强导电性，但这样做的弊端是：靶材具备了金属属性，所制备出的光电薄膜透光率下降，影响薄膜品质。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种能保证在溅射工艺过程中有效起辉放电溅射的氧化铌溅射靶材的制备方法。为了解决上述技术问题，本专利技术的技术方案为：氧化铌溅射靶材的制备方法，包括如下步骤：原料造粒：取纯度不低于99.99％的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中球化造粒；高温脱氧喷涂：将原料造粒步骤中所得原料装入供粉箱，将原料通过管道输送至低压高温等离子喷涂枪焰体内，原料被高温等离子焰瞬间熔化成液滴状，被高速焰流喷涂到靶材基管表面，喷涂沉积到预定厚度；等离子焰温度为15000～20000°C，焰流速度＞150m/s，在无氧高温的等离子焰体中，原料中的一部分氧键被均匀的脱去，通过XRD对靶材进行分析所得靶材的化学分子式为Nb2O4.9，采用四探针电阻仪测试所得靶材电阻率为0.06Ω·cm；机械加工：待喷涂所得靶材到达所定尺寸后，对成型的靶材进行外形机械加工，加工后进行清...
【技术保护点】
氧化铌溅射靶材的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：原料造粒：取纯度不低于99.99％的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中球化造粒；高温脱氧喷涂：将原料造粒步骤中所得原料装入供粉箱，将原料通过管道输送至低压高温等离子喷涂枪焰体内，原料被高温等离子焰瞬间熔化成液滴状，被高速焰流喷涂到靶材基管表面，喷涂沉积到预定厚度；等离子焰温度为15000～20000°C，焰流速度＞150m/s，在无氧高温的等离子焰体中，原料中的一部分氧键被均匀的脱去，通过XRD对靶材进行分析所得靶材的化学分子式为Nb2O4.9，采用四探针电阻仪测试所得靶材电阻率为0.06Ω·cm；机械加工：待喷涂所得靶材到达所定尺寸后，对成型的靶材进行外形机械加工 ，加工后进行清洁包装即得到氧化铌溅射靶材。
【技术特征摘要】
1.氧化铌溅射靶材的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：原料造粒：取纯度不低于99.99％的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中球化造粒；高温脱氧喷涂：将原料造粒步骤中所得原料装入供粉箱，将原料通过管道输送至低压高温等离子喷涂枪焰体内，原料被高温等离子焰瞬间熔化成液滴状，被高速焰流喷涂到靶材基管表面，喷涂沉积到预定厚度；等离子焰温度为1...
【专利技术属性】
技术研发人员：施玉良，
申请(专利权)人：法柯特科技江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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