【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制备多层体的方法以及多层体本专利技术涉及制备多层体的方法,所述多层体具有载体层片和在载体层片上和/或在载体层片中形成的单层或多层的装饰层片,本专利技术还涉及多层体、安全元件和安全文件。通常使用光学安全元件使得难以复制文件或产品,从而阻碍其滥用,特别是伪造。因此光学安全元件用于保护文件、钞票、信用卡和储蓄卡、证件、高价产品的包装等。在此已知的是,使用光学可变元件作为光学安全元件,其不能使用常规的复制方法进行复制。还已知的是,安全元件设置有以文字、标志或其它图案的形式形成的结构化的金属层。由例如通过溅射或气相沉积以平面方式施加的金属层产生结构化金属层需要多个过程,特别是当需要产生具有高防伪安全性的特别精细的结构时。因此例如已知的是,通过正蚀刻或负蚀刻或者通过激光切除使在整个表面上施加的金属层局部地脱金属化,因此结构化。替代性地还有可能的是,通过使用蒸镀掩膜已经以结构化的形式将金属层施加在载体上。制备安全元件所设置的制造步骤越多,相对于在安全元件上已经存在的特征或层或结构,单个方法步骤的对准精度或对齐精度(即在形成安全元件时单个工具相对于彼此的定位的精度)越重要。本专利技术的目的是提供特别难以复制的多层体和制备所述多层体的方法。通过制备多层体(特别是光学安全元件或光学装饰元件)的方法实现所述目的,在所述方法中:a)在载体层片上施加单层或多层的第一装饰层片;b)在第一装饰层片的背对载体层片的一侧上施加至少一个金属层;c)将至少一个金属层结构化,使得金属层在多层体的一个或多个第一区域中以第一层厚度设置,并且在多层体的一个或多个第二区域中以不同于第一层厚度的第二层厚度设 ...
【技术保护点】
制备多层体(100、200、300),特别是光学安全元件或光学装饰元件的方法,其中在所述方法中:a)在载体层片上施加单层或多层的第一装饰层片(3);b)在第一装饰层片(3)的背对载体层片的一侧上施加至少一个金属层(5);c)将至少一个金属层(5)结构化,使得金属层(5)在多层体(100、200、300)的一个或多个第一区域(8)中以第一层厚度设置,并且在多层体(100、200、300)的一个或多个第二区域(9)中以不同于第一层厚度的第二层厚度设置,其中特别地,第二层厚度等于零;d)在金属层(5)的背对第一装饰层片(3)的一侧上施加单层或多层的第二装饰层片(7);e)在多层体的第一范围内使用金属层(5)作为掩膜使第一装饰层片和/或第二装饰层片(7)结构化,从而在第一区域(8)或第二区域(9)中至少局部地除去第一装饰层片(3)或第二装饰层片(7)。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.06.28 DE 102013106827.81.制备多层体(100、200、300)的方法,其中在所述方法中:a)在载体层片上施加单层或多层的第一装饰层片(3);b)在第一装饰层片(3)的背对载体层片的一侧上施加至少一个金属层(5);c)将至少一个金属层(5)结构化,使得金属层(5)在多层体(100、200、300)的一个或多个第一区域(8)中以第一层厚度设置,并且在多层体(100、200、300)的一个或多个第二区域(9)中以不同于第一层厚度的第二层厚度设置;d)在金属层(5)的背对第一装饰层片(3)的一侧上施加单层或多层的第二装饰层片(7);e)在多层体的第一范围内使用金属层(5)作为掩膜使第一装饰层片或第二装饰层片(7)结构化,从而在第一区域(8)或第二区域(9)中至少局部地除去第一装饰层片(3)或第二装饰层片(7)。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在第一范围内使用金属层(5)作为掩膜使第一装饰层片(3)和第二装饰层片(7)结构化,从而分别在第一区域(8)或第二区域(9)中至少局部地除去第一装饰层片(3)和第二装饰层片(7),或者使用第一装饰层片(3)或第二装饰层片(7)作为掩膜使金属层(5)结构化。3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在步骤c)中在金属层(5)的背对第一装饰层片(3)的一侧上施加通过电磁辐射活化的第一抗蚀剂层(6),并且使用照射掩膜通过所述电磁辐射照射第一抗蚀剂层(6)。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,第二装饰层片(7)包括一个或多个通过电磁辐射活化的经着色的第二抗蚀剂层,并且在步骤e)中通过所述电磁辐射从载体层片的一侧照射一个或多个经着色的第二抗蚀剂层,其中金属层(5)充当照射掩膜。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,一个或多个经着色的第二抗蚀剂层包括至少两种不同着色剂或具有不同浓度着色剂的抗蚀剂层。6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征在于,一个或多个经着色的第二抗蚀剂层的一者或多者分别通过印刷方法以图案形式施加。7.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在步骤c)中从载体层片的一侧照射第一抗蚀剂层(6),其中通过第一装饰层片(3)形成用于照射第一抗蚀剂层(6)的掩膜,其中当垂直于载体层片的平面观察时,第一装饰层片(3)在第一范围内在一个或多个第一区域(8)中具有第一透射率,并且在一个或多个第二区域(9)中具有相比于第一透射率更大的第二透射率,其中所述透射率涉及波长适合于第一抗蚀剂层(6)的光活化的电磁辐射。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,第一装饰层片(3)包括一个或多个第一漆层,所述第一漆层在第一范围内在一个或多个第一区域(8)中以第一层厚度设置,并且在一个或多个第二区域(9)中以零层厚度或以相比于第一层厚度更小的第二层厚度设置,使得第一装饰层片(3)在第一范围内在一个或多个第一区域(8)中具有所述第一透射率,并且在一个或多个第二区域(9)中具有所述第二透射率。9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,一个或多个第一漆层通过印刷方法以图案形式施加。10.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于,所述一个或多个第一漆层分别包含紫外线吸收剂或着色剂。11.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于,选择第一装饰层片(3)的层厚度和材料,使得第一透射率大于零,或选择第一装饰层片(3)的厚度和材料,使得第二透射率与第一透射率之间的比例大于2。12.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在金属层(5)的未设置第一抗蚀剂层(6)的局部范围上局部地施加抗蚀刻层。13.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,选择第一装饰层片(3)的厚度和材料,使得电磁辐射在第一范围内在一个或多个第一区域(8)中具有0%至30%的透射率,并且在一个或多个第二区域(9)中具有60%至100%的透射率,所述电磁辐射在穿过由载体层片和第一装饰层片(3)组成的叠层之后测量。14.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在步骤c)中从背对载体层片的一侧照射第一抗蚀剂层(6),其中在第一抗蚀剂层(6)和用于照射的光源之间设置掩膜(13)从而照射第一抗蚀剂层(6),其中当垂直于载体层片的平面观察时,掩膜在第一范围内在一个或多个第一区域(8)中具有第一透射率,并且在一个或多个第二区域(9)中具有相比于第一透射率更大的第二透射率,其中所述透射率涉及波长适合于第一抗蚀剂层(6)的光活化的电磁辐射。15.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,使用正型光致抗蚀剂或负型光致抗蚀剂从而形成第一抗蚀剂层(6)或第二抗蚀剂层,所述正型光致抗蚀剂的溶解度在活化时由于照射而增大,所述负型光致抗蚀剂的溶解度在活化时由于照射而减小,和在使用正型光致抗蚀剂时,在第一范围内在一个或多个第二区域(9)中除去第一抗蚀剂层或第二抗蚀剂层,或者在使用负型光致抗蚀剂时,在第一范围内在一个或多个第一区域(8)中除去第一抗蚀剂层或第二抗蚀剂层。16.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,使用紫外线辐射,照射第一抗蚀剂层或第二抗蚀剂层。17.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,步骤c)在步骤d)之后进行,并且在步骤c)中使用第二装饰层片(7)作为掩膜,并且在步骤e)中使用金属层(5)作为掩膜。18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,步骤c)在步骤d)之后进行,并且在步骤c)中使用第二装饰层片(7)作为掩膜,通过施加蚀刻剂并且除去金属层(5)的未被掩膜保护的范围从而使金属层(5)结构化。19.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,在步骤e)中使用金属层(5)作为掩膜,通过施加溶剂并且除去第一装饰层片(3)的未被掩膜保护的范围从而使第一装饰层片(3)结构化。20.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,第二装饰层片(7)通过印刷以图案形式施加,其中第二装饰层片(7)在第一区域(8)中以第三层厚度设置,并且在第二区域(9)中以不同于第三层厚度的第四层厚度设置。21.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,第二装饰层片(7)相对于为了使金属层(5)结构化而使用的蚀刻剂以及相对于为了使第一装饰层片(3)结构化而使用的溶剂具有抗蚀性。22.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,第二装饰层片(7)包括一个或多个彩色的层。23.根据权利要求19所述的方法,其特征在于,通过溶剂除去第一抗蚀剂层(6)或第一装饰层片(3)的未被金属层(5)保护的范围。24.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,在步骤c)中通过蚀刻剂除去金属层(5)的未被第一抗蚀剂层(6)或第二装饰层片(7)保护的区域(8)。25.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:L·布雷姆,T·曼斯菲尔德,J·阿特纳,T·沙勒,
申请(专利权)人:雷恩哈德库兹基金两合公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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