一种无机配向膜制备装置制造方法及图纸

技术编号:19310534 阅读:19 留言:0更新日期:2018-11-03 06:35
本实用新型专利技术公开了一种无机配向膜制备装置,所公开的无机配向膜装置包括:含有内部形成真空条件的真空腔;将稳定沉积了被溅射物的托盘引入真空腔内或引出真空腔外的移送部;以及位于真空腔内的将溅射粒子按事先设定的角度喷射到被溅射物的一个面的溅射部件。本实用新型专利技术因无机配向膜制备装置使用溅射装置而具有较高的溅镀率,可提高原始资源使用的效率,与电子束无机配向膜制备装置相比,可缩短原始资源和被溅镀物的间距,不用改变被溅镀物位置也能使被溅镀物水平移动,可形成厚度均匀的无机配向膜,从而容易形成大面积的无机配向膜。

【技术实现步骤摘要】
一种无机配向膜制备装置
本技术涉及一种无机配向膜制备装置,是一种包括按事先设定的角度将溅射粒子喷射至被溅镀物一个面的溅射部件的无机配向膜制备装置。
技术介绍
一般来说液晶显示装置的显示像素比其他平面显示装置更为突出,在实现动态画像时反应速度快,因此不仅是高画质的电视机,而且在手提电脑、显示屏、手机显示屏、电光板、汽车仪表盘等各种领域被运用并使用。为实现高画质的液晶显示装置,均匀而规则地初步排列液晶是十分重要的,液晶的初步排列由基板上形成的配向膜决定。作为配向方法而被广泛商业化的典型方法是摩擦法。摩擦法是将由高分子薄膜形成的配向膜用丝绒等摩擦布朝一定的方向揉擦而形成配向模式的方法。这种摩擦法因配向处理容易,故比较适合于批量生产,具有配向稳定的优点。但是,配向膜的配向是通过与摩擦布的摩擦形成的,故存在配向膜被灰尘污染的顾虑,还存在因发生静电而引起显示器件内晶体管损伤或大面积使用时难以均匀配向等问题。为了克服摩擦法的这一短处,提出了使用电子束蒸发机形成无机配向膜的方法。但基于蒸发机的特性,距原始资源较远的区域溅镀会比较薄,而距原始资源较近的区域溅镀会比较厚,所以为了使溅镀膜均匀地溅镀,在溅镀过程中需多次改变被溅镀物的位置。因此,使用大面积被溅镀物时,存在难以多次更改被溅镀物位置的问题。另外还有一个问题就是,蒸发机的结构带来加载和卸载的不便,很难适用于联机系统。技术的内容为解决上述问题,本技术旨在提供一种无机配向膜制备装置,通过调节溅射装置的溅射部件的倾斜角度,为构成预倾角而形成溅镀的无机配向膜,调节稳定沉积着被溅镀物的托盘的移动速度来调整经溅镀的无机配向膜的厚度。为达到上述目的,本技术提供一种无机配向膜制备装置,其特征在于包括内部形成真空条件的真空腔;将附着被溅镀物的托盘引入所述真空腔内部或往所述真空腔外部引出的移送部;以及位于所述真空腔内部的,将溅射粒子按照事先设定的角度喷射至被溅镀物的一个面的溅射部件。另外还包括调整所述溅射部件倾斜角度的角度调整部,用来调整所述溅射粒子的喷射角度。所述角度调整部包括位于所述溅射部件下侧的底座部;下端部连接于所述底座部的可旋转的,前表面支撑所述溅射部件后表面的支承部;设置于所述底座部的可以前进或后退的,前表面支撑所述支承部滑动的移动部;以及使所述移动部前进和后退的制动部。且所述溅射部件随着所述移动部的前进和后退,可凭借自重设定倾斜角度。所述移动部的前表面向下倾斜而成,所述支承部的上端部可具备能支撑在所述移动部的前表面滑动的辊轴。所述底座部形成可控制所述溅射部件的前倾角度的防倾斜棱。所述移送部可调节所述托盘的移动速度。所述移送部由沿水平方向以一定间距设置的多个辊轴组成。还可包括调节所述溅射部件高度的高度调节部,用来调节所述溅射部件和所述被溅镀物的间距。所述角度调整部可设置于所述高度调节部的上表面。所述托盘可包括形成于中央的开口;以及设置于所述开口的采用溅镀模式的溅镀罩。所述被溅镀物托盘可包括形成于中央的开口;以及设置于所述开口的采用溅镀模式的溅镀罩。具有上述结构的本技术的一个实施例,因无机配向膜制备装置使用溅射装置而具有较高的溅镀率,可提高原始资源使用的效率,与电子束无机配向膜制备装置相比,可缩短原始资源和被溅镀物的间距,不用改变被溅镀物位置也能使被溅镀物水平移动,可形成厚度均匀的无机配向膜,从而容易形成大面积的无机配向膜。附图说明图1是本技术的一个实施例中无机配向膜制备装置局部展开的大致的立体示意图。图2是图1所示无机配向膜制造装置的局部剖面示意图。图3是图1所示调节溅射部件前倾角度的角度调节部的局部剖面示意图。图4是本技术调节溅射部件高度的高度调节部的剖面示意图。图5a是设置于玻璃用托盘和托盘开口的采用溅镀模式的溅镀罩的平面示意图。图5b是设置于晶片用托盘和托盘开口的采用溅镀模式的溅镀罩的平面示意图。图6a是具有与玻璃用托盘中央形成的开口形状相对应形状的玻璃稳定沉积于托盘的状态的平面示意图。图6b是具有与晶片用托盘中央形成的开口形状相对应形状的晶片稳定沉积于托盘的状态的平面示意图。图7和图8是角度调节部调节溅射部件的前倾角度的过程演示图。图9是稳定沉积于托盘的被溅镀物借助移送部被移送时的溅镀过程的演示图。图10是图9中A区域的扩大图。图中示出:1:无机配向膜制备装置100:真空腔200:溅射部件400:角度调节部410:底座部420:支承部430:移动部440:制动部500:高度调节部510:上部金属板520:下部金属板530:转轴540:手柄部600:移送部610:多个辊轴700:托盘710:贯通开口720、730:溅镀罩721、731:溅镀孔实施技术的具体内容以下将参照附图对本技术的实施例进行详细说明。以下所说明的实施例只是为了帮助理解本技术而例举的示例,本技术也可对本文说明的实施例进行各种改变后加以实施。但,在本技术的说明中,考虑到对有关的公开功能或构成要素进行具体说明可能会毫无必要地使本技术的要旨变得模糊,因此将省略详细的说明和具体的图示。另外,为了帮助理解本技术,附图并未按照实际比例进行图示,部分构成要素的图示尺寸可能会有所夸大。本技术的一个实施例的无机配向膜制备装置1是可调节溅射部件200的倾斜角度,形成溅镀的无机配向膜以构成预倾角a,图10,通过调节稳定沉积着被溅镀物的托盘700的移动速度调整经溅镀的无机配向膜的厚度。以下将参照图1和图2对本说明的一个实施例的无机配向膜制备装置1的构成进行说明。图1是本技术的一个实施例的无机配向膜制备装置1局部展开的立体示意图,图2是图1所示无机配向膜制造装置1的局部剖面示意图。参照图1和图2,本技术的一个实施例的无机配向膜制备装置1可包括真空腔100、溅射部件200、角度调节部400、高度调节部500、移送部600以及稳定沉积着被溅镀物的托盘700。真空腔100形成被溅镀物溅镀的空间,可装载包括真空泵140和气体的气体容器。真空腔100为了提高溅射粒子的直行性,借助所装载的真空泵140减少内部压力,使内部压力减至约10-6torr以下。真空腔100可装载分别含有不同气体的多个气体容器,多个气体容器中设置了MFC质量流量控制辊:131,从多个气体容器引入真空腔100内部的气体的量可个别进行调节。例如,分别装满Ar和O2的气体容器132、133可与真空腔连接,真空腔100利用非反应性溅射法使溅镀物溅镀在被溅镀物上,从含有Ar的气体容器引入Ar,或利用反应性溅射法使溅镀物溅镀在被溅镀物660上,从分别含有Ar和O2的气体容器分别引入Ar和O2形成混合气体。另外,真空腔100,下文将要陈述的被溅镀物稳定沉积着的托盘700引入真空腔100内部,被溅镀物760上形成溅镀膜后往真空腔100外部引出,在相对的第1和第2侧壁151、152上可分别形成引入开口110和引出开口120。此时,真空腔100与使引入开口110和引出开口120分别保持和真空腔100内部压力相同压力的其他装置连接,可保持内部压力。溅射部件200在前表面210上设置靶材230,将溅射粒子按照被溅镀物760的一个面上事先设定的角度进行喷射,可倾斜设置于真空腔100内。溅射部件200接收电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无机配向膜制备装置,其特征在于,包括:内部形成真空条件的真空腔;将被溅镀物所附着的托盘引入所述真空腔内部或者向往所述真空腔外部引出的移送部;以及位于所述真空腔内部的,将溅射粒子按照事先设定的角度喷射至被溅镀物一个面的溅射部件。

【技术特征摘要】
1.一种无机配向膜制备装置,其特征在于,包括:内部形成真空条件的真空腔;将被溅镀物所附着的托盘引入所述真空腔内部或者向往所述真空腔外部引出的移送部;以及位于所述真空腔内部的,将溅射粒子按照事先设定的角度喷射至被溅镀物一个面的溅射部件。2.根据权利要求1所述的一种无机配向膜制备装置,其特征在于,还包括:调整所述溅射部件倾斜角度的角度调整部,用来调整所述溅射粒子的喷射角度。3.根据权利要求2所述的一种无机配向膜制备装置,其特征在于,所述角度调整部包括:设置于所述溅射部件下侧的底座部;下端部与所述底座部相连接的,可旋转,前表面可支撑所述溅射部件后面的支承部;设置在所述底座部上可前进或后退,前表面可支撑所述支承部滑动的移动部;以及使所述移动部前进和后退的制动部,且所述溅射部件随着所述移动部的前进和后退,可凭借自重设定倾斜角度。4.根据权利要求3所述的一种无机配向膜制备装置,其特征在于,所述移动部的前表面向下倾斜形成,所述支承部的上...

【专利技术属性】
技术研发人员:白雨成全义九李相文张昌泳丁钟国边娜恩
申请(专利权)人:株式会社SELCOS胜显上海商贸有限公司
类型:新型
国别省市:韩国,KR

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