【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】CEACD3双特异性抗体和PD-1轴结合拮抗剂在治疗癌症的剂量方案中的用途专利
本专利技术涉及癌症的治疗,特别是使用CEACD3双特异性抗体和PD-1轴结合拮抗剂的癌症的治疗。专利技术背景T细胞激活性双特异性抗体是一类新颖的癌症治疗剂,设计用于使得啮合细胞毒性T细胞针对肿瘤细胞。此类抗体对T细胞上的CD3和在肿瘤细胞上表达的抗原的同时结合会促成肿瘤细胞和T细胞之间的暂时相互作用,引起T细胞的激活和随后肿瘤细胞的裂解。CEATCB(RG7802,RO6958688,cibisatamab)是一种新颖的T细胞激活性双特异性抗体,靶向肿瘤细胞上的CEA和T细胞上的CD3ε。在小鼠模型中,CEATCB展示有力的抗肿瘤活性,导致升高的肿瘤内T细胞浸润和激活并上调PD-L1/PD-1途径。它当前在两项正在进行的剂量扩大I期研究中接受测试,在具有晚期CEA阳性肿瘤的患者中作为单一疗法或与阿特珠单抗组合给予。已经证明建立T细胞激活性双特异性抗体的安全且有效剂量给药方案具有挑战性。对于数种T细胞激活性双特异性抗体,...
【技术保护点】
1.一种治疗癌症的方法,其包含施用CEA CD3双特异性抗体和PD-1轴结合拮抗剂,/n其中每周(QW)或每三周(Q3W)以固定剂量施用该CEA CD3双特异性抗体,且每3周(Q3W)施用该PD-1轴结合拮抗剂。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171214 EP 17207423.9;20180305 EP 18160044.61.一种治疗癌症的方法,其包含施用CEACD3双特异性抗体和PD-1轴结合拮抗剂,
其中每周(QW)或每三周(Q3W)以固定剂量施用该CEACD3双特异性抗体,且每3周(Q3W)施用该PD-1轴结合拮抗剂。
2.权利要求1的方法,其中在每个治疗周期(C)的第1天(D1),第8天(D8)和第15天(D15)每周(QW)或在每个治疗周期(C)的第1天(D1)每3周(Q3W)施用该CEACD3双特异性抗体。
3.权利要求1的方法,其中该CEACD3双特异性抗体的固定剂量是约80mg至约160mg,特别是约100mg。
4.一种治疗癌症的方法,其包含施用CEACD3双特异性抗体和PD-1轴结合拮抗剂,
其中最初每周(QW)以扩大剂量施用某个数目的该CEACD3双特异性抗体的施用,并且随后每周(QW)或每3周(Q3W)以固定剂量施用该CEACD3双特异性抗体,
且每3周(Q3W)施用该PD-1轴结合拮抗剂。
5.权利要求4的方法,其中最初每周(QW)以扩大剂量施用3,4,5或6次该CEACD3双特异性抗体的施用。
6.权利要求4或5的方法,其中随后以与最后一次的扩大剂量相同的剂量施用该CEACD3双特异性抗体。
7.权利要求4-6任一项的方法,其中最初在每个治疗周期(C)的第1天(D1),第8天(D8)和第15天(D15)每周(QW)以扩大剂量施用该CEACD3双特异性抗体。
8.权利要求4-7任一项的方法,其中在第一个治疗周期的第1天(C1D1)以约40mg的剂量,在第一个治疗周期的第8天(C1D8)以约150mg的剂量,在第一个治疗周期的第15天(C1D15)以约300mg的剂量,在第二个治疗周期的第1天(C2D1)以约600mg的剂量,在第二个治疗周期的第8天(C2D8)以约900mg的剂量,在第二个治疗周期的第15天(C2D15)以约1200mg的剂量,和在第三个(C3D1)和随后治疗周期的第1天以约1200mg的剂量施用该CEACD3双特异性抗体。
9.权利要求4-7任一项的方法,其中在第一个治疗周期的第1天(C1D1)以约40mg的剂量,在第一个治疗周期的第8天(C1D8)以约150mg的剂量,在第一个治疗周期的第15天(C1D15)以约600mg的剂量,和在第二个(C2D1)和随后治疗周期的第1天以约1200mg的剂量施用该CEACD3双特异性抗体。
10.权利要求4-7任一项的方法,其中在第一个治疗周期的第1天(C1D1)以约40mg的剂量,在第一个治疗周期的第8天(C1D8)以约100mg的剂量,在第一个治疗周期的第15天(C1D15)以约150mg的剂量,和在第二个(C2D1)和随后治疗周期的第1天以约150mg的剂量施用该CEACD3双特异性抗体。
11.权利要求4-7任一项的方法,其中在第一个治疗周期的第1天(C1D1)以约40mg的剂量,在第一个治疗周期的第8天(C1D8)以约150mg的剂量,在第一个治疗周期的第15天(C1D15)以约300mg的剂量,在第二个(C2D1)和随后治疗周期的第1天以约600mg的剂量施用该CEACD3双特异性抗体。
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【专利技术属性】
技术研发人员：S·布塞达，F·桑多瓦尔·莫拉莱斯，J·M·萨罗·苏亚雷斯，
申请(专利权)人：豪夫迈·罗氏有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH
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