一种电镀盲孔的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种电镀盲孔的方法，包括：提供一电路板，电路板上设有电镀有金属层的盲孔；提供一菲林，菲林上设有用于对盲孔开窗的开窗部，开窗部的面积小于盲孔的横截面积；在电路板的表面设置干膜；使用菲林，对干膜进行曝光显影，以裸露出盲孔，以及使得曝光显影后的干膜遮蔽盲孔的孔口边缘处；在对干膜进行曝光显影之后，对盲孔进行电镀。本发明专利技术还提供了相应的装置。本发明专利技术方法即加厚了盲孔的底部铜层，又防止了盲孔的孔口边缘处被加厚，避免封口现象的出现，提高了电路板的良率。

【技术实现步骤摘要】
一种电镀盲孔的方法及装置
本专利技术涉及电路板的制作方法及装置，尤其是涉及一种电镀盲孔的方法及装置。
技术介绍
目前，在制作带有盲孔的电路板过程中，一般先使用VCP电镀(VerticalContinuousPlating，垂直连续电镀)盲孔，再进行线路图形电镀，以获得所要制备的电路板。然而，如图1所示，由于电镀工艺受线路图形分布及电流分布的影响，电镀后的盲孔有时会出现盲孔底部铜层101的铜厚不够，盲孔口边缘处铜层102沉积太厚，甚至出现盲孔封口现象，这将导致表面涂覆等后续工序无法进行。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种电镀盲孔的方法及装置。在本专利技术方法中，由于菲林的开窗部的面积小于盲孔的横截面积，使得在曝光显影后，干膜能够垂流至盲孔的孔口边缘处，遮盖住孔口边缘，从而防止在对盲孔进行电镀时，盲孔的孔口边缘处的铜层进一步被加厚，避免出现封口现象。另外，在对盲孔进行电镀时，遮盖住孔口边缘的边缘的干膜不影响盲孔的底部铜层得到加厚。一种电镀盲孔的方法，包括：提供一电路板，所述电路板上设有电镀有金属层的盲孔；提供一菲林，所述菲林上设有用于对所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积；在所述电路板的表面设置干膜；使用所述菲林，对所述干膜进行曝光显影，以裸露出所述盲孔，以及使得曝光显影后的干膜遮蔽所述盲孔的孔口边缘处；在对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。可选的，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积包括：所述开窗部呈圆形，所述开窗部的直径较所述盲孔的孔径小1～3微米。可选的，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积包括：所述开窗部的直径较所述盲孔的孔径小2微米。可选的，对所述盲孔进行电镀具体为：对所述盲孔进行垂直连续电镀。可选的，对所述盲孔进行垂直连续电镀具体为：对所述盲孔进行垂直连续电镀，使得所述盲孔的金属层加厚5～8微米。一种电镀盲孔的装置，包括：设置单元，用于在电路板的表面设置干膜；曝光显影单元，用于使用菲林，对所述干膜进行曝光显影，以裸露出所述电路板的盲孔，以及使得曝光显影后的干膜遮蔽所述盲孔的孔口边缘处，所述菲林设有用于对所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积；电镀单元，用于在所述曝光显影单元对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。可选的，所述开窗部的直径较所述盲孔的孔径小1～3微米。可选的，所述开窗部的直径较所述盲孔的孔径小2微米。可选的，所述电镀单元用于在所述曝光显影单元对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行垂直连续电镀。可选的，所述电镀单元用于在所述曝光显影单元对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行垂直连续电镀，使得所述盲孔的金属层加厚5～8微米。本专利技术方法即加厚了盲孔的底部铜层，又防止了盲孔的孔口边缘处被加厚，避免封口现象的出现，提高了电路板的良率。附图说明图1是现有的电路板制造方法制备的盲孔结构示意图；图2是本专利技术实施例的一种电镀盲孔的方法流程示意图；图3a是本专利技术实施例实施步骤201后的电路板结构示意图；图3b是本专利技术实施例实施步骤202后的电路板结构示意图；图3c是本专利技术实施例实施步骤203后的电路板结构示意图；图3d是本专利技术实施例实施步骤204后的电路板结构示意图；图4是本专利技术实施例一种电镀盲孔的装置结构框图。具体实施方式以下列举实施例，并结合附图对本专利技术进行详细说明。如图2所示，一种电镀盲孔的方法，包括：201、如图3a所示，提供一电路板及菲林(图3a未示出)，所述电路板上设有电镀有金属层301的盲孔302，所述菲林上设有用于对所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积。在实施本实施例之前，根据需要进行二次加厚电镀的盲孔，在菲林上形成用于对该盲孔开窗的图案，即形成用于对该盲孔开窗的开窗部。其中，菲林上用于对该盲孔开窗的开窗部的面积小于该盲孔的横截面积，以使在利用该菲林，对干膜进行曝光显影后，干膜能够留有用于遮蔽盲孔的孔口边缘处的干膜边缘部。202、如图3b所示，在所述电路板的表面设置干膜303。203、如图3c所示，使用所述菲林，对所述干膜303进行曝光显影，以裸露出所述盲孔，以及使得曝光显影后的所述干膜303遮蔽所述盲孔的孔口边缘处304。204、在对所述干膜303进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。由于所述干膜303遮蔽所述盲孔的孔口边缘处304，使得对所述盲孔的电镀不会在孔口边缘处304进一步沉积铜层，从而避免出现盲孔的封口现象。如图3d所示，在对所述盲孔进行电镀之后，所述盲孔的底部铜层305得到加厚。为了更好的解决本专利技术技术问题，本实施例还可以采取以下进一步技术措施。所述开窗部为圆形，所述开窗部的直径小于所述盲孔的孔径1～3微米。优选的，所述开窗部的直径小于所述盲孔的孔径2微米。可选的，对所述盲孔进行电镀具体为：对所述盲孔进行垂直连续电镀。可选的，对所述盲孔进行垂直连续电镀具体为：对所述盲孔进行垂直连续电镀，使得所述盲孔的金属层加厚5～8微米。在所述对盲孔进行电镀之后，去除干膜，并制作电路板的外层线路图形。本专利技术不仅提供了一种电镀盲孔的方法，还提供了一种电镀盲孔的装置，如图4所示，该装置包括：设置单元401，用于在电路板的表面设置干膜；曝光显影单元402，用于使用菲林，对所述干膜进行曝光显影，以裸露出所述电路板的盲孔，以及使得曝光显影后的干膜遮蔽所述盲孔的孔口边缘处，所述菲林上设有用于所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积；电镀单元403，用于在所述曝光显影单元402对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。所述设置单元401将干膜设置于所述电路板的表面；所述曝光单元在设置单元401设置干膜之后，使用菲林，对所述干膜进行曝光显影，以裸露出所述电路板的盲孔，以及使得曝光显影后的干膜遮蔽所述盲孔的孔口边缘处，所述菲林上设有用于对所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积；电镀单元403在所述曝光显影单元402对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。可选的，所述开窗部为圆形，所述开窗部的直径小于所述盲孔的孔径1～3微米。优选的，所述开窗部的直径小于所述盲孔的孔径2微米。可选的，所述电镀单元403用于在所述曝光显影单元402对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行垂直连续电镀。可选的，所述电镀单元403用于在所述曝光显影单元402对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行垂直连续电镀，使得所述盲孔的金属层加厚5～8微米。以上对本专利技术实施例所提供的一种电镀盲孔的方法及装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本专利技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本专利技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本专利技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本专利技术的限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电镀盲孔的方法，其特征在于，包括：提供一电路板，所述电路板上设有电镀有金属层的盲孔；提供一菲林，所述菲林上设有用于对所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积；在所述电路板的表面设置干膜；使用所述菲林，对所述干膜进行曝光显影，以裸露出所述盲孔，以及使得曝光显影后的干膜遮蔽所述盲孔的孔口边缘处；在对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。

【技术特征摘要】
1.一种电镀盲孔的方法，其特征在于，包括：提供一电路板，所述电路板上设有电镀有金属层的盲孔；提供一菲林，所述菲林上设有用于对所述盲孔开窗的开窗部，所述开窗部的面积小于所述盲孔的横截面积；在所述电路板的表面设置干膜；使用所述菲林，对所述干膜进行曝光显影，以裸露出所述盲孔，以使得曝光显影后的干膜遮蔽所述盲孔的孔口侧壁边缘处；在对所述干膜进行曝光显影之后，对所述盲孔进行电镀。2.根据权利要求1所述的电镀盲孔的方法，其特征在于，所述开窗部呈圆形，所述开窗部的直径较所述盲孔的孔径小1～3微米。3.根据权利要求2所述的电镀盲孔的方法，其特征在于，所述开窗部的直径较所述盲孔的孔径小2微米。4.根据权利要求1至3任一项所述的电镀盲孔的方法，其特征在于，对所述盲孔进行电镀具体为：对所述盲孔进行垂直连续电镀。5.根据权利要求4所述的电镀盲孔的方法，其特征在于，对所述盲孔进行垂直连续电镀具体为：对所述盲孔进行垂直连续电镀，使得所述盲孔的金属层加厚5～8微米。6.一种电镀盲孔的装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄蕾，沙雷，
申请(专利权)人：深南电路有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44