一种溅射装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种溅射装置，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够中心旋转；被溅镀物设置在第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方；主遮挡板单元设置在第一旋转靶材、第二旋转靶材及被溅镀物之间；溅镀罩单元设置在主遮挡板单元及被溅镀物之间；控制部用于控制第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；第一旋转靶材、第二旋转靶材侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。本方案能够满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或能够在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射装置
本技术涉及一种溅射装置，更详细来说涉及使用两种溅镀物质用多种组成比对被溅镀物进行溅镀或按照一定的组成比对被溅镀物进行溅镀的一种溅射装置。
技术介绍
通常使用等离子现象的溅射装置显示较高的溅镀率，溅镀薄膜的均匀度高，再现性好，能够快速处理，因此在多个产业领域被广泛使用。但一般的溅射装置在一个工艺中只使用一种靶材，根据相关靶材的物理性质，只能获得一种薄膜。因此，为了得到多种物理性质的薄膜，需要追加进行工艺或追加装置。因此需要开发一种溅射装置，可以满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。
技术实现思路
本技术考虑到所述问题而提出，其目的是提供利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的混合薄膜的一种溅射装置。根据本技术提供的一种溅射装置，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；其中：第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够以中心轴为中心旋转；所述被溅镀物设置在所述第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射装置，其特征在于，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；其中：第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够以中心轴为中心旋转；所述被溅镀物设置在所述第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方，被溅镀所述第一旋转靶材、第二旋转靶材分别释放的溅镀物质；所述主遮挡板单元设置在所述第一旋转靶材、第二旋转靶材及所述被溅镀物之间并且覆盖或暴露所述被溅镀物；所述溅镀罩单元设置在所述主遮挡板单元及所述被溅镀物之间并且能够水平方向移动、备有溅镀模板；所述控制部用于控制所述第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；所述第一旋转靶材、第二旋转靶材...

【技术特征摘要】
1.一种溅射装置，其特征在于，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；其中：第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够以中心轴为中心旋转；所述被溅镀物设置在所述第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方，被溅镀所述第一旋转靶材、第二旋转靶材分别释放的溅镀物质；所述主遮挡板单元设置在所述第一旋转靶材、第二旋转靶材及所述被溅镀物之间并且覆盖或暴露所述被溅镀物；所述溅镀罩单元设置在所述主遮挡板单元及所述被溅镀物之间并且能够水平方向移动、备有溅镀模板；所述控制部用于控制所述第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；所述第一旋转靶材、第二旋转靶材的正棱柱的侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。2.根据权利要求1所述的一种溅射装置，其特征在于，还包括精密遮挡板单元和被溅镀物移动...

【专利技术属性】
技术研发人员：白雨成，全义九，李相文，张昌泳，丁钟国，边娜恩，
申请(专利权)人：株式会社SELCOS，胜显上海商贸有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR