硅片二次缺陷检测液及检测方法技术

本发明专利技术涉及一种硅片二次缺陷检测液及检测方法，所述检测液的组成包括硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液，所述硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液的体积比为4-7：4-7：2-4：2-4，所述硝酸铜溶液的质量分数为2～6％，氢氟酸溶液的质量分数为40～55％，三氧化铬溶液的质量分数为30～40％，硝酸溶液的质量分数为65～70％。所述检测方法包括：(1)用酸去除硅片的钝化层；(2)擦除硅片表面的残留物；(3)用制备的硅片二次缺陷检测液对硅片进行腐蚀处理；(4)对硅片表面进行清洗烘干并观察。本发明专利技术的检测液保存时间长，检测方法简单，检测效率高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅片二次缺陷检测液，其组成包括硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液，所述硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液的体积比为4‑7：4‑7：2‑4：2‑4，所述硝酸铜溶液的质量分数为2～6％，氢氟酸溶液的质量分数为40～55％，三氧化铬溶液的质量分数为30～40％，硝酸溶液的质量分数为65～70％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宋耀德，
申请(专利权)人：苏州同冠微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32