铜合金制衬管及铜合金制衬管的制造方法技术

本发明专利技术的铜合金制衬管由以下组成的铜合金构成：含有Co：0.10质量％以上且0.30质量％以下、P：0.030质量％以上且0.10质量％以下、Sn：0.01质量％以上且0.50质量％以下、Ni：0.02质量％以上且0.10质量％以下及Zn：0.01质量％以上且0.10质量％以下，Co的含量与P的含量的质量比〔Co〕/〔P〕在3.0以上且6.0以下的范围内，且剩余部分为铜及不可避免的杂质，所述铜合金制衬管的导热率为250W/m·K以上，在250℃下保持1小时的条件下进行加热处理之后的显微维氏硬度为100Hv以上，并且从加热处理前的硬度的降低率为5％以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】铜合金制衬管及铜合金制衬管的制造方法
本专利技术涉及一种在圆筒型溅射靶中配置于靶材的内周侧的铜合金制衬管及该铜合金制衬管的制造方法。本申请主张基于2016年4月12日于日本申请的专利申请2016-079420号的优先权，并将其内容援用于此。
技术介绍
作为形成金属膜或氧化物膜等薄膜的方法，使用溅射靶的溅射法被广泛使用。一般而言，溅射靶具备与要形成的薄膜的组成对应地形成的靶材及保持该靶材的衬垫材料经由接合层接合而成的结构。作为构成介于靶材与衬垫材料之间的接合层的接合材料，例如可以举出In或者Sn-Pb合金等。作为上述溅射靶，例如提出了平板型溅射靶及圆筒型溅射靶。在平板型溅射靶中设为平板形状的靶材和平板状的衬垫材料(垫板)层叠而成的结构。并且，在圆筒型溅射靶中设为圆筒状衬垫材料(衬管)经由接合层而接合于圆筒形状的靶材的内周侧的结构。另外，为了应对针对大型基板的成膜，提出了将圆筒型靶的靶材的轴线方向长度设定为例如1000mm以上的较长的长度的内容。在平板型溅射靶中，靶材的使用效率低至20～30％左右，未能有效地成膜。相对于此，圆筒型溅射靶将其外周面作为溅射面，一边旋转靶一边实施溅射，从而与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜合金制衬管，其在圆筒型溅射靶中配置于呈圆筒形状的靶材的内周侧，所述铜合金制衬管的特征在于，由以下组成的铜合金构成：含有Co：0.10质量％以上且0.30质量％以下、P：0.030质量％以上且0.10质量％以下、Sn：0.01质量％以上且0.50质量％以下、Ni：0.02质量％以上且0.10质量％以下及Zn：0.01质量％以上且0.10质量％以下，Co的含量〔Co〕与P的含量〔P〕的质量比〔Co〕/〔P〕在3.0以上且6.0以下的范围内，剩余部分为铜及不可避免的杂质，所述铜合金制衬管的导热率为250W/m·K以上，在250℃下保持1小时的条件下进行加热处理之后的显微维氏硬度为100Hv...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.12 JP 2016-0794201.一种铜合金制衬管，其在圆筒型溅射靶中配置于呈圆筒形状的靶材的内周侧，所述铜合金制衬管的特征在于，由以下组成的铜合金构成：含有Co：0.10质量％以上且0.30质量％以下、P：0.030质量％以上且0.10质量％以下、Sn：0.01质量％以上且0.50质量％以下、Ni：0.02质量％以上且0.10质量％以下及Zn：0.01质量％以上且0.10质量％以下，Co的含量〔Co〕与P的含量〔P〕的质量比〔Co〕/〔P〕在3.0以上且6.0以下的范围内，剩余部分为铜及不可避免的杂质，所述铜合金制衬管的导热率为250W/m·K以上，在250℃下保持1小时的条件下进行加热处...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤慎司，除補正则，三岛昭史，大户路晓，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP