一种磁控溅射台制造技术

本实用新型专利技术公开一种磁控溅射台，包括真空工作台、靶材、靶体和顶板，所述靶体设在靶材上，所述靶体与靶材螺纹连接，所述顶板设在靶材外侧，所述顶板与真空工作台无缝连接，所述顶板下方设置有屏蔽罩，所述靶材内设置有转动轴，所述转动轴上设置有电动机，所述转动轴与电动机传动连接，所述转动轴底部设置有磁铁，所述靶体外侧设置有电极、进水管和出水管，所述电极与靶材电性连接，所述进水管与出水管连通，该磁控溅射台结构简单，安装方便，能够保持刻蚀均匀，靶材利用率高。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种磁控溅射台。
技术介绍
溅射工艺是以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击固体表面，使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击固体表面，使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。溅射用的轰击粒子通常是带正电荷的惰性气体离子，用得最多的是氩离子。氩电离后，氩离子在电场加速下获得动能轰击靶极。当氩离子能量低于5电子伏时，仅对靶极最外表层产生作用，主要使靶极表面原来吸附的杂质脱附。当氩离子能量达到靶极原子的结合能(约为靶极材料的升华热)时，引起靶极表面的原子迁移，产生表面损伤。轰击粒子的能量超过靶极材料升华热的四倍时，原子被推出晶格位置成为汽相逸出而产生溅射。对于大多数金属，溅射阈能约为10～25电子伏。溅射产额，即单位入射离子轰击靶极溅出原子的平均数，与入射离子的能量有关。在阈能附本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射台，其特征在于：包括真空工作台、靶材、靶体和顶板，所述靶体设在靶材上，所述靶体与靶材螺纹连接，所述顶板设在靶材外侧，所述顶板与真空工作台无缝连接，所述顶板下方设置有屏蔽罩，所述靶材内设置有转动轴，所述转动轴上设置有电动机，所述转动轴与电动机传动连接，所述转动轴底部设置有磁铁，所述靶体外侧设置有电极、进水管和出水管，所述电极与靶材电性连接，所述进水管与出水管连通。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射台，其特征在于：包括真空工作台、靶材、靶体
和顶板，所述靶体设在靶材上，所述靶体与靶材螺纹连接，所述顶板
设在靶材外侧，所述顶板与真空工作台无缝连接，所述顶板下方设置
有屏蔽罩，所述靶材内设置有转动轴，所述转动轴上设置有电动机，
所述转动轴与电动机传动连接，所述转动轴底部设置有磁铁，所述靶
体外侧设置有电极、进水管和出水管，所述电极与靶材电性连...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔚璇，陈娜，
申请(专利权)人：北京普拉斯马科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11