一种溅射装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种溅射装置，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够中心旋转；被溅镀物设置在第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方；主遮挡板单元设置在第一旋转靶材、第二旋转靶材及被溅镀物之间；溅镀罩单元设置在主遮挡板单元及被溅镀物之间；控制部用于控制第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；第一旋转靶材、第二旋转靶材侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。本方案能够满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或能够在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射装置
本技术涉及一种溅射装置，更详细来说涉及使用两种溅镀物质用多种组成比对被溅镀物进行溅镀或按照一定的组成比对被溅镀物进行溅镀的一种溅射装置。
技术介绍
通常使用等离子现象的溅射装置显示较高的溅镀率，溅镀薄膜的均匀度高，再现性好，能够快速处理，因此在多个产业领域被广泛使用。但一般的溅射装置在一个工艺中只使用一种靶材，根据相关靶材的物理性质，只能获得一种薄膜。因此，为了得到多种物理性质的薄膜，需要追加进行工艺或追加装置。因此需要开发一种溅射装置，可以满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。
技术实现思路
本技术考虑到所述问题而提出，其目的是提供利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的混合薄膜的一种溅射装置。根据本技术提供的一种溅射装置，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；其中：第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够以中心轴为中心旋转；所述被溅镀物设置在所述第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方，被溅镀所述第一旋转靶材、第二旋转靶材分别释放的溅镀物质；所述主遮挡板单元设置在所述第一旋转靶材、第二旋转靶材及所述被溅镀物之间并且覆盖或暴露所述被溅镀物；所述溅镀罩单元设置在所述主遮挡板单元及所述被溅镀物之间并且能够水平方向移动、备有溅镀模板；所述控制部用于控制所述第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；所述第一旋转靶材、第二旋转靶材的正棱柱的侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。优选地，还包括精密遮挡板单元和被溅镀物移动单元，其中：所述精密遮挡板单元设置在所述主遮挡板单元与所述被溅镀物之间，能够决定溅镀领域；所述被溅镀物移动单元固定所述被溅镀物，并对应所述溅镀领域，能够水平方向移动所述被溅镀物。优选地，所述第一旋转靶材、第二旋转靶材的形状是正六角柱。优选地，所述第一旋转靶材与第二旋转靶材之间设置有隔板。优选地，所述第一旋转靶材、第二旋转靶材被设置为与所述被溅镀物相对的正棱柱的一面位于与所述被溅镀物形成锐角的位置。优选地，所述精密遮挡板单元包括为了开放选定组成比的溅镀薄膜的部分而形成的第一精密遮挡板及第二精密遮挡板，及直线移动第一精密遮挡板及第二精密遮挡板的精密遮挡板驱动部。与现有技术相比，本技术具有如下的有益效果：1、本技术能够满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜；2、本技术能够在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。附图说明图1是本技术一个实施例的溅射装置的概念图。图2是根据本技术一个实施例在溅射装置上精密遮挡板单元工作的情况的概念图。图3是为了说明根据本技术一个实施例，在溅射装置上2种靶材释放的2种溅镀物质在被溅镀物上溅镀的浓度变化的示意图。图4是根据本技术一个实施例，在溅射装置上使用的溅镀罩的一个例子的示意图。图5是为了说明根据本技术一个实施例，在溅射装置上使用溅镀罩进行溅镀的情况的示意图。图6是为了说明根据本技术一个实施例，在溅射装置上形成2种溅镀物质的组成比为70：30的溅镀薄膜时，第1及第二精密遮挡板的位置的示意图。图7是为了说明根据本技术一个实施例，在溅射装置上形成2种溅镀物质的组成比为20：80的溅镀薄膜时，第1及第二精密遮挡板的位置的示意图。图8为显示根据本技术一个实施例的溅镀方法的顺序图。图中示出：1：溅射装置10：溅镀腔12：隔板20，30：旋转靶材21，31：靶材22，32：电极24，34：靶材驱动部26，36：靶材电源部40：主遮挡板单元41，42：主遮挡板44：主遮挡板驱动部50：精密遮挡板单元51，52：精密遮挡板54：精密遮挡板驱动部60：溅镀罩单元61：溅镀罩64：溅镀罩驱动部70：被溅镀物移动单元71：移动板74：被溅镀物驱动部80：被溅镀物90：控制部具体实施方式下面结合具体实施例对本技术进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本技术，但不以任何形式限制本技术。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变化和改进。这些都属于本技术的保护范围。图1是显示本技术一个实施例的溅射装置的概念图，图2是是根据本技术一个实施例在溅射装置上精密遮挡板单元工作的情况的概念图。参考图1及图2，根据本技术的一个实施例，溅射装置1包括溅镀腔10、第一旋转靶材20、第二旋转靶材30、主遮挡板单元40、精密遮挡板单元50、溅镀罩单元60、被溅镀物移动单元70及控制部90。溅镀腔10，形成被溅镀物80被溅镀的空间，为了使溅镀物质能够被溅镀到被溅镀物80上，维持真空状态，里面填充了惰性气体如氩Ar。溅镀腔10的上部设置第一旋转靶材20和第二旋转靶材30。在本实施例中，第一旋转靶材20和第二旋转靶材30被平行设置在溅镀腔10的顶部。第一旋转靶材20的形状为正棱柱，设置为可以以正棱柱中心轴为中心旋转。具体来说，第一旋转靶材20可以是正三角柱、正四角柱、正五角柱、正六角柱、正七角柱、正八角柱等截面为正多角形的柱状形态。在本实施例中，第一旋转靶材20是正六角柱。第一旋转靶材20的每个侧面设置不同材质的。靶材21可以是单一物质或2种化学物质混合形成的混合物质。靶材21的底部备有可以向靶材21施加特定电压的电极22通常为阴极。靶材21被施加特定的电压时，可以把被溅镀到被溅镀物80的溅镀物质81释放出来。而本实施例中，第一旋转靶材20上设置可以释放6种溅镀物质的6种靶材21。同时，第一旋转靶材20由第1靶材驱动部24带动旋转，并与电源部26连接。第1靶材驱动部24可包括发动机。因此控制第1靶材驱动部24就可以控制第一旋转靶材20的旋转角度。由此，控制第1靶材驱动部24，可以选择与被溅镀物80相对的第一旋转靶材20的靶材21a。此时，控制第一旋转靶材20与被溅镀物80相对的正棱柱的侧面，本实施例中为正六角柱的一个侧面，使其与被溅镀物80形成锐角。优选地，控制第一旋转靶材20的一个侧面与被溅镀物80形成约30度到60度范围的角。此时，与被溅镀物80相对的第一旋转靶材20的一个侧面向着隔板12上倾斜。举例来说，与被溅镀物80相对的第一旋转靶材20的正六角柱的一个侧面与被溅镀物80可以形成约45度的角。同时，第一旋转靶材与被溅镀物的距离，根据靶材与被溅镀物的性质适当地确定。例如，第一旋转靶材与被溅镀物的距离可以被设定在50～200mm的范围。第1靶材电源部26的被设置为可以向靶材21的底部设置的电极22施加电压。因此第1靶材电源部26可以分别向各个靶材21施加不同的电压。当第1靶材电源部26施加电压，只有与被溅镀物80相对的靶材21a释放溅镀物质S1。第二旋转靶材30与第一旋转靶材20并列，形状为正棱柱，设置为可以以正棱柱中心轴为中心旋转。第二旋转靶材30的形状和结构与第一旋转靶材20相同，因此省略相关说明。但第二旋转靶材30的侧面设置的6种靶材31，与第一旋转靶材20的侧面设置的6种靶材21不同。因此，根据本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射装置，其特征在于，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；其中：第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够以中心轴为中心旋转；所述被溅镀物设置在所述第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方，被溅镀所述第一旋转靶材、第二旋转靶材分别释放的溅镀物质；所述主遮挡板单元设置在所述第一旋转靶材、第二旋转靶材及所述被溅镀物之间并且覆盖或暴露所述被溅镀物；所述溅镀罩单元设置在所述主遮挡板单元及所述被溅镀物之间并且能够水平方向移动、备有溅镀模板；所述控制部用于控制所述第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；所述第一旋转靶材、第二旋转靶材的正棱柱的侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。

【技术特征摘要】
1.一种溅射装置，其特征在于，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；其中：第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够以中心轴为中心旋转；所述被溅镀物设置在所述第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方，被溅镀所述第一旋转靶材、第二旋转靶材分别释放的溅镀物质；所述主遮挡板单元设置在所述第一旋转靶材、第二旋转靶材及所述被溅镀物之间并且覆盖或暴露所述被溅镀物；所述溅镀罩单元设置在所述主遮挡板单元及所述被溅镀物之间并且能够水平方向移动、备有溅镀模板；所述控制部用于控制所述第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；所述第一旋转靶材、第二旋转靶材的正棱柱的侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材。2.根据权利要求1所述的一种溅射装置，其特征在于，还包括精密遮挡板单元和被溅镀物移动...

【专利技术属性】
技术研发人员：白雨成，全义九，李相文，张昌泳，丁钟国，边娜恩，
申请(专利权)人：株式会社SELCOS，胜显上海商贸有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR